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[发明专利]一种提高钕铁硼性能的稀土合金靶材制备方法-CN202211089838.3在审
发明人：王志强;钟嘉珉;陈德宏;李宗安;庞思明;张小伟;吴道高;程军;杨秉政;张艳岭;张洪超;程博 -专利权人：有研稀土新材料股份有限公司;有研稀土高技术有限公司
申请日： 2022-09-07 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高钕铁硼性能的稀土合金靶材制备方法，包括如下步骤：将稀土旋转靶材与预设金属靶管制备成稀土合金旋转靶材，稀土旋转靶材的材料为铽、镝、钬、钆中的一种，预设金属靶管包括铝、铜、镍、铁等中的至少一种；将稀土合金旋转靶材与背管焊接在一起；将稀土合金旋转靶材与背管安装于镀膜生产线上；对磁铁进行热处理和回火处理，得到处理后的稀土合金靶材。为提高稀土靶材利用率、溅射效率和实现成分精准控制，同时达到缩短晶界扩散时间或降低扩散温度，将稀土与预设金属元素组合制备成合金旋转靶材，靶材利用率可达85％以上，实现铽/镝等稀土和预设金属元素同时附着在钕铁硼表面
一种提高钕铁硼性能稀土合金制备方法

[发明专利]旋转异形靶阴极机构及磁控溅射镀膜装置-CN201310192574.9无效
发明人：刘国利;范振华 -专利权人：东莞宏威数码机械有限公司
申请日： 2013-05-22 - 公布日： 2013-11-27 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种旋转异形靶阴极机构，其靶管绕磁钢部件相对旋转，带动整个的靶材沿固定的磁场做持续旋转，因此，让所有的靶材表面都得到均匀的刻蚀，从而大大提高了阴极靶材的利用率，且靶材呈异形靶面结构，保证靶材的最终刻蚀厚度一致，进一步提高阴极靶材的利用率；由此延长了更换靶材的周期，提高了整条生产线连续溅射生产的产能；采用旋转阴极靶材设置，解决了平面阴极在连续镀膜中的掉渣及打弧问题，保持溅镀工艺稳定，提高镀膜质量；而磁钢部件相对于竖直方向偏离设置，使溅射到内壁的靶材较少，保持设备的高清洁度，且清洁维护简洁，且该旋转异形靶阴极机构的结构简单。本发明还公开一种具有旋转异形靶阴极机构的磁控溅射镀膜装置。
旋转异形阴极机构磁控溅射镀膜装置

[发明专利]一种基于大面积矩形磁控溅射靶枪的沉积系统-CN202111296357.5在审
发明人：张松林;张斌 -专利权人：成都超迈光电科技有限公司
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于大面积矩形磁控溅射靶枪的沉积系统，包括靶材和背板，所述靶材的其中一侧为平面，所述靶材的另一侧设置有第一凸起，所述靶材设置有第一凸起一侧的表面设置有波浪线状纹理，所述背板其中一侧为平面，所述背板的另一端面开设有凹槽，所述凸起与所述凹槽适配；本发明中，有效的解决了磁控溅射靶被击穿的而减少使用寿命的问题，以及磁控溅射过程中，由于个别点被击穿后需更换靶材导致的利用率低的问题，增加靶材溅射密度高的区域的厚度，同时削减靶材两边将来是多余的部分，采用这种靶材来进行磁控溅射镀膜，靶材利用率高，溅射均匀性好。
一种基于大面积矩形磁控溅射沉积系统

[发明专利]磁控溅射源及磁控溅射设备-CN201010621854.3有效
发明人：刘旭 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2010-12-24 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：其中，所述磁控溅射源包括磁控管及驱动装置，所述磁控管和所述驱动装置相连接，所述驱动装置用于驱动所述磁控管以螺旋线形轨迹对整个靶材区域进行扫描。从而在将本发明提供的磁控溅射源应用于磁控溅射工艺中时，能够使靶材各个区域均被有效溅射，以避免靶材上的某些区域不能被充分利用的问题；并且，还可通过调节驱动装置的运行速度而对磁控管在其靶材中心区域和边缘的停留时间进行有效调节，从而使靶材各区域的消耗速率趋于一致，进而有效提高靶材的利用率。本发明提供的磁控溅射设备同样能够有效提高靶材的利用率。
磁控溅射设备

[实用新型]一种靶材真空溅射移位装置-CN201120272879.7有效
发明人：谢青华;夏尚德;徐龙海 -专利权人：深圳天泽镀膜有限公司
申请日： 2011-07-29 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型是一种靶材真空溅射移位装置，其包括磁铁、ITO靶材、箱体、阳极罩，箱体具有一开口，阳极罩设置于该开口的两侧处，ITO靶材安装于该开口的中间，ITO靶材背部具有磁铁，所述磁铁滑动设置于一导轨上，导轨位于箱体外，并与ITO靶材平行设置，通过导轨，磁场可以进行移位，便于控制对靶材进行真空溅射，能够充分利用靶材）提高靶材的利用率。
一种真空溅射移位装置

