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[发明专利]靶材的制作方法-CN201811629642.2在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;廖培君 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2018-12-28 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： B23K20/02 文献下载
摘要：一种靶材的制作方法包括：将靶坯与背板焊接，形成靶材；对所述靶材进行分段式降温。将所述靶坯与所述背板焊接形成靶材后，对所述靶材进行分段降温工艺，使得所述靶坯与所述背板由于快速降温过程中，减小膨胀系数较大的一方向膨胀系数较小的一方鼓起程度，从而减小所述靶材降温后的形变。
制作方法

[发明专利]溅镀靶材牌的电子束焊接-CN200510138199.5有效
发明人：细川昭博;棚濑嘉昭 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2005-12-28 - 公布日： 2006-12-20 - 主分类号： B23K15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种焊接溅镀靶材以形成一大的溅镀靶材的方法。本发明还提供具有经焊接的溅镀靶材牌的溅镀靶材组件的实施例。在一实施例中，在一电子束焊接室内焊接溅镀靶材的方法，包含在位于一支撑表面上的尚未定位的至少两个溅镀靶材牌间的预定的至少一交界线上，提供溅镀靶材材料条或粉末；以该至少两个溅镀靶材牌的边缘紧邻和在溅镀靶材材料条或粉末上形成至少一交界线的方式，将该至少两个溅镀靶材牌并列配置；排出该电子束焊接室内的气体；预热该至少两个溅镀靶材牌和溅镀靶材材料条或粉末至比该至少两个溅镀靶材牌开始熔化、承受物理状态改变、或基本承受分解的温度低的预热温度；将该并列配置的至少两个溅镀靶材牌焊接成为一大的溅镀靶材
溅镀靶材牌电子束焊接

[发明专利]一种给溅射镀膜阴极施加磁场的方法-CN200910027040.4有效
发明人：狄国庆 -专利权人：苏州大学
申请日： 2009-05-25 - 公布日： 2009-11-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种给溅射镀膜阴极施加磁场的方法，采用磁场辅助溅射方式镀膜，靶材和基片平行设置于电场中，靶材位于阴极表面，使靶材和基片之间形成等离子区，离子轰击靶材产生溅射，溅射出的靶材原子或分子沉积在基片上形成薄膜，其特征在于：在基片的背侧设置一个磁极朝向靶材方向的永久磁铁或电磁铁，在所述靶材背侧设置一铁磁性片材，使得所述靶材位于磁场中，磁场的强度分布均匀、方向垂直于靶材表面设置。本发明的方法能够大幅度提高溅射镀膜的速率，大幅度提高镀膜的结晶质量；能整体比较均匀地刻蚀靶材，靶材的利用率可以提高到85～90％；同时避免了冷却水对磁铁的腐蚀影响，可以在较高温度下实现溅射，更利于提高靶材的溅射速率
一种溅射镀膜阴极施加磁场方法

[发明专利]再生溅镀靶材及其制作方法-CN201110099296.3无效
发明人：王圣棻;吴柏成;刘娉婷;蔡忠宪 -专利权人：光洋应用材料科技股份有限公司
申请日： 2011-04-20 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种再生溅镀靶材及其制作方法，所述再生溅镀靶材主要是于一回靶材靶胚的原溅镀面上成形一填补层，使该再生溅镀靶材利用该回靶材靶胚的原非溅镀面作为新的溅镀面，再应用于溅镀过程中，可充分利用回靶材剩余的部分，提高回靶材材料的使用率。其制作方法是在所述回靶材靶胚的原溅镀面上填入材料而成形填补层，并对填补层加工而达到预定规格尺寸。
再生溅镀靶材及其制作方法

[发明专利]一种靶材与背板焊接方法-CN201210236761.8有效
发明人：徐学礼;江轩;王兴权;王欣平;李勇军;何金江;顾新福;范亮;曾浩 -专利权人：有研亿金新材料股份有限公司
申请日： 2012-07-09 - 公布日： 2012-12-12 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明公开了属于靶材制造技术领域的一种靶材与背板焊接方法。该方法首先在钴靶材和背板上均加工出凹槽，再利用多层复合材料中间层，采用低温扩散焊接方法将钴靶材焊接在铜合金背板上。本发明的方法利用多层材料中间层可以实现大面积钴靶材的低温焊接，防止钴靶材的磁性能发生变化，提高钴靶材与铜合金背板的焊接强度，避免靶材组件在溅射时开裂，确保钴靶材的溅射性能得到保证。
一种背板焊接方法

