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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]夹杂物除去装置-CN200410056449.6无效
发明人：木下阳一 -专利权人：株式会社小松制作所
申请日： 2004-08-09 - 公布日： 2005-02-16 - 主分类号： B60S1/68 文献下载
摘要：一种可减少对轮胎的损伤和对行驶的影响、并可靠地排除夹杂物的夹杂物除去装置。该夹杂物除去装置具有插于双轮胎(12)的至少一个双轮胎(12)之间的至少一个夹杂物除去部件(17)。夹杂物除去部件的顶部(17B)附近的横向的尺寸(W)大于从嵌入安装至少一个双轮胎的轮毂(27)的外圆部(27A)到至少一个双轮胎的轮圈(32)的外圆部(32A)的径向尺寸(D)。
夹杂除去装置

[实用新型]焊渣除去工具-CN201320853861.5有效
发明人：草野雄 -专利权人：广州市极动焊接机械有限公司
申请日： 2013-12-23 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： B23K37/08 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种能容易除去焊渣的焊渣除去工具。本实用新型的焊渣除去工具10包括本体部20、能与本体部20转动的除去基部30、在除去基部30延设的至少一个刀片41，其中，本体部20设置有能插入焊枪Z的喷嘴N和导电嘴K的喷嘴引导部22。刀片41能和喷嘴的内周面N1接触，刀片41在插入喷嘴N的内周面N1和导电嘴K的外周面K1之间的间隙部分后，相对于焊枪Z的喷嘴N，转动刀片41，通过转动方向前侧的宽度方向的端缘部41c、42c，除去附着在喷嘴
除去工具

[实用新型]残纱除去装置-CN201220357626.4有效
发明人：莲井启仁 -专利权人：村田机械株式会社
申请日： 2012-07-23 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： B65H73/00 文献下载
摘要：一种残纱除去装置。在通过残纱抽取装置(2)从筒管抽取残纱(R)的期间，残纱回收装置(4)的筒状部件(91)成为直立的姿态，收容在残纱除去装置(1)的机体(1a)的内部。在残纱(R)的抽取结束、筒管从轨道(101)输送到筒管排出路径之后，通过驱动气缸(92)而使筒状部件(91)以转动轴(93)为中心转动，由此使筒状部件(91)倾斜，使在其上端形成的回收口(91b)位于除去爪单元(24)的除去爪的几乎正下方。在该状态下，解除除去爪对残纱(R)的接触并且使按压部件(81)下降，而将残纱(R)向下方推出，由此使残纱(R)落下到回收口(91b)。
除去装置

[实用新型]活塞除去刺机-CN201120030514.3有效
发明人：陈长胜 -专利权人：厦门永裕机械工业有限公司
申请日： 2011-01-28 - 公布日： 2011-11-16 - 主分类号： B24B9/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种活塞除去刺机，它主要由机壳、气缸、浮动接头、轴承架、从动滚轴、主动滚轴组、电机组成；所述的气缸上的活塞杆与浮动接头的上端连接，浮动接头的下端连接在轴承架上，从动滚轴通过轴承可旋转的套接在轴承架上
活塞除去

[外观设计]阴茎包皮除去环-CN01356823.X无效
发明人：刘成杰;梁水权 -专利权人：刘成杰;梁水权
申请日： 2001-12-14 - 公布日： 2002-10-16 - 主分类号： 24-02 文献下载
摘要：主视图、后视图、左视图、右视图对称，省略后视图、左视图、右视图。
阴茎包皮除去

[发明专利]有机材料除去装置-CN201680083165.7在审
发明人：春日圭一;川澄辛一;小林和仁 -专利权人：日立化成株式会社
申请日： 2016-03-08 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C08J11/16 文献下载
摘要：有机材料除去装置具有：容器，其收纳包含无机材料和通过处理液分解的有机材料的复合材料；处理槽，其具有容纳上述容器的容纳部、使上述处理液流入的处理液流入部、以及使上述处理液流出的处理液流出部；温度管理机构，
处理液有机材料处理槽处理液流出部处理液流入部除去装置流出处理液循环机构温度管理机构容纳无机材料收纳复合材料加热冷却分解

[发明专利]涂敷膜除去装置-CN201580005468.2在审
发明人：久保祐治;上林塁;福原智朗;伊藤裕猛 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2015-01-23 - 公布日： 2016-09-07 - 主分类号： H05B33/10 文献下载
摘要：提供一种能够将涂敷在基板上的涂敷膜的一部分容易且可靠地除去的涂敷膜除去装置。本发明的涂敷膜除去装置具备：涂敷膜除去装置主体(31)具有朝向基板(1)上的涂敷膜(2)中的处于预先设定的位置的涂敷膜除去部从除去液供给口(5a)吐出除去液(8)的除去液供给机构(5)、和将吐出的除去液(8)从除去液回收口(6a)回收的除去液回收机构(6)；高度调整装置，调整基板(1)的表面与位于涂敷膜除去装置主体(31)的除去液供给口(5a)和除去液回收口(6a)之间的平坦的底面之间的距离。
涂敷膜除去装置

