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[发明专利]定量液体供给装置-CN202110270235.2在审
发明人：立石圭一郎 -专利权人：欧姆龙株式会社
申请日： 2021-03-12 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： G05D9/02 文献下载
摘要：本发明提供一种定量液体供给装置，其无流量变动，该定量液体供给装置(电解液供给装置20)具有供给室(22)和排出室(23)，该供给室(22)经由液体流入口(211)流入从外部流入的液体(电解液)，且在底部具有液体供给口(221)，该排出室(23)以俯视与供给室(22)邻接的方式配置，在底部具有液体排出口(231)。在供给室(22)和排出室(23)之间设置有第二隔壁(25)，并且，供给室(22)及排出室(23)的上部通过空间连通。如果流入到供给室(22)的液体的流量为规定流量以上，则供给室(22)的液面到达第二隔壁(25)的高度，过剩的液体越过第二隔壁(25)向排出室(23)侧溢出。
定量液体供给装置

[实用新型]雾化喷嘴及雾化装置-CN202320080714.2有效
发明人：朱伟海;成飞;康卫东 -专利权人：深圳市三源医药包装用品有限公司
申请日： 2023-01-13 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： B05B1/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种雾化喷嘴及雾化装置，雾化喷嘴包括：喷嘴本体，喷嘴本体内设有涡流室和供给室，沿着出流方向供给室和涡流室依次连接相通，涡流室的端部设有喷孔，涡流室沿着出流方向逐渐变窄，喷嘴本体的内壁上设有多个供给槽，供给槽沿着出流方向延伸至相切地进入供给室，供给槽的槽宽沿着出流方向逐渐减小。本实用新型提出的雾化喷嘴中的供给槽的宽度沿着出流方向逐渐减小，使液体在供给槽中的流动速度逐渐增大。同时，增设了供给室且供给槽相切地进入供给室，因而从供给槽中高速流出的液体能沿着供给室的内表面贴合旋转，然后均匀地往涡流室推进，使涡流室中的液体分布均匀、提高雾化效果。
雾化喷嘴装置

[发明专利]构建材料装载-CN201980097822.7在审
发明人： J·迪奥斯达多波利哥;D·尚克隆费尔南德斯;P·A·穆西戈罗德里格斯;A·苏诺希门尼斯 -专利权人：惠普发展公司，有限责任合伙企业
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： B29C64/321 文献下载
摘要：根据一个方面，提供了一种用于将粉末装载到粉末供给腔室中的装置。所述装置包括向供给腔室供给粉末的粉末供给模块、一组粉末压实元件和控制器。所述控制器用于：控制粉末供给模块向供给腔室供给粉末；控制压实构件来分布和压实所供给的粉末；以及控制供给平台的高度以及到供给腔室的粉末流，从而向供给腔室装载粉末。
构建材料装载

[发明专利]流体喷出装置及流体喷出装置组-CN200910171242.6有效
发明人：横山诚一;关和友 -专利权人：株式会社御牧工程
申请日： 2006-11-08 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：本发明提供一种流体喷出装置及流体喷出装置组，该流体喷出装置能简单地使连通流体供给室与压力室的、供给流路内的流体阻力变化。在流体喷出装置中，设有喷出流体的喷嘴孔(1)、由与喷嘴孔(1)连通的空间构成的压力室(2)、被从流体供给源供给流体的流体供给室(4)、将流体供给室(4)与压力室(2)连通的供给流路(3)。在流体供给室(4)的内部设有使供给流路(3)内的流体阻力变化的阻力可变机构(10)、(20)、(30)、(40)。
流体喷出装置

[发明专利]流体喷出装置及流体喷出装置组-CN200910171243.0有效
发明人：横山诚一;关和友 -专利权人：株式会社御牧工程
申请日： 2006-11-08 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：本发明提供一种流体喷出装置及流体喷出装置组，该流体喷出装置能简单地使连通流体供给室与压力室的、供给流路内的流体阻力变化。在流体喷出装置中，设有喷出流体的喷嘴孔(1)、由与喷嘴孔(1)连通的空间构成的压力室(2)、被从流体供给源供给流体的流体供给室(4)、将流体供给室(4)与压力室(2)连通的供给流路(3)。在流体供给室(4)的内部设有使供给流路(3)内的流体阻力变化的阻力可变机构(10)、(20)、(30)、(40)。
流体喷出装置

