专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]SFMEA与SFTA逆向综合分析辅助方法-CN201410193908.9有效
  • 张虹;赵金富;徐莉莉 - 北京航空航天大学
  • 2014-05-08 - 2014-08-06 - G06F11/36
  • 本方法的内容主要包括了功能结构、数据流图、控制流程图对故障树的辅助构建和对SFMEA的辅助,其中对故障树构建的辅助是本发明的重点内容。获取功能结构、数据流图和控制流程图,确定顶事件,分别或者综合利用功能结构、数据流图和控制流程图辅助构建故障树,利用功能结构和数据流图辅助SFMEA。本方法通过利用功能结构、数据流图和控制流程图对SFMEA和SFTA逆向综合分析的辅助,能够有效地降低分析难度、理清分析脉络、使得分析更加充分。
  • sfmeasfta逆向综合分析辅助方法
  • [发明专利]一种在透光衬底上制备微纳米结构案的方法-CN201711467340.5有效
  • 李若松;黄翀 - 长沙新材料产业研究院有限公司
  • 2017-12-29 - 2021-03-02 - H01L21/027
  • 本发明涉及一种在透光衬底上制备微纳米结构案的方法,先以遮光基材为原料,在透光的衬底材料的一表面上制备遮光基材层,在该遮光基材层上制备凹凸微纳米结构案;在凹凸微纳米结构案的凹槽中填充掩膜材料;再使用高能光束透过透光衬底,使凹槽中填充的掩膜材料固化,形成掩膜层;对遮光基材和衬底材料进行刻蚀;去除掩膜层,在衬底材料上获得微纳米结构案。本发明的制作方法成本低,不需要使用蒸镀等高耗能方法制备掩膜层;可以简单、低能耗、高效率地制备厚度较大的掩膜层,大大降低高深宽比微纳米结构案制备的困难度。
  • 一种透光衬底制备纳米结构图案方法
  • [发明专利]文本分类方法、装置、终端设备及存储介质-CN202011586743.3有效
  • 马龙;梁宸;周元笙;蒋佳惟;陈思姣;李炫 - 平安科技(深圳)有限公司
  • 2020-12-28 - 2022-05-24 - G06F16/35
  • 本申请适用于人工智能技术领域,提供了一种文本分类方法、装置、终端设备及存储介质,方法包括:获取由多个待分类文本生成的文本节点结构;提取每个待分类文本的文本特征,并根据文本特征分别计算两两文本节点之间的相似距离;根据相似距离,对文本节点结构中的节点线进行过滤,得到包含每个文本节点和剩余节点线的目标文本节点结构;基于社区发现算法和剩余节点线,对目标文本节点结构中的待分类文本进行分类,得到多个待分类文本的目标分组采用上述方法对由待分类文本生成的文本节点结构先进行初步过滤后,再次对其进行分组得到目标分组,可提高对多个待分类文本进行分类的准确性。
  • 文本分类方法装置终端设备存储介质
  • [发明专利]一种应用运行分析方法、计算设备及存储介质-CN202211352997.8有效
  • 黄林 - 统信软件技术有限公司
  • 2022-11-01 - 2023-01-24 - G06F11/36
  • 本发明涉及操作系统领域,特别涉及一种应用运行分析方法、计算设备及存储介质,方法包括:在第一架构应用中插入第一桩代码;基于第一桩代码运行所述第一架构应用,生成第一结构;通过模拟器将第二架构应用的可执行文件包括的第二架构指令翻译为第一架构指令;根据第一架构指令,设置第二桩代码;基于第二桩代码,通过模拟器运行第二架构应用,生成第二结构;根据第一结构和第二结构确定运行差异信息。本发明通过结构能够确定应用两种运行方式的差异,从而实现对运行过程的差异进行比较,以便根据差异信息确定出现问题的位置。
  • 一种应用运行分析方法计算设备存储介质
  • [发明专利]线圈结构案的外化-CN200580021254.0无效
  • 约翰·P·麦金纳尼;凯文·J·怀特福特 - ABB技术有限公司
  • 2005-06-23 - 2007-06-06 - G06F17/50
  • 用户可以在显示器屏幕上创建线圈结构案并且以信息如注释、关键值、以及脚本片段对其注解。产生线圈结构案包括接收至少一个图案或子图案(200),以及组配包括图案或子图案的布局(210-230)。将参数值、属性、和/或元数据提供(220)到组配的布局中所设置的图案或子图案,以及基于布局和参数值、属性、和/或元数据而产生(230)线圈结构案。线圈结构案可以存储在存储器装置(240)中。图案设计系统基于布局和参数值、属性、和/或元数据产生线圈结构案(230)。先前产生的线圈结构案或部分图案可以存储(240)并重用。
  • 线圈结构图案外化

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