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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种高纯铜靶材及其制备方法-CN202111092277.8有效
发明人：姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;章丽娜;罗明浩 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-09-17 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种高纯铜靶材及其制备方法，所述制备方法包括：将铜靶坯依次进行锻伸、第一热处理、压延和第二热处理；所述第一热处理的温度为695‑705℃；所述第二热处理的温度为895‑905℃。本发明提供的铜靶材制备方法能够满足半导体等行业对铜靶材的要求，得到的铜靶材无内部缺陷且内部晶粒足够细化，改善了溅射薄膜的厚度分布均匀性，提高了镀膜质量；同时简化了制备方法，降低了生产成本，提高了生产效率和靶材利用率
一种高纯铜靶材及其制备方法

[发明专利]新型电磁控阴极电弧源-CN90100946.6无效
发明人：王福贞;袁哲;唐希源;周友苏;张树林;程永清 -专利权人：北京联合大学机械工程学院
申请日： 1990-02-27 - 公布日： 1993-06-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：离子镀膜、离子渗金属领域的设备中，其特征在于控制电磁线圈的排布方式，在放电过程中不断改变线圈电流的方向和大小，在靶面产生的磁感应强度在10°-10-ZT范围变化，阴极电弧弧斑在靶面上由小环到大环周期变化靶材烧蚀均匀，靶材利用率高。
新型电磁阴极电弧

[发明专利]一种旋转阴极磁场磁控溅射装置-CN202211463711.3在审
发明人：吴纯恩;安辉;陆艳君;孙丹;邓文宇;杨双;蒋立正;齐丽君;陈晓东;侯强;安跃军 -专利权人：沈阳工业大学
申请日： 2022-11-22 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：包括靶材‑基体固定架、磁极旋转架和凸轮滑轨结构三个部分，靶材‑基体固定架是一个环形，内部一层安装待镀基体，外部一层安装靶材，且一一对应形成六个工作区，靶材‑基体固定架上端安装有加载电极，在靶材‑基体间形成稳定的电场，磁极旋转架通过滚动轴承和顶丝与靶材‑基体固定架同轴安装，并利用驱动皮带轮带动磁极旋转，凸轮滑轨结构是利用磁极上的凸轮柱在环形凸轮面上运动，使做旋转运动的磁极同时在滑轨上做上下直线运动，从而使均匀的磁场一直处于靶材的工作面上，从而提高靶材的利用率和溅射均匀度，改善了阴极磁场的质量，使基体表面沉积的薄膜质量更好。
一种旋转阴极磁场磁控溅射装置

[发明专利]一种铝钪合金靶材的成型方法-CN202011529707.3在审
发明人：姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;周友平;冯新印 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种铝钪合金靶材的成型方法，所述成型方法包括：将铝钪合金靶坯和锻模进行加热，之后将加热后的铝钪合金靶坯放入到喷涂有助剂的锻模进行锻压，得到铝钪合金靶材。本发明提供的成型方法，通过对成型工艺的设计，采用的模锻的方式，并且在锻造之前进行加热，解决了铝钪合金靶材在成型过程中开裂的问题，显著的提高了靶坯的利用率，节省物料成本及提高生产效率。
一种合金成型方法

[发明专利]一种具有双层屏蔽罩的阴极弧头-CN202011363720.6在审
发明人：廖斌;庞盼;王国梁;罗军;陈琳 -专利权人：廖斌;广东省广新离子束科技有限公司
申请日： 2020-11-27 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：该方案包括固定法兰盘、阴极靶材、触发电极、屏蔽系统、辅助阳极板，屏蔽系统包括第一屏蔽罩以及第二屏蔽罩，第一屏蔽罩与第二屏蔽罩均与阴极靶材同轴设置，且第一屏蔽罩与所述第二屏蔽罩均套于阴极靶材外并与阴极靶材之间保持间距设置双层屏蔽罩，对阴极靶材上的弧斑点形成更好的约束，使阴极靶材表面均匀烧蚀，提高阴极靶材的利用率，降低阴极靶材更换的频率，减少对生产的影响。
一种具有双层屏蔽阴极

[实用新型]靶材制作装置-CN201920619710.0有效
发明人：张蛟;周维国;徐国军;万捷 -专利权人：领凡新能源科技（北京）有限公司
申请日： 2019-04-30 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本申请提供一种靶材制作装置，包括熔炼室和设置在所述熔炼室一侧的雾化室，所述熔炼室设有导流管，所述导流管一端由熔炼室通入熔融的靶材原料，所述导流管另一端延伸到雾化室内，所述雾化室内固设有靶材固定件，所述导流管朝向所述靶材固定件方向本申请中，采用雾化喷盘与导流管配合构成二流体结构将靶材熔液雾化，成型的金属颗粒被高速气流加速后撞击靶材衬底并沉积在上面，形成靶材，生产效率高，生产工序少，靶材原料利用率高。
制作装置

