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[发明专利]衬底处理装置、衬底载置台罩及半导体器件的制造方法-CN202180012211.5在审
发明人：佐藤崇之;室林正季;竹岛雄一郎;和久井友一 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2021-03-19 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：衬底处理装置，其具备：供衬底被收容的处理室；衬底载置台，其设置于处理室内，利用加热器而被加热；衬底载置台罩，其是以配置于衬底载置台的上表面之上，在上表面载置衬底的方式构成的，衬底载置台罩由碳化硅构成，至少在载置衬底的一侧的表面具有规定的第
衬底处理装置载置台罩半导体器件制造方法

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201811145205.3有效
发明人：古矢正明;森秀树 -专利权人：芝浦机械电子株式会社
申请日： 2018-09-29 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：实施方式的基板处理装置具备：作为交接台发挥功能的缓冲单元(14)，具有分开地支承基板(W)的第1载置台(14a1)以及第2载置台(14a2)；以及作为输送部发挥功能的第2输送机器人(15)，具有保持基板缓冲单元(14)形成为能够实现：手部(31)从第1载置台(14a1)的上位置朝向下位置向下方向移动，将第1载置台(14a1)置于基板(W)，移动到第1载置台(14a1)的下位置的手部(31)从第1载置台(14a1)的下位置向第2载置台(14a2)的下位置横向移动，移动到第2载置台(14a2)的下位置的手部(31)从第2载置台(14a2)的下位置朝向上位置向上方向移动，从第2载置台(14a2)抬起基板(
处理装置以及方法

[发明专利]载置台构造以及热处理装置-CN200910118179.X有效
发明人：田中澄 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-03-11 - 公布日： 2009-09-16 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种载置台构造，即使被处理体与夹紧环部件接触，也能够提高被处理体的面内温度的均一性，提高热处理的面内均一性。在处理容器(4)内为了对被处理体(W)实施规定的热处理而载置被处理体的载置台构造中，包括：载置台(32)，其由透明材料构成，在内部收容有加热被处理体的加热单元(38)；均热板(42)，其由不透明材料构成，设置在载置台的上表面，并且其直径设定得比载置台的直径小，在上表面直接载置被处理体；和夹紧机构(50)，其能够升降地设置在载置台的周边部的上方，具有向载置台侧挤压被处理体的由不透明材料构成的夹紧环部件(
载置台构造以及热处理装置

[发明专利]一种降低射频耦合的等离子体处理装置及载置台-CN201110420481.8有效
发明人：凯文·佩尔斯 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2011-12-15 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种降低射频耦合的等离子体处理装置的载置台，所述载置台用于载置被处理基板，所述载置台至少包括：下部电极，其与设置于所述载置台之外的上部电极相适应并配合产生用于对被处理基本进行的射频；基板固定装置，其设置于所述下部电极的上方，用于载置被处理基板；其特征在于，至少所述下部电极的上部的至少一个区域被设置为电容耦合区，所述电容耦合区由多层金属层与多层绝缘层间隔地组成。还提供一种等离子体处理装置，其包括所述载置台。本发明通过在载置台的下部电极上设置电容耦合区，通过多层绝缘层、金属层的叠加来形成多个电容，进而改善所述载置台的射频耦合的均一程度。
一种降低射频耦合等离子体处理装置载置台

[实用新型]电子元件的真空入料装置-CN201220366197.7有效
发明人：廖连亨 -专利权人：廖连亨
申请日： 2012-07-26 - 公布日： 2013-02-06 - 主分类号： B65G51/02 文献下载
摘要：本实用新型关于一种电子元件的真空入料装置，主要包括有一送料装置及一载带承台，该送料装置包括有一置料载台及一可转动地结合于该置料载台的送料盘，在该置料载台内设有一吹气孔，该载带承台抵靠于该置料载台的一侧，在该载带承台包括有一活动载带及一料盘压块，该活动载带可平移作动地结合于该载带承台内，在该料盘压块内设置有一真空通道；本实用新型能够通过该置料载台的吹气孔将该置料盘内的一电子元件吹入该载带承台，并通过该料盘压块的真空通道产生吸力，将该电子元件吸入该活动载带内，有效地节省生产周期，并提高产品良率。
电子元件真空装置