[实用新型]一种提高磁控溅射靶材利用率的结构-CN201520489264.8有效
发明人：闫都伦;王克斌;吴细标;唐贵民 -专利权人：深圳新南亚技术开发有限公司
申请日： 2015-07-09 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种提高磁控溅射靶材利用率的结构，包括伺服电机、丝杠、磁铁板、丝杠螺母、磁铁组和靶材，所述靶材的背面设置磁铁组，磁铁组固连在磁铁板上，从而构成磁控溅射靶材结构，所述磁铁板的背面固连丝杠螺母本实用主要是通过将磁铁板的宽度变窄，同时配有伺服电机与丝杠，通过伺服电机的正反转及适当的转速控制，使得磁铁板带着磁铁组在靶材宽度范围内，进行左右移动。通过周期性的左右运动叠加，最终达到最大的靶材刻蚀效果，通过测试，靶材利用率可提高1倍以上。
一种提高磁控溅射利用率结构

[实用新型]一种靶材高利用率的脉冲激光沉积装置用靶台-CN201922423217.4有效
发明人：陆伟华;邵玮 -专利权人：南通纳瑞纳米科技有限公司
申请日： 2019-12-29 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种靶材高利用率的脉冲激光沉积装置用靶台，包括步进电机和从动大齿轮，所述步进电机的右侧设置有第二步进电机，且步进电机的上端固定连接有电机座，所述步进电机的输出端连接有联轴器，且联轴器的上端连接有波纹管转轴该种靶材高利用率的脉冲激光沉积装置用靶台使用两个步进电机同时实现靶材相对靶台中轴线的公转和自身轴线的自转运动，使得靶材相对激光束照射区域不断改变自身被照射的位置区域，从而提高靶材的利用率。
一种靶材高利用率脉冲激光沉积装置靶台

[发明专利]一种电弧离子镀的圆环靶材-CN202211151525.6在审
发明人：毕凯;陈大民 -专利权人：嘉兴岱源真空科技有限公司
申请日： 2022-09-21 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种电弧离子镀的圆环靶材。所述电弧离子镀的圆环靶材包括靶材，磁靴，中心磁铁，以及电磁线圈。所述靶材包括本体，以及通孔。中心磁铁使得电子弧斑在运动到所述通孔的边缘时，不会掉落到所述通孔中导致放电中断，而是会被磁约束至靶材的边缘，这样运动区域最大，靶材利用率高，又可以改善弧斑运动，提高膜层品质。所述靶材呈环形结构来代替目前大量使用的圆盘靶材，以使靶材利用率更合理，弧板运动更弥散均衡。
一种电弧离子镀圆环

[实用新型]一种电弧离子镀的圆环靶材-CN202222535085.6有效
发明人：毕凯;陈大民 -专利权人：嘉兴岱源真空科技有限公司
申请日： 2022-09-21 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种电弧离子镀的圆环靶材。所述电弧离子镀的圆环靶材包括靶材，磁靴，中心磁铁，以及电磁线圈。所述靶材包括本体，以及通孔。中心磁铁使得电子弧斑在运动到所述通孔的边缘时，不会掉落到所述通孔中导致放电中断，而是会被磁约束至靶材的边缘，这样运动区域最大，靶材利用率高，又可以改善弧斑运动，提高膜层品质。所述靶材呈环形结构来代替目前大量使用的圆盘靶材，以使靶材利用率更合理，弧板运动更弥散均衡。
一种电弧离子镀圆环

[实用新型]磁控溅射圆柱靶的靶芯结构-CN201420236523.1有效
发明人：万光辉;梁君;平杰 -专利权人：山东亿家能太阳能有限公司
申请日： 2014-05-09 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射圆柱靶的靶芯结构，它是真空镀膜技术中磁控溅射镀圆柱靶的核心部分，它在靶管内部，在芯铁上面安装有多条长条形强磁钢，两个端部装有两条弱磁钢，芯铁外面有封闭的不锈钢罩隔水装置，防止磁钢浸在水里，这样可以延长磁钢的使用寿命，节约磁钢，解决了磁控溅射圆柱靶的靶材两端溅射后出现凹槽的缺陷，使靶材的利用率提高一倍。它解决了磁控溅射圆柱靶使用中磁钢使用寿命短，靶材利用率低的两个技术难题。
磁控溅射圆柱结构