[发明专利]流体喷出装置及流体喷出装置组-CN200610138247.5有效
发明人：横山诚一;关和友 -专利权人：株式会社御牧工程
申请日： 2006-11-08 - 公布日： 2007-12-05 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：本发明提供一种流体喷出装置及流体喷出装置组，该流体喷出装置能简单地使连通流体供给室与压力室的、供给流路内的流体阻力变化。在流体喷出装置(U)中，设有喷出流体的喷嘴孔(1)、由与喷嘴孔(1)连通的空间构成的压力室(2)、被从流体供给源供给流体的流体供给室(4)、将流体供给室(4)与压力室(2)连通的供给流路(3)。在流体供给室(4)的内部设有使供给流路(3)内的流体阻力变化的阻力可变机构(10)、(20)、(30)、(40)。
流体喷出装置

[发明专利]燃气发动机的副室气体供给装置-CN201280057286.6有效
发明人：寺门贵芳;古川雄太;吉栖博史 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2012-11-19 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： F02B19/12 文献下载
摘要：本发明提供燃气发动机的副室气体供给装置，具有向副室(4)供给燃料气体的副室气体供给路径(5、14、28、29)，该副室气体供给路径经由电磁阀(23)与燃料气体供给源(24)连接，所述电磁阀被开放时，与电磁阀的开放时间相应的量的燃料气体从所述燃料气体供给源通过副室气体供给路径被供给到副室，其中，电磁阀(23)以向副室(4)供给规定量的燃料气体的方式设定其开放时间，在副室气体供给路径(5、14、28、29)上，形成有使电磁阀(23)的开放时间延长的节流部(30)。
燃气发动机气体供给装置

[发明专利]制造显示装置的设备-CN201610011946.7有效
发明人：车裕敏;尹相皓;朱星中 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2016-01-08 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：公开了一种用于制造显示装置的设备，所述设备包括：装载室，构造成从外部接收基板；传送室，连接到装载室并且包括构造成输送基板的机械手臂；沉积室，连接到传送室并且构造成在基板从传送室输送到沉积室之后将沉积材料沉积到基板上；掩模供给室，连接到沉积室并构造成向沉积室供给堆叠在掩模供给室中的多个掩模中的一个；以及站，连接到掩模供给室并且构造成向掩模供给室逐个地供给所述多个掩模。
制造显示装置设备

[发明专利]用于进行高度模拟的试验台-CN201010145138.2有效
发明人：彼得·施托梅尔;扬·威德肖夫恩 -专利权人：德国FEV发动机技术有限公司
申请日： 2010-03-31 - 公布日： 2010-10-13 - 主分类号： G01M15/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于对待测件(11)、尤其是对内燃机(11)进行高度模拟的试验台(1)，其具有：供给室(20)，在其中设置有供给设备(21)；与供给室(20)在结构上分开的测试室(10)，用于容纳待测件(11)，其中测试室(10)与供给室(20)以流体连接并可实现对用于待测试的待测件(11)的条件的条件处理。根据本发明提出，供给设备(21)具有第一供给单元(22)和第二供给单元(23)，设置至少用于对温度条件进行条件处理的第一供给单元(22)处于供给室(20)中，设置用于对压力条件进行条件处理的第二供给单元(23)与第一供给单元(22)分开并具有鼓风件(24)，其这样提供一个期望的压力，即在供给室和测试室中的压力基本一样大。
用于进行高度模拟试验台

[发明专利]在制芯机中的芯沙填充设备和芯沙填充方法-CN201280019761.0无效
发明人：加藤繁佳 -专利权人：新东工业株式会社
申请日： 2012-04-04 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： B22C15/08 文献下载
摘要：一种在下部吹送式制芯机中的芯沙填充设备，该设备包括：芯盒；吹送头，吹送头设置在芯盒下方从而能够相对于芯盒升高和降低，并且吹送头分隔成彼此连通的吹沙室和储沙室；压缩空气供给部，压缩空气供给部与吹沙室连通，并且用于将压缩空气供给到吹沙室；松料空气供给部，松料空气供给部与吹沙室连通，并且用于将松料空气供给到吹沙室；排出部，排出部与吹沙室连通，并且用于将残留在吹沙室内的压缩空气排出；以及给沙空气供给部，给沙空气供给部与储沙室连通，并且用于将压缩空气供给到储沙室中。
制芯机中的填充设备方法

[发明专利]基板处理装置、半导体器件的制造方法以及记录介质-CN201911108953.9有效
发明人：中田高行;谷山智志;白子贤治 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2017-01-24 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明提供一种使基板处理装置小型化的基板处理装置、半导体器件的制造方法以及记录介质，该基板处理装置具备：移载室，其将基板移载到基板保持件上；上部气体供给机构，其从第1气体供给口向移载室的上部区域供给气体；和下部气体供给机构，其设置在上部气体供给机构的下方，并从第2气体供给口向移载室的下部区域供给气体，上部气体供给机构具有：第1缓冲室，其形成在第1气体供给口的背面；上部管道，其与第1缓冲室相邻地形成；和第1供给部，其设置在上部管道的下端，下部气体供给机构具有：第2缓冲室，其形成在第2气体供给口的背面；下部管道，其与第2缓冲室相邻地形成；和第2供给部，其设置在下部管道的下端。
处理装置半导体器件制造方法以及记录介质

