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- [发明专利]一种二维光栅加工方法及加工系统-CN202310095066.2在审
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杜亮;朱耀明
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深圳惠牛科技有限公司
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2023-01-17
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2023-05-02
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G02B5/18
- 本发明公开了涉及增强现实技术领域,一种二维光栅加工方法,包括步骤:提供光学基片,光学基片包括基底和设置在基底上光敏材料层;曝光光学基片,激光光源经分光单元分出一束物光、若干束第一参考光和若干束第二参考光,物光自光学基片的底部穿透基底射向光敏材料层,第一参考光自光学基片顶部射向光敏材料层,第一参考光自光学基片顶部射向光敏材料层;其中,第一参考光和第二参考光相交叉,且第一参考光和第二参考光分别与物光相干涉以实现曝光本发明还公开了一种二维光栅加工系统,本发明的二维光栅加工方法及加工系统,适度降低光路搭建难度的同时能降低曝光参数误差,有利于提升二维光栅的加工效率。
- 一种二维光栅加工方法系统
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