[发明专利]一种表面金属镀膜设备用靶极系统-CN200610044770.1无效
发明人：毕研文;王乃用;宋小斌;张强;江衍勤 -专利权人：菏泽天宇科技开发有限责任公司
申请日： 2006-06-14 - 公布日： 2006-11-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种靶极系统，特别公开了一种表面金属镀膜设备用靶极系统。该表面金属镀膜设备用靶极系统，包括固定轴、与固定轴连接的导磁芯轴，固定轴外为密封室、固定架，固定架的一侧固定有靶极门及防护罩，其特殊之处在于：所述固定轴上固定有传动链轮，传动链轮依次连接转动轴、靶极连接法兰、靶材连接法兰及靶材。本发明由于靶材产生旋转，表面均匀溅射，利用率由原来的10％提高到60％以上。组成了一整套可旋转的真空镀膜靶极，不仅提高了靶材利用率，而且提高了设备效率，延长了设备维护周期，降低了镀膜成本。
一种表面金属镀膜备用系统

[实用新型]一种表面金属镀膜设备用靶极系统-CN200620085536.9无效
发明人：毕研文;王乃用;宋小斌;张强;江衍勤 -专利权人：菏泽天宇科技开发有限责任公司
申请日： 2006-06-14 - 公布日： 2007-07-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种靶极系统，特别公开了一种表面金属镀膜设备用靶极系统。该表面金属镀膜设备用靶极系统，包括固定轴、与固定轴连接的导磁芯轴，固定轴外为密封室、固定架，固定架的一侧固定有靶极门及防护罩，其特殊之处在于：所述固定轴上固定有传动链轮，传动链轮依次连接转动轴、靶极连接法兰、靶材连接法兰及靶材。本实用新型由于靶材产生旋转，表面均匀溅射，利用率由原来的10％提高到60％以上。组成了一整套可旋转的真空镀膜靶极，不仅提高了靶材利用率，而且提高了设备效率，延长了设备维护周期，降低了镀膜成本。
一种表面金属镀膜备用系统

[发明专利]磁控溅射源移动磁体最优运动规律的计算方法-CN201310153699.0有效
发明人：王人成;张若凡;程嘉;于璐嘉;柳世强;何崇恺 -专利权人：清华大学
申请日： 2013-04-27 - 公布日： 2013-07-24 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：包括通过仿真得到移动磁体运动经过n个位置处靶材表面上m个点的水平磁场强度；建立用于计算靶材表面m个点的等效水平磁场强度的耦合函数bsum_j(k_i)；根据所述耦合函数bsum_j(k_i)，建立用于计算靶材利用率的目标函数η(k_i)；以靶材利用率最大化为优化目标，以且k_i＞0为约束条件，利用优化遗传算法对所述目标函数η(k_i)进行优化，得到加权系数k_i的最优值；利用加权系数k_i的最优值，推出移动磁体最优运动规律。本发明在实现靶材利用率最大化的同时，实现了最佳的刻蚀均匀性。
磁控溅射移动磁体最优运动规律计算方法

[实用新型]一种旋转靶材-CN202221978642.5有效
发明人：覃洪高;李明麟;姚佳伟;肖敏毅;冯冬发 -专利权人：意力（广州）新材料有限公司
申请日： 2022-07-28 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种旋转靶材，包括靶材本体，所述靶材本体为中空的圆筒结构，中空处装有静止磁棒；所述靶材本体两端外侧朝外凸起形成凸起环。本实用新型的优点在于：本旋转靶材可对磁棒磁场的要求降低，靶材利用率搞，减少更换靶材的频次，弥补镀膜设备缺陷，减少能源消耗。
一种旋转

[发明专利]稀土永磁体表面真空镀膜设备-CN201911365622.3有效
发明人：刘顺钢;张浙军;康振东;顾建文;曹磊;王海平 -专利权人：沈阳广泰真空科技有限公司
申请日： 2019-12-26 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：解决现有稀土永磁体真空镀膜设备存在的沉积速率较低、电耗高以及靶材利用率较低的问题。该设备包括壳体，阴极板和设置于阴极板上的稀土金属靶材，靶材背部设置有磁性材料；靶材由多个分段靶材等距或不等距间隔排列而成且整体呈条形长方体状，每个分段靶材的长度L1是整体靶材长度L的2%－15%，相邻分段靶材之间的间隔L2是分段靶材长度L1的30%－50%；靶材背部设置的磁性材料形成的磁场强度为80GS～180GS；壳体内氩气的充入量使壳体内真空度保持在0.8Pa～3Pa。本发明提高了靶材利用率和沉积速率，电耗大幅度降低。
稀土永磁体表面真空镀膜设备