[发明专利]衬底处理装置及半导体器件的制造方法-CN201510618477.0有效
发明人：广地志有 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2015-09-24 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提高具有多个处理室的处理装置的生产率的衬底处理装置及半导体器件的制造方法。包括：能够处理衬底的多个处理室；能够向多个处理室分别供给处理气体的处理气体供给部；能够向多个处理室分别供给吹扫气体的吹扫气体供给部；能够对多个处理室的任一方或全部进行排气的排气部；和控制部，以如下方式控制处理气体供给部、吹扫气体供给部和排气部，即，在向多个处理室中的一个处理室输送衬底、不向该一个处理室以外的至少一个其他处理室输送衬底时，与向一个处理室供给所述处理气体并行地，向其他处理室供给吹扫气体，并对一个处理室和其他处理室进行排气
衬底处理装置半导体器件制造方法

[发明专利]燃料供给装置-CN201910304800.5在审
发明人：青代时彦;保田昌嗣;石井久晴 -专利权人：泰凯气化器株式会社
申请日： 2019-04-16 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： F02M37/12 文献下载
摘要：本发明提供一种燃料供给装置，对于该燃料供给装置而言，能够任意地选定燃料供给部的设置位置而能够将来自发动机等的热的影响抑制得较低。燃料供给装置(1)包括用于将液体燃料从燃料箱(4)向被燃料供给部(5)供给的燃料供给部(2)和脉动产生部(17)，其中，燃料供给部(2)具有泵室(13)、工作室(12)以及设于该泵室(13)和工作室(12)彼此间的隔膜(14)，并使泵室(13)与燃料箱(4)及被燃料供给部(5)连通，脉动产生部(17)具有与工作室(12)连通的变动室(18)，通过使变动室(18)内的体积随着发动机的旋转而变动，从而产生脉动，利用产生的该脉动使隔膜(14)振动，将液体燃料从燃料箱(4)向被燃料供给部(5)供给。
燃料供给部燃料供给装置脉动燃料箱泵室工作室液体燃料隔膜连通设置位置发动机

[发明专利]湿空气制备装置、湿空气制备方法以及光刻装置-CN201810731625.3在审
发明人：赵丹平;杨志斌;罗晋 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-07-05 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：此湿空气制备装置包括：水供给单元、空气供给单元、电场供给单元和雾化腔室单元；其中，水供给单元、空气供给单元以及电场供给单元分别与雾化腔室单元连接；水供给单元用于向雾化腔室单元供给水；电场供给单元用于向雾化腔室单元供电，使雾化腔室单元中形成电场，使水电离雾化；空气供给单元用于向雾化腔室单元中供给压缩空气，压缩空气与雾化后的水在雾化腔室单元中混合，共同形成湿空气；雾化腔室单元包括出气口，出气口用于将形成的湿空气输出，输出的湿空气用于浸没式光刻装置
雾化腔室湿空气电场空气供给单元水供给单元供给单元光刻装置压缩空气制备装置出气口雾化制备浸没式光刻装置位置测量单元抗干扰性能单元连接输出供给水浸没液水电离蒸发洁净供电

[发明专利]衬底处理装置以及半导体装置的制造方法-CN201410092298.3有效
发明人：野内英博;芦原洋司;佐野敦;高崎唯史 -专利权人：株式会社日立国际电气
申请日： 2014-03-13 - 公布日： 2018-03-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种衬底处理装置及半导体装置的制造方法，该衬底处理装置具有对衬底进行处理的处理室；设在处理室的上方，具有对处理室均匀地供给气体的分散板的缓冲室；设在缓冲室的作为顶棚部构造而构成的顶板上，对于气体供给方向在上游侧连接有处理气体供给部的处理气体供给孔；设在顶板上，对于气体供给方向在上游侧连接有惰性气体供给部的惰性气体供给孔；周状的基端部，以处理气体供给孔位于内周侧而惰性气体供给孔位于外周侧的方式与顶板的下游侧的面连接；气体引导件，具有基端部，并配置于分散板的上方；处理室排气部，将处理室的环境气体排气，并设在处理室的下方；至少对处理气体供给部、惰性气体供给部、处理室排气部进行控制的控制部。
衬底处理装置以及半导体制造方法

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