专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]衍射可调的激光投影装置-CN201710788366.3有效
  • 邓想全 - 深圳奥比中光科技有限公司
  • 2017-09-01 - 2020-11-03 - G03B21/20
  • 本发明公开了一种衍射可调的激光投影装置,包括:光源,向外发射光束;基底,用于固定所述光源;准直单元,汇聚所述光源发射的光束,并向外投射平行光束;衍射光学元件,接收及扩束所述平行光束,并向外投射图案化光束,所述图案化光束包括衍射光束和高阶衍射光束;可调抑制单元,用于接收并衰减所述衍生光束,并向外投射出强度可调的衍射光束。可调的抑制单元包括起偏器、半波片装置及检偏器,或者至少一个可旋的起偏器和可旋检偏器。本发明的衍射可调的激光投影装置能够根据需求对激光投影装置的衍射进行精确衰减或遮蔽。
  • 衍射可调激光投影装置
  • [发明专利]用于X射线散射测量系统的全光束度量-CN202111172803.1有效
  • A·吉里纽;T·G·奇乌拉;J·亨奇;A·韦尔德曼;S·佐卢布斯基 - 科磊股份有限公司
  • 2017-10-17 - 2023-01-17 - H01J37/252
  • 本发明涉及用于X射线散射测量系统的全光束度量。本文中描述用于通过全光束X射线散射测量而特性化半导体装置的尺寸及材料性质的方法及系统。全光束X射线散射测量涉及使用X射线光束照明样本且同时针对相对于所述样本的一或多个入射角检测所得衍射及较高衍射的强度。直射光束及经散射的同时测量实现具有经改进准确度的高处理量测量。全光束X射线散射测量系统包含:一或多个光子计数检测器,其具有高动态范围;及厚、高吸收性晶体衬底,其吸收具有最小寄生反向散射的直射光束。在其它方面中,基于衍射光束执行基于模型的测量,且基于所述经测量光束的性质估计及控制所述全光束X射线散射测量系统的测量性能。
  • 用于射线散射测量系统光束度量
  • [发明专利]用于X射线散射测量系统的全光束度量-CN201780064269.8有效
  • A·吉里纽;T·G·奇乌拉;J·亨奇;A·韦尔德曼;S·佐卢布斯基 - 科磊股份有限公司
  • 2017-10-17 - 2021-10-26 - H01J37/252
  • 本文中描述用于通过全光束X射线散射测量而特性化半导体装置的尺寸及材料性质的方法及系统。全光束X射线散射测量涉及使用X射线光束照明样本且同时针对相对于所述样本的一或多个入射角检测所得衍射及较高衍射的强度。直射光束及经散射的同时测量实现具有经改进准确度的高处理量测量。全光束X射线散射测量系统包含:一或多个光子计数检测器,所述一或多个光子计数检测器具有高动态范围;及厚、高吸收性晶体衬底,其吸收具有最小寄生反向散射的直射光束。在其它方面中,基于衍射光束执行基于模型的测量,且基于所述经测量光束的性质估计及控制所述全光束X射线散射测量系统的测量性能。
  • 用于射线散射测量系统光束度量
  • [实用新型]一种双波长的激光装置-CN201921254009.X有效
  • 孙笠馨;张吉生;傅立斌 - 精快激光科技(苏州)有限公司
  • 2019-08-05 - 2020-03-20 - H01S3/107
  • 本实用新型公开了一种双波长的激光装置,激光器产生的激光束以第一光路路径方向输出;或,激光器产生的激光束以声光Q开关衍射的光路路径行进或同时以一衍射光路路径与衍射光路路径行进,其中,当激光束衍射光路路径方向行进时,激光束以透镜组的中心方向进入透镜组,由频率转换装置进行频率转化变为不同波长的混合激光束,最后经滤除部分波长光束输出;当激光束以一衍射光路路径方向行进时,激光束以一倾斜角度进入透镜组,然后与第一光路路径方向光束汇合输出
  • 一种波长激光装置
  • [发明专利]一种激光光束扫描系统调试方法-CN202211508713.X在审