[发明专利]载置台和等离子体处理装置-CN202011014970.9在审
发明人：田村一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-09-24 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种载置台和等离子体处理装置。提供使基板温度的面内均匀性提高的载置台。提供一种载置台，该载置台具有：载置面，其用于载置基板；电极，其配置在所述载置面的下方，用于施加偏压电力；供电线，其配置在所述电极的下方，用于施加偏压电力；以及供电端子，其将所述电极和所述供电线电连接，该供电端子与所述电极连接的面的面积大于与所述供电线连接的面的面积
载置台等离子体处理装置

[发明专利]载置台和电子器件测试装置-CN201780072416.6有效
发明人：河西繁;藤泽良德 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G01R31/26 文献下载
摘要：探针台(10)包括用于载置载体(C)或晶片(W)的载置台(11)，该载置台(11)包括用于载置载体(C)的载置台盖(27)、与该载置台盖(27)抵接的冷却单元(29)、和隔着载置台(27)和冷却单元(29)与载体(C)相对配置的LED照射单元(30)，载置台盖(27)和冷却单元(29)由透光材料构成，可透光的冷却介质在冷却单元(29)的冷却介质流路(28)中流动，LED照射单元(30)包括面向载体(C)
载置台电子器件测试装置

[发明专利]元件供给系统-CN201680085989.8有效
发明人：杉原章郎 -专利权人：株式会社富士
申请日： 2016-05-31 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： H05K13/02 文献下载
摘要：在本发明的散装元件供给装置中，通过拍摄装置来拍摄供元件散布的载置台，将由拍摄装置拍摄到的载置台的区域划分为20×20个块。并且，对应每个块来计算未载置元件的状态下的载置台的拍摄数据即第一拍摄数据与向载置台上补给元件而元件的供给开始之后的载置台的拍摄数据即第二拍摄数据的差值。在该差值为阈值以上的情况下，判定为在块存在元件，在判定为存在该元件的块的数量为设定数量以下的情况下，向载置台补给元件。由此，能够在恰当的时机下向载置台补给元件。
元件供给系统

[发明专利]被处理体的载置装置和处理装置-CN201910161642.2在审
发明人：内田阳平;须川直树;阿部克史;肥田刚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-03-04 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明目的在于提供一种被处理体的载置装置，具有使边缘环与载置台稳定地接触的结构。该载置装置包括：在处理容器的内部载置被处理体的载置台；边缘环，其在上述被处理体的外周部载置在上述载置台，形成有卡止部；导电性的连接部，其通过上述卡止部与上述边缘环连接；和第一接触部，其在使上述边缘环与该连接部连接的状态下使上述边缘环与上述载置台接触
边缘环被处理体载置装置卡止部载置台载置导电性处理容器处理装置外周部

[发明专利]节流孔构件的载置台及方法和液封式防振支架的制造方法-CN201911248605.1有效
发明人：佐佐木大洋 -专利权人：通伊欧轮胎株式会社
申请日： 2019-12-09 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： F16F13/10 文献下载
摘要：判定载置于载置台的节流孔构件的载置状态和类别。载置台(3)具有测定载置的节流孔构件(57)的上下位置的测定部(4)、卡合于与载置台(3)对应的类别的节流孔构件(57)的一部分的位置限制部(62、63、74)和基于测定部(4)的测定结果判定节流孔构件(57)的载置状态和类别的节流孔构件判定部(14)。位置限制部(62、63、74)在对应的类别的节流孔构件(57)以正确姿势被载置时，与节流孔构件(57)卡合而使节流孔构件(57)以下端部的整周落座于载置台(3)，在其他类别的节流孔构件(57)被载置时或对应的类别的节流孔构件(57)以错误姿势被载置时，不与节流孔构件(57)卡合而将节流孔构件(57)的至少一部分从载置台(3)抬升。
节流构件载置台方法液封式防振支架制造