[发明专利]一种共溅射旋转靶材及其制备方法-CN201410181267.5无效
发明人：黄常刚;李京波;李庆跃;吴宗泽;李凯;汪林望;吴海虹;李树深;夏建白;王臻 -专利权人：浙江东晶电子股份有限公司
申请日： 2014-04-30 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及薄膜的物理制备技术领域，具体是一种共溅射旋转靶材及其制备方法，其特征在于：包括旋转圆柱靶管及中心静止不动的磁铁，所述旋转圆柱靶管由不同形状的掺杂成份靶材单元和本体成份靶材单元以不同的形式分布在圆筒形支撑衬底上，掺杂成份靶材单元和本体成份靶材单元两者按照一定的排布规律分布。本发明将需要共溅射和共掺杂的靶材单元制作成不同的形状，以不同的形式分布在圆筒形支撑衬底上，而圆筒形支撑衬底的中心放置静止不动的磁铁，慢速转动实现磁控溅射，达到高均匀性共掺杂的目的，其靶材利用率也比较高。
一种溅射旋转及其制备方法

[实用新型]旋转阴极机构-CN201220096370.6有效
发明人：朱殿荣;曹俊 -专利权人：无锡康力电子有限公司
申请日： 2012-03-14 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种旋转阴极机构，它包括靶旋转机构（4）、靶支架（3）、冷却水管（8）和依次安装在冷却水管（8）外侧的极靴（7）、多个条形磁铁（6）、靶材（5），上述套管的一侧装有一端盖（9），另一端安装靶旋转机构（4）和靶支架（3），所述的条形磁铁（6）和靶材（5）之间套装不锈钢管。本实用新型为一种新型机构，通过在溅射过程中旋转靶材，使得靶材在整区域的消耗能够均匀的进行刻蚀，将靶材一次利用率提高到≥80%以上；同时可以有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。
旋转阴极机构

[实用新型]一种新型免维护高效靶材机构-CN201520793007.3有效
发明人：黄裕祥 -专利权人：广东耐信镀膜科技有限公司
申请日： 2015-10-15 - 公布日： 2016-02-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型免维护高效靶材机构，包括靶材、阳极组件及阴极电极；所述靶材的外侧固定有保护圈，其中心位置处安装有靶材组件；所述靶材组件的外侧套接有贯穿件，其底部连接有冷水供应装置；所述保护圈的左侧设置有双电刷本实用新型的新型免维护高效靶材机构，工作性能稳定，解决了设备维修周期过短的问题，大幅度提高了靶材的利用率和生产效率。
一种新型维护高效机构

[发明专利]一种激光等离子体极紫外光源靶材的优化方法-CN202210166835.9在审
发明人：徐永兵;陈笑;黎遥;钟文彬;严羽;侯鉴波;何亮;陆显扬 -专利权人：南京大学
申请日： 2022-02-23 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种激光等离子体极紫外光源靶材优化方法，通过电子束蒸发的方式在产生激光等离子体的靶材衬底上生长锡薄膜，形成有限质量的固体薄膜靶，通过控制锡层的厚度来控制激光单次作用所消耗的锡量；当高能量脉冲激光与靶材作用产生等离子体时，通过控制薄膜靶的锡量进而优化极紫外光产生的效率和碎屑的产生。通过控制薄膜厚度调整靶材表面生长的锡燃料的量，使其在单次激光脉冲下，光斑作用下的锡可以充分利用，进而可以有效提高激光转化效率和靶材工作物质利用率，并减少碎屑对光学系统的污染。
一种激光等离子体紫外光源优化方法

[发明专利]一种平面靶材的制备方法-CN202211159806.6在审
发明人：张蛟;徐国军;刘丽红;蒋明伟 -专利权人：安徽狄拉克新材料科技有限公司;宣城先进光伏技术有限公司
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及靶材加工技术领域，具体涉及一种平面靶材的制备方法，包括：对背板进行粗化处理；背板上喷涂打底层；将背板安装到靶材生长冷却导柱上；将材料加热得到靶材熔液，并将靶材熔液浇注到坩埚内；当背板温度达到200℃时，将靶材生长冷却导柱缓慢下降，打底层接触到靶材熔液液面后停止下降；当背板温度达到低于材料熔点10℃时，靶材生长冷导柱向上拉伸，靶坯重量达到目标重量后，得到靶坯；冷却液持续给背板降温，当背板温度降低至300℃后缓慢降低冷却液温度，背板温度降至50℃以下后取出靶材，将靶材冷却至室温后进行机加工，本发明通过本方法制备的靶材利用率高，可承受高功率密度磁控溅射，靶材密度高接近理论密度。
一种平面制备方法