[发明专利]一种生长碲镉汞薄膜的靶材制备方法-CN201010153604.1有效
发明人：孔金丞;孔令德;赵俊;王光华;张鹏举;姬荣斌 -专利权人：昆明物理研究所
申请日： 2010-04-23 - 公布日： 2011-11-09 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种生长碲镉汞薄膜的靶材制备方法，其特征在于采用晶态碲化镉(CdTe)、碲化汞(HgTe)做原材料，通过A.确定靶材组分，B.质量计算，C.研磨，D.称量，E.混合，F.冷轧的工艺步骤，实现生长碲镉汞薄膜的靶材制备，该靶材制备方法可以在制备靶材的原材料中掺入杂质元素，实现对靶材成分的调节。通过采用本发明制备的靶材，致密性高、靶材组分均匀、成分可调、易于实现杂质原子的掺入；用该靶材制备出的薄膜均匀、光亮、附着率较好。
一种生长碲镉汞薄膜制备方法

[实用新型]一种新型靶材-CN202123270547.8有效
发明人：臧世伟 -专利权人：重庆金美新材料科技有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种新型靶材，包括靶材本体和用于固定该靶材本体的支撑座，所述靶材本体设于真空腔体内部的冷却辊旁侧，所述靶材本体为弧形结构，该弧形结构的所述靶材本体的内凹面朝向所述冷却辊。本实用新型的靶材本体采用弧形结构，内凹弧面朝向冷却辊，在磁控溅射的过程中，靶材本体上面的物质在氩气离子的轰击下，能够垂直地层积到冷却辊上的薄膜膜面处，防止溅射到薄膜以外的地方，造成靶材浪费，增加额外成本
一种新型

[发明专利]溅射装置与方法-CN201180073000.9有效
发明人： E·谢尔;O·格劳 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-08-25 - 公布日： 2014-05-28 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：所述装置包括：基板支撑件，适于支撑基板；靶材支撑件（520），适于支撑靶材组件，所述靶材组件包括背部元件与至少两个靶材元件（510、511），所述至少两个靶材元件配置在所述背部元件上且互邻，故在所述至少两个靶材元件之间形成间隙靶材元件间的间隙具有宽度（w）。而且，基板支撑件与靶材支撑件相互配置，而使基板与靶材元件的距离（570）和间隙宽度w的比例至少约为150或以上。
溅射装置方法

[发明专利]一种铝靶材反溅膜的清理方法-CN202010512161.4在审
发明人：蔡小勇;张科;林晓明;黄先彬;池铭浩;李强 -专利权人：福建阿石创新材料股份有限公司
申请日： 2020-06-08 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： C23G1/20 文献下载
摘要：本发明属于靶材制造技术领域，特别涉及一种铝靶材反溅膜的清理方法。本发明提供的铝靶材反溅膜的清理方法，包括以下步骤：采用包裹材料包裹住未解绑铝靶材中的铝残靶面，得到待清理铝靶材；所述包裹材料不与碱液反应；所述未解绑铝靶材包括铝残靶和铜背板；将所述待清理铝靶材的铜背板一面与装载台接触，利用升降板将所述待清理铝靶材固定于装载台上；对所述待清理铝靶材的边缘依次进行碱液处理和水洗。本发明利用碱液与靶材周围的反溅膜发生反应，使铝和碱液形成可溶性产物排出，去除残留碱液，即可清理铜背板上的铝反溅膜，对铝残靶和铜背板无损伤。
一种铝靶材反溅膜清理方法

[发明专利]一种靶材的清洗方法-CN202011089333.8在审
发明人：文宏福;郭文明 -专利权人：东莞市欧莱溅射靶材有限公司;韶关市欧莱高新材料有限公司
申请日： 2020-10-13 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种靶材的清洗方法，干冰喷枪组与清洁台相对移动，使干冰喷枪全面覆盖靶材清洁。一种靶材的清洗方法，通过本发明的清洗设备使用干冰对靶材进行清洁，实现全面覆盖靶材清洁，缩短清洗时间，有效去除靶材氧化物。
一种清洗方法

