专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]镀膜方法-CN200710203468.0无效
  • 简士哲 - 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
  • 2007-12-27 - 2009-07-01 - C23C14/32
  • 一种镀膜方法,在镀膜过程中提供一个气体和一个离子,气体用于镀膜过程中的化学反应,离子用于发射离子,以利用离子轰击效应辅助镀膜,且至少在一次镀膜材料切换时的离子强度小于镀膜过程中最大的离子强度上述镀膜方法中利用离子与氧气的配合,增加了膜层附着性与致密性,又利用了离子强度的变化,降低了膜层之间的应力作用,有效的防止了膜层的破裂和脱膜,提高了膜品质。
  • 镀膜方法
  • [发明专利]一种离子极片清洗装置-CN202011576219.8在审
  • 彭真;杨俊林 - 广州禾信仪器股份有限公司
  • 2020-12-28 - 2021-04-16 - B08B1/04
  • 本发明公开了一种离子极片清洗装置,设计离子极片清洗技术领域;该离子极片清洗装置用于清洗质谱仪的离子极片,质谱仪包括壳体,壳体内开设有过渡腔,过渡腔内安装有离子极片和活动地设置于过渡腔内的样品靶托,样品靶托具有与过渡腔连通的安装腔,安装腔用于安装样品;该离子极片清洗装置包括清洗靶,清洗靶包括靶座和清洗刷,靶座与样品靶托的尺寸适配,且用于安装于安装腔内,清洗刷设置于靶座,且至少部分伸出安装腔,且被配置为在样品靶托的带动下清洗离子极片该离子极片清洗装置具有极片清洗便捷、清洗时间短、效率高、成本低,且无需拆卸离子极片,能有效地保证仪器整体精密度的优点。
  • 一种离子源清洗装置
  • [发明专利]一种离子真空接口装置及其清洗方法-CN202211568573.5在审
  • 张鑫 - 安徽皖仪科技股份有限公司
  • 2022-12-07 - 2023-03-28 - H01J49/10
  • 本发明公开了一种离子真空接口装置及其清洗方法,离子真空接口装置包括真空腔、采样锥、离子雾化器以及激光吹扫系统,激光吹扫系统包括激光器、驱动激光器运动的扫描机构以及负压发生器,离子雾化器的出口位于激光器与采样锥的入口之间,负压发生器位于离子雾化器的出口的下方位置,离子雾化器通过调节机构安装在真空腔内,激光吹扫系统与质谱仪的控制系统连接。本发明能够去除离子的污染,使操作人员无需手动擦拭、清洗离子。减少工作量。本发明能够保持离子的清洁,有利于保持质谱仪测量结果的稳定性和重现性,使质谱仪能够直接分析比较脏的样品,比如血样、生物组织、食品等复杂基质的样品,可以减少样品前处理的步骤。
  • 一种离子源真空接口装置及其清洗方法
  • [实用新型]一种中子发生器离子放电特性测试装置设计-CN201620553265.9有效
  • 刘伟波 - 滨州学院;李明娟
  • 2016-06-06 - 2016-12-28 - G01R31/12
  • 本实用新型公开了一种中子发生器离子放电特性测试装置设计,包括中子发生器离子(1)、实验支架(2)、控制台(3)、磁场测量装置(4)、高真空气压测量装置(5)、低真空气压测量装置(6)。中子发生器离子紧紧固定在实验支架上,高真空气压测量装置和低真空气压测量装置接在中子发生器排气口附近,与中子发生器一起排气后封真空;磁场测量装置接入离子中,用来测量离子中的磁场强度;控制台用来调节和显示气压调节电流、离子电压和离子电流。该装置可以测试中子发生器离子的放电特性,得到放电电流与离子电压、气压和磁场强度之间的关系,具有操作简单方便、实验测量精度高等优点。
  • 一种中子发生器离子源放电特性测试装置设计
  • [实用新型]一种离子极片清洗装置-CN202023229491.7有效
  • 彭真;杨俊林 - 广州禾信仪器股份有限公司