[发明专利]杂质的除去方法-CN201280057251.2有效
发明人：横田雅志;小林由典 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2012-11-20 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： C07D201/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种除去杂质的方法，包括：具有用填充材料填充的第一填充层和第二填充层，从位于第一填充层的下方的部位的气体供给部供给含有固体成分或可通过聚合形成固体成分的成分作为杂质的混合气体；在上述蒸馏塔中进行蒸馏根据本发明，能够提供通过蒸馏塔中的蒸馏来分离目的物时将固体成分或可通过聚合形成固体成分的成分作为杂质从蒸馏塔的内部除去的除去杂质的方法。
杂质除去方法

[发明专利]除去闪烁的方法-CN201080059414.1有效
发明人：彼得·斯沙特维特 -专利权人：思科系统国际公司
申请日： 2010-12-07 - 公布日： 2012-12-05 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明公开了一种方法，该方法通过主要调节屏幕刷新率其次调节相机曝光时间来提供对视频会议和视频录制中由线路频率、屏幕刷新率和相机曝光时间之间的差异引起的干扰性照明闪烁的除去，以实现相机所捕捉视频的无闪烁体验
除去闪烁方法

[发明专利]杂质离子除去装置-CN201180003777.8有效
发明人：增长洋登;丸山昇 -专利权人：日理工业株式会社
申请日： 2011-09-13 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G01N30/02 文献下载
摘要：作为从溶液中除去杂质离子的装置，提供在电极附近产生的活性物质或气体不会混入到体系内、以良好的检测灵敏度取出测定对象离子的柱型离子除去装置。，在一方的电极附近设置溶液入口，在下端的另一方的电极侧设置出口，构成狭窄的液体流路，在柱的端部形成以离子交换膜和离子交换体组合的离子界面，使由源自水的解离平衡的偏差所产生的离子朝着电极移动，一边使吸附除去对象杂质离子的离子交换体再生一边将杂质离子排出至外部同时，从外部向电极和离子交换膜之间通水，促进气体、除去对象杂质离子的碱和酸、活性物质向外部排出。
杂质离子除去装置

[发明专利]树脂用除去剂-CN200680001313.2有效
发明人：德桥隆志;岩仓收二 -专利权人：株式会社艾迪科
申请日： 2006-01-10 - 公布日： 2007-11-07 - 主分类号： C11D7/26 文献下载
摘要：一种除去剂，其用于从固体表面除去或者洗涤树脂或树脂组合物，其中，在100质量份的一种以上的有机溶剂中含有1－100质量份的以通式(I)表示的环氧化合物。
树脂除去

[发明专利]钙的除去方法-CN201180030602.6无效
发明人：田村典敏;铃木崇幸;大谷裕一 -专利权人：太平洋水泥株式会社
申请日： 2011-05-11 - 公布日： 2013-02-27 - 主分类号： C02F1/42 文献下载
摘要：本发明提供一种能够降低运转成本的钙的除去方法。使含有钾或／和钠及钙的溶液（L2）通过离子交换树脂(35)，将该钾或／和钠与钙进行分离。不需要以往那样为了除去钙而添加碳酸钾，因此能够大幅降低运转成本。
除去方法

[发明专利]从水中除去汞-CN201080040788.9无效
发明人： E·E·塔洛斯;J·B·克罗斯;S·A·托马斯 -专利权人：科诺科菲利浦公司
申请日： 2010-09-10 - 公布日： 2012-06-13 - 主分类号： C22B43/00 文献下载
摘要：方法和设备涉及从水中除去汞。除去通过在使含水料流与天然气料流接触时将汞从含水料流转移至天然气料流中。在用于从含水料流中分离出汞之后加工天然气料流以从天然气料流中除去汞。
水中除去

[发明专利]清洗除去用溶剂-CN200580027716.X无效
发明人：片野彰;加藤哲也;原田光治 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-07-07 - 公布日： 2007-07-25 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供在清洗用于形成滤色器或黑矩阵图案的颜料分散型感光性树脂组合物时性能特别优异的清洗除去用溶剂。该清洗除去用溶剂是汉森(Hansen)溶解参数中的氢键力参数(δ_H)为5～10的溶剂。
清洗除去溶剂

[发明专利]半导体干式工艺后的残渣除去液和使用该除去液的残渣除去方法-CN200980133415.3有效
发明人：中村新吾 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 2009-08-04 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在短时间内完全除去干式工艺后的残渣的药液，其对Low-k膜的损伤比现有技术小，抑制Cu的腐蚀，通过不除去在Cu表面存在的在干式工艺中受到损伤形成的薄膜而使其残留，不会发生Cu表面的龟裂和表面粗糙具体而言，提供一种含有一元羧酸的胺盐、和/或与铜形成七元环以上的螯合物的多元羧酸盐以及水的干式工艺后的残渣除去液，该残渣除去液包括下述(A)或(B)，(A)是包括(1)25℃时的pKa为3以上的布朗斯台德酸
半导体工艺残渣除去使用方法

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