  • 罗先刚;车建强;张飞;李晓银;蒲明博 - 天府兴隆湖实验室
  • 2022-11-29 - 2023-08-15 - G02B27/62
  • 本申请属于光学系统技术领域,具体涉及一种激光光束扫描系统调试方法,该方法包括步骤:控制激光光源产生入射激光,使入射激光依次经过激光光束扫描系统中包含的第一透镜和第二透镜后投射到靶面形成图案;调节第一透镜的通光孔径的大小,以在靶面形成图案;调节第一透镜的通光孔径的大小,以在靶面形成非图案;根据图案和非图案,调节第二透镜的位置,直至满足激光光束扫描系统完成调试的预设条件;其中,预设条件包括图案的中心点与非图案的中心点重合该方法可以实现亮斑激光光束扫描系统100的在线调节,自动化程度高;并且,调节精度较高,消除了因为镜片加工造成的实际光轴与物理中心线不一致的影响。
  • 一种激光光束扫描系统调试方法
  • [实用新型]用于抑制衍射光学元件光斑的光学组件-CN202020356361.0有效
  • 刘劲松;杨尔辅 - 苏州奥谱顿光电科技有限公司
  • 2020-03-19 - 2020-12-01 - G02B27/42
  • 本实用新型涉及一种用于抑制衍射光学元件光斑的光学组件,其包括:工作平面;衍射光学元件,其适于接收入射的准直光束,并将衍射光束投射至所述工作平面,并且所述衍射光学元件的一衍射光束的衍射全角大于5度;以及扩束光学元件,其适于插入到所述光学组件的光路中,并且所述扩束光学元件的面型和设置位置适于:使所述光学组件在无衍射光学元件状态下的工作平面处的光斑尺寸扩大,且扩束后所得的光斑尺寸不超过所述一衍射光束的光斑尺寸本实用新型可以不改变衍射光学元件本身的设计的前提下实现对衍射光学元件光斑的抑制,可以通过较为简化的措施对现存器件或设备进行升级改造,以抑制光斑,改善输出光束的品质。
  • 用于抑制衍射光学元件光斑组件
  • [发明专利]用于抑制衍射光学元件光斑的方法和相应的光学组件-CN202010195545.8在审
  • 刘劲松;杨尔辅 - 苏州奥谱顿光电科技有限公司
  • 2020-03-19 - 2021-02-23 - G02B27/42
  • 本发明用于抑制衍射光学元件光斑的方法,其包括:1)将衍射光学元件从光学组件的光路中取出;2)在所述光学组件的光路中加入一实体透镜;3)沿着光轴移动所述透镜,使所述透镜的出射光束投射在所述工作平面上的光斑尺寸大于原光学组件的衍射光斑的尺寸,并且小于原光学组件的一衍射光束投射在所述工作平面上的光斑尺寸;以及4)重新在光路中插入所述衍射光学元件。本发明还提供相应的用于抑制衍射光学元件光斑的光学组件。本发明可以较好地适配现存的基于衍射光学元件的器件或设备,通过较为简化的措施即可对这些现存器件或设备进行升级改造,以抑制光斑,改善输出光束的品质。
  • 用于抑制衍射光学元件光斑方法相应组件
  • [发明专利]投射均匀光束的激光投影装置-CN201710780053.3有效
  • 邓想全 - 奥比中光科技集团股份有限公司
  • 2017-09-01 - 2023-09-05 - G03B21/20
  • 本发明提供一种投射均匀光束的激光投影装置,包括:光源,向外发射光束;基底,用于固定所述光源;准直单元,汇聚所述光源发射的光束,并向外投射平行光束;衍射光学元件,接收及扩束所述平行光束,并向外投射图案化光束,所述图案化光束包括衍射光束和高阶衍射光束光束均衡单元,用于接收并且均衡高阶衍射光束衍射光束的能量。光束均衡单元包括两片线偏振片、液晶光调制器设置于两片线偏振片之间并且受液晶驱动电源控制,或光束均衡单元为透过型TFT‑LCD面板和控制器。该投射均匀光束的激光投影装置投射的激光散斑图案具有均匀度更高、对比度更强的特征,并且更符合人眼安全标准。
  • 投射均匀光束激光投影装置

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