  • 2020-12-28 - 2021-10-01 - B08B1/04
  • 本实用新型公开了一种离子极片清洗装置,设计离子极片清洗技术领域;该离子极片清洗装置用于清洗质谱仪的离子极片,质谱仪包括壳体,壳体内开设有过渡腔,过渡腔内安装有离子极片和活动地设置于过渡腔内的样品靶托,样品靶托具有与过渡腔连通的安装腔,安装腔用于安装样品;该离子极片清洗装置包括清洗靶,清洗靶包括靶座和清洗刷,靶座与样品靶托的尺寸适配,且用于安装于安装腔内,清洗刷设置于靶座,且至少部分伸出安装腔,且被配置为在样品靶托的带动下清洗离子极片该离子极片清洗装置具有极片清洗便捷、清洗时间短、效率高、成本低,且无需拆卸离子极片,能有效地保证仪器整体精密度的优点。
  • 一种离子源清洗装置
  • [实用新型]一体式离子腔体、一体式离子和质谱仪-CN202221024048.2有效
  • 黄晓圳;施继坚;黄飞鸿;江高雄;吴思瑶 - 中元汇吉生物技术股份有限公司
  • 2022-04-29 - 2022-08-16 - H01J49/10
  • 本实用新型公开了一种一体式离子腔体,包括腔体本体,腔体本体的底部设有底孔,底孔内设有第一安装座,腔体本体的顶部设有顶孔,顶孔内设有安装板。本实用新型还公开了一种一体式离子,包括如上的一体式离子腔体,安装座上安装有离子座,离子座与安装板之间安装有离子通道。本实用新型还提出了一种质谱仪。通过在腔体本体的底部设置底孔、顶部设置顶孔,底孔内设置第一安装座用于安装离子座,顶孔内设置安装板用于安装离子通道,如此,离子座和离子通道均设置在腔体本体内,从而能够省却不必要的密封装配结构,能够减少密封泄漏点和减少因分体设置为离子下腔体和离子上腔体时存在的装配误差
  • 体式离子源质谱仪
  • [实用新型]一种离子注入机用离子盖板-CN202123364754.X有效
  • 张玲 - 扬州信尚电子科技有限公司
  • 2021-12-29 - 2022-07-26 - H01J37/317
  • 本实用新型涉及离子注入机技术领域,公开了一种离子注入机用离子盖板,包括离子盖板本体,所述离子盖板本体的后端连接有起弧室前引导板,所述起弧室前引导板上开设有导流狭缝,所述离子盖板本体为中空结构。本实用新型通过启动循环泵带动离子盖板本体内的冷却液进行循环,当冷却液对离子盖板本体的热量吸收流动到冷却铜管上,然后启动排风扇对冷却铜管进行降温,同时冷却铜管置于冷却箱的冷却水再次对冷却铜管内的冷却液进行降温,从而提高离子盖板本体降温的效果,不仅避免离子盖板本体温度过高变形等离子体从形变的狭缝中喷出而影响工艺的稳定性,而且避免离子盖板本体变形更换提高维修成本。
  • 一种离子注入离子源盖板
  • [实用新型]一种光学镀膜机的离子及光学镀膜机-CN202123269951.3有效
  • 熊凯;王俊;周露露 - 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
  • 2021-12-23 - 2022-07-26 - C23C14/30
  • 本实用新型公开一种光学镀膜机的离子,涉及光学镀膜机技术领域,解决了相关技术中离子刚打开时可能导致光学镀膜机腔室内电路系统故障的技术问题。光学镀膜机的伞架和离子均设于光学镀膜机的真空腔室中,离子包括离子本体和挡板,离子本体设于伞架下方,挡板配置有移动控制机构,以控制挡板移动至或移开离子本体和伞架之间。在伞架与离子本体之间增设挡板,并且相应设置移动控制机构,以控制挡板的移动,具体在离子本体启动时将挡板移动至离子本体与伞架之间,改善离子启动时的高能量对伞架上基片初始膜层的影响;在离子本体稳定的时候再打开挡板,控制挡板从离子本体与伞架的中间区域移开。
  • 一种光学镀膜离子源

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