专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果879914个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种镧锰氧/铱异质薄膜制备方法-CN202210416790.6在审
  • 王学锋;朱长征;刘汝新;张旭;张荣 - 南京大学
  • 2022-04-20 - 2022-07-08 - H01L21/363
  • 本发明公开了一种镧锰氧/铱异质薄膜制备方法,所述镧锰氧/铱异质是采用脉冲激光沉积法制备,经过预处理好的基片放入真空腔室内加热到一定的温度,在一定的氧气压力条件下,利用脉冲激光轰击靶材产生的等离子羽辉沉积样品,首先沉积铱薄膜,沉积结束后进行原位退火,之后在相同条件下以相同步骤继续沉积镧锰氧薄膜,最后再原位退火后降温至室温。本发明制备的镧锰氧/铱异质制备方法简单快捷,所制备的镧锰氧/铱异质薄膜具有明显的界面磁性,通过调节异质中镧锰氧的厚度可以有效的对异质的界面磁性进行调控,在自旋电子器件领域有着广阔的应用前景
  • 一种镧锰氧铱酸锶异质结薄膜制备方法
  • [发明专利]一种p-n异质光探测器-CN201010131670.9无效
  • 王淑芳;陈明敬;傅广生;陈景春;何立平;于威;李晓苇 - 河北大学
  • 2010-03-25 - 2010-09-08 - H01L31/109
  • 本发明提供一种p-n异质光探测器,属于薄膜光探测器技术领域,所要解决的技术问题是提供一种在掺铌单晶基底上外延生长一层错配层钴氧化合物薄膜的p-n异质光探测器,其技术方案是:它由掺铌单晶基底和错配层钴氧化合物薄膜组成,错配层钴氧化合物薄膜采用脉冲激光沉积技术或金属有机沉积技术外延生长在掺铌单晶基底上,在掺铌单晶基底和错配层钴氧化合物薄膜上各有一个采用热蒸发、磁控溅射或脉冲激光沉积技术沉积在基底和薄膜表面的电极
  • 一种异质结光探测器
  • [发明专利]具有磁电阻特性的异质材料-CN200510135499.8无效
  • 吕惠宾;何萌;赵昆;黄延红;金奎娟;刘国珍;邢杰;陈正豪;周岳亮;杨国桢 - 中国科学院物理研究所
  • 2005-12-31 - 2007-07-04 - H01L43/08
  • 本发明涉及一种具有磁电阻特性的新型异质材料,包括在衬底上生长有掺杂锰氧化物层,在所述的掺杂锰氧化物层上生长的辅助层;在辅助层面上生长有掺杂锰氧化物层,掺杂锰氧化物层再生长辅助层,依次进行叠层;制备两种材料异质磁电阻材料也可以把掺杂锰氧化物和与铝镧或与钛酸钡、或钛酸钡与铝镧的三种材料,进行周期性的交替叠层,制备三种材料的多层膜或超晶格结构的磁电阻异质材料,其中掺杂锰氧化物层层厚为0.8nm~5μm,辅助层的厚度为上述异质材料具有低场高灵敏度磁电阻特性,即使在室温也具有大于30%的磁电阻变化率,在磁记录、磁头和传感器等方面具有非常广泛的应用。
  • 具有磁电特性异质结材料
  • [发明专利]一种SrTiO3-CN202010776810.1有效
  • 张勇;蔡婧怡;吴玉程;张雪茹;崔接武;王岩;秦永强;舒霞 - 合肥工业大学
  • 2020-08-05 - 2022-04-19 - B01J27/053
  • 本发明公开了一种SrTiO3/SrSO4/Pt的双异质纳米材料的制备方法,具体步骤如下:利用去离子水、冰醋酸、无水乙醇作为溶剂硝酸四丁酯分别作为源和源。加入的半胱氨酸不仅作为螯合剂,也用做硫源。先采用溶胶凝胶法制备出前驱体,然后在干燥箱内低温烘干48小时,研磨后在马弗炉中退火得到硫酸的复合粉末;最后通过光沉积法,在表面沉积上一层铂作为助催化剂,得到SrTiO3/SrSO4/Pt双异质纳米材料。本发明的SrTiO3/SrSO4/Pt双异质纳米材料具有多孔结构,具有较大的比表面积,可为光催化反应提供更多的活性位点
  • 一种srtiobasesub
  • [发明专利]一种黑磷-二维电子气异质忆阻器及其制备方法-CN202111006746.X在审
  • 姜昱丞;马兴龙;高炬 - 苏州科技大学
  • 2021-08-30 - 2021-11-30 - H01L45/00
  • 本发明公开了一种黑磷‑二维电子气异质忆阻器及其制备方法,该忆阻器从下至上依次为衬底、二维异质、金属电极、保护层及导线,其制备方法主要包括以下步骤:机械剥离减薄黑磷、光刻、磁控溅射金电极、光刻、离子束轰击制备二维电子气、涂覆保护层、焊接导线,得到由黑磷作为P端、二维电子气作为N端的异质忆阻器。由黑磷与衬底表面的二维电子气构成的二维异质结在其界面处具有铁电性,使其内电势可被外界施加的激发电压所调控,由该异质结构筑的忆阻器可通过控制外加电压调节电阻,且其电阻表现出非易失性的变化,在10
  • 一种黑磷二维电子气异质结忆阻器及其制备方法
  • [发明专利]一种异质、铁电隧道及其制备方法和应用-CN201310258989.1有效
  • 杨锋;胡广达;武卫兵;杨长红;吴海涛 - 济南大学
  • 2013-06-26 - 2013-10-09 - H01L45/00
  • 本发明公开了一种异质,包括衬底和在衬底上外延生长的一层铁电薄膜,所述衬底为n型或p型掺杂硅半导体,所述铁电薄膜为SrTiO3薄膜。本发明还公开了一种铁电隧道,包括上述异质,所述异质的铁电薄膜表面覆有上电极,异质的铁电薄膜作为铁电隧道的势垒层,异质的衬底作为铁电隧道的下电极。本发明还公开了它们的制备和应用。本发明异质结实现了与非本征硅的直接外延生长,表现出了稳定的极化翻转特性,制成隧道可电调制势垒的高度而且可电调制势垒的宽度,从而大大提高了隧道电阻。
  • 一种异质结隧道及其制备方法应用
  • [发明专利]一种表面电子气PN的制备方法-CN201911061487.3在审
  • 姜昱丞;贺安鹏 - 苏州科技大学
  • 2019-11-01 - 2020-02-21 - H01L21/34
  • 本发明公开了一种表面电子气PN的制备方法,属于材料技术领域。本发明在基片表面沉积或粘贴P型材料,利用光刻技术将P型材料表面的部分面积用光刻胶覆盖,用离子束将未被光刻胶覆盖的P型材料全部刻蚀掉后,再经刻蚀衬底使其表面形成表面电子气,最后用丙酮、酒精、去离子水去除光刻胶后,即可获得表面电子气与P型材料的PN。本发明提供了一种简易、普适性的方法用于构建表面电子气与P型材料的PN
  • 一种钛酸锶表面电子pn制备方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top