[发明专利]物品输送设备-CN201710112497.X在审
发明人：堀井高宏;和田吉成 -专利权人：株式会社大福
申请日： 2017-02-28 - 公布日： 2017-09-05 - 主分类号： B65G35/06 文献下载
摘要：提供一种能够更灵活地设定调整用载置面、能够有效率地进行物品输送车的调整的技术。具备物品输送车（1）的物品输送设备，具备调整用载置台（4），该调整用载置台（4）具有调整用载置面（P），该调整用载置面（P）能够以与在载置台上载置物品的方式相同的方式载置用来调整输送用配置文件信息的调整用装置（C），所述物品输送车（1）被设置在顶棚上的行进轨道（R）悬挂支承，将物品从作为输送源的载置台向作为输送目的地的载置台悬挂支承地输送。调整用载置面（P）能够在预先限定的上限高度（HL）与下限高度（LL）之间无级地设定为不同的高度。
物品输送设备

[发明专利]输送托盘-CN202211464726.1在审
发明人：辻伶 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2022-11-22 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： B65D19/38 文献下载
摘要：本发明提供一种输送托盘(100)，用于输送安装有膜体的中间板，其中，具备：基台(10)；载置台(20)，设置于基台(10)的上表面，载置中间板(220)；及支承部(30)，设置于载置台(20)的背面。基台(10)与载置台(20)的一端部通过第一铰链部(51)结合，载置台(20)的背面与支承部(30)的一端部通过第二铰链部(52)结合。通过第一铰链部(51)和第二铰链部(52)的转动，切换将支承部(30)容纳在基台(10)与载置台(20)的背面之间的平置状态、和在支承部(30)的另一端部与基台(10)抵接的状态下支承部(30)支承载置台
输送托盘

[发明专利]插秧机-CN201380068822.7在审
发明人：松尾宪和 -专利权人：洋马株式会社
申请日： 2013-12-13 - 公布日： 2015-09-02 - 主分类号： A01C11/02 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种插秧机，在秧苗载置台位于导轨的秧苗载置台的移动方向的端部时，能够防止导轨的秧苗载置台的移动方向的端部产生挠曲，切实地利用栽插爪刮取载置于秧苗载置台的秧苗(秧苗垫)，作为解决手段，在具备构成为能够在下导轨(24)(导轨)上移动的秧苗载置台(25)的插秧机(1)中，具备支承部件(26)，该支承部件(26)构成为对导轨的秧苗载置台(25)的移动方向的端部进行支承。
插秧机

[发明专利]秧苗移植机-CN201110072560.4有效
发明人：神谷寿;川田诚;今泉大介;山口信 -专利权人：井关农机株式会社
申请日： 2011-03-24 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： A01C11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种即使送苗装置、秧苗插植装置等配置得复杂也容易进行秧苗载置台的维护作业的秧苗移植机。在秧苗移植机中，经由升降连杆装置在行驶车身设有秧苗插植部，在秧苗插植部设置有：传动箱；载置秧苗的秧苗载置台(80)；沿左右方向设于秧苗载置台(80)下部的秧苗托架(81)；将载置于秧苗载置台(80)的秧苗送出的送苗装置；以及秧苗载置台(80)左右移动的导程凸轮，秧苗移植机的特征在于，秧苗移植机设有连接秧苗载置台(80)和导程凸轮的连接机构(40)，连接机构(40)由形成有移动槽的上升引导件(43)和移动自如地设在移动槽内的上升支承轴(46)构成，上升支承轴(46)固定于秧苗载置台(80)。
秧苗移植

[发明专利]收容体-CN202180048036.5在审
发明人：田中邦彦;田中信 -专利权人：藏寿司股份有限公司
申请日： 2021-07-09 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： A47G23/08 文献下载
摘要：本发明是一种收容装载饮食物的容器并通过输送通路来输送的收容体，其具备：载置台，其具有载置所述容器的载置位置；盖体，其相对于所述载置台以能够开闭的方式安装；开闭机构，其用于在所述容器载置于所述载置台的所述载置位置时，使所述盖体成为闭合状态，并且在所述容器从所述载置位置脱离时，使所述盖体转移到敞开状态；以及操作单元，其用于使所述容器从所述载置位置脱离。
收容