[发明专利]靶材热处理方法-CN200910135279.3有效
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;周友平;刘庆 -专利权人：宁波江丰电子材料有限公司
申请日： 2009-05-12 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： C22F1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种靶材热处理方法，包括：提供靶材，所述靶材为钛或者钛合金；加热能包覆所述靶材的沙子，对所述靶材进行热处理。与现有技术相比，本发明透过沙浴的加热方式，确保靶材均匀受热，实现其组织结构的均匀性，满足溅射要求。
热处理方法

[发明专利]溅射靶材回收方法-CN201710580344.8在审
发明人：吴景晖;姚力军;徐超 -专利权人：宁波创润新材料有限公司
申请日： 2017-07-17 - 公布日： 2019-01-25 - 主分类号： C22B7/00 文献下载
摘要：一种溅射靶材回收方法，包括：提供靶材组件，所述靶材组件包括背板和与所述背板连接的靶材；采用化学反应分离方法分离所述背板和靶材。所述化学反应分离方法相较于机械分离方法，能够将所述背板和靶材分离的更加彻底，从而可获得高纯度的靶材。
靶材背板化学反应靶材组件溅射靶材背板连接机械分离回收高纯度

[发明专利]靶材结构及其制作方法-CN200910127245.X有效
发明人：姚力军;潘杰;毛立鼎;刘庆 -专利权人：宁波江丰电子材料有限公司
申请日： 2009-03-12 - 公布日： 2009-09-30 - 主分类号： B23K20/00 文献下载
摘要：本发明提供一种靶材结构及其制作方法。其中靶材结构的制作方法包括：提供靶材；在靶材的焊接面上形成粘结层；在所述粘结层上进行扩散焊处理，将背板焊接至靶材。与现有技术相比，本发明可以使得钽靶材与铜背板实现可靠结合，提升靶材结构的品质。
结构及其制作方法

[发明专利]磁控溅射靶材快换结构和方法-CN202211280686.5在审
发明人：刘志;孙家宝;孙一军;陈长鸿;谢石建;孙颖;王妹芳;刘艳华 -专利权人：浙江大学
申请日： 2022-10-19 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种磁控溅射靶材快换结构和方法。包括靶枪、靶材、卡环、波形簧片、屏蔽罩和异形簧片，靶枪的背板外壳内设置靶材，靶材端面应均匀压紧贴在靶枪内端面，以便靶材冷却，靶材内端面为水冷盘；屏蔽罩套在靶枪的背板外壳的端口内，屏蔽罩靠近靶枪的端部和靶材之间设有卡环和波形簧片，屏蔽罩端部经波形簧片和卡环压接到靶材上；在屏蔽罩和靶枪的背板外壳的端口之外周围设有异形簧片，异形簧片固定于靶枪上，异形簧片向屏蔽罩延伸并越过屏蔽罩后设置有凸耳，凸耳径向朝向屏蔽罩中心延伸，屏蔽罩远离靶枪的端部顶接到凸耳上本发明提出的靶材快换结构，可应用于磁控溅射设备靶材固定及类似结构需要紧固的位置，改进了设备使用过程中的弊端。
磁控溅射靶材快换结构方法

[实用新型]一种磁控溅射靶材快换结构-CN202222752612.9有效
发明人：刘志;孙家宝;孙一军;陈长鸿;谢石建;孙颖;王妹芳;刘艳华 -专利权人：浙江大学
申请日： 2022-10-19 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种磁控溅射靶材快换结构。包括靶枪、靶材、卡环、波形簧片、屏蔽罩和异形簧片，靶枪的背板外壳内设置靶材，靶材端面应均匀压紧贴在靶枪内端面，以便靶材冷却，靶材内端面为水冷盘；屏蔽罩套在靶枪的背板外壳的端口内，屏蔽罩靠近靶枪的端部和靶材之间设有卡环和波形簧片，屏蔽罩端部经波形簧片和卡环压接到靶材上；在屏蔽罩和靶枪的背板外壳的端口之外周围设有异形簧片，异形簧片固定于靶枪上，异形簧片向屏蔽罩延伸并越过屏蔽罩后设置有凸耳，凸耳径向朝向屏蔽罩中心延伸，屏蔽罩远离靶枪的端部顶接到凸耳上本实用新型提出的靶材快换结构，可应用于磁控溅射设备靶材固定及类似结构需要紧固的位置，改进了设备使用过程中的弊端。
一种磁控溅射靶材快换结构