[发明专利]一种镀膜装置-CN201310589150.6有效
发明人：孙泉钦;谢濒锋;王一鸣 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2013-11-20 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种镀膜装置，包括：用于承载基板的基板承载板；用于承载靶材，以使得所述靶材与所述基板相对设置的靶材承载板；以及，用于设置于所述靶材承载板的远离所述基板承载板的一侧的单根磁条；所述磁条至少能够在一预定运动范围内进行运动，所述预定运动范围至少包括：与所述靶材所在区域相对应的靶材区域；及，与所述靶材以外的区域相对应的非靶材区域；所述镀膜装置还包括一用于控制所述磁条在所述靶材区域内进行匀速运动的控制机构。本发明的镀膜装置中磁条的预定运动范围要远大于靶材，当磁条运动到靶材区域时可以进行匀速运动，在最大程度上保证了成膜的均匀性，同时由于靶材各个位置的磁场强度相似，因此可以极大的提高靶材利用率。
一种镀膜装置

[发明专利]一种平面靶材的磁场结构及其使用方法-CN201410186271.0有效
发明人：刘晓伟;丁向前;刘耀;李梁梁;白金超 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-05-05 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种平面靶材的磁场结构及其使用方法，其中平面靶材的磁场结构包括：第一级磁铁阵列和第二级磁铁阵列，且第一级磁铁阵列和第二级磁铁阵列相互垂直，第一级磁铁阵列通电，第二级磁铁阵列断电，形成平行于靶材的一级刻蚀跑道在原有一级磁铁阵列的基础上增加与其相互垂直的磁铁阵列，两级磁铁阵列通过交替地进行左右移动和上下移动，用第二级磁铁阵列对第一级磁铁阵列的刻蚀盲区进行刻蚀，避免一次刻蚀存在死角以及磁场不均匀导致的靶材利用率较低问题的出现，提高刻蚀均匀性以及靶材的利用率，同时还能避免两极磁场相互影响产生的串扰问题。
一种平面磁场结构及其使用方法

[实用新型]一种用于形成稀土金属靶材的制备装置-CN201822043618.2有效
发明人：刘晓通;彭众杰 -专利权人：烟台首钢磁性材料股份有限公司
申请日： 2018-12-06 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： B23K10/02 文献下载
摘要：本实用新型属于磁性材料领域，具体为一种用于形成稀土金属靶材的制备装置。本实用新型中包括用于稀土金属粉末在其表面形成稀土金属靶材的靶向机构；用于固定靶向机构并带动靶向机构同步运动的旋转机构；用于向旋转装置提供动能的动力机构；用于在靶向机构表面形成稀土金属靶材时提供密封环境的密封机构本实用新型解决了材料为稀土金属圆柱旋转靶材的制备问题，可满足不同直径和长度尺寸靶材要求，制备的靶材应用在稀土永磁材料生产领域，节省了原材料利用率，降低了生产成本。
稀土金属靶本实用新型靶向制备装置靶材制备磁性材料领域稀土金属粉末稀土永磁材料原材料利用率表面形成动力机构机构表面密封环境密封机构同步运动稀土金属旋转靶材旋转机构旋转装置固定靶动能生产成本应用

[实用新型]磁控溅射装置-CN200820030258.6无效
发明人：弥谦;杭凌侠;郭忠达;梁海峰;徐均琪;孙国斌;惠迎雪 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2008-09-12 - 公布日： 2009-06-03 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：由于目前采用平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射方式，即使采用永磁铁移动或多组电磁线圈变换，靶材利用率也只能提高到20％～35％，并且存在结构复杂，加工成本高的问题。本实用新型的一种磁控溅射装置，包括磁体、导磁体、基片和溅射靶，其特别之处在于：所述磁体的相反磁极相对固定设置在溅射靶的侧面，磁体产生的磁约束磁场位于基片和溅射靶之间并且两磁极连线平行于靶面。本实用新型可以有效克服现有技术存在的靶材利用率低和沉积速率低的问题。
磁控溅射装置

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