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[发明专利]可降低污染物的衬底传送及支撑系统-CN200810126913.2有效
发明人：维克·D·帕克海;马修·利奥波德;蒂莫西·罗南;托德·W·马丁;爱德华·黄;尼汀·库拉纳;徐松文;理查德·费伊;克里斯托弗·哈格蒂;迈克尔·赖斯;达里尔·安杰洛;库尔特·J·阿曼;马修·C·蔡;史蒂夫·森索尼 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2005-02-23 - 公布日： 2009-03-25 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及一种可降低污染物的衬底传送及支撑系统，其中一种将衬底运送到处理腔室中的衬底支撑件上的运送系统，包含：将衬底运送到输送臂；检测器，用于检测输送臂在腔室中的位置并产生关于该位置的信号；衬底提升组件，用于自输送臂接收衬底并降低衬底到支撑件上；及控制器，包含程序代码来控制输送臂、检测器及提升组件以将衬底运送到衬底支撑件上，程序代码包含衬底居中控制代码，用以控制衬底输送臂的移动以将衬底定位到支撑件的中央，其通过(1)接收来自检测器的信号并判定在处理腔室中衬底的位置，(2)计算包含衬底所检测到的位置与处理腔室的中心之间的差的偏移距离，及(3)产生关于偏移距离的控制信号控制输送臂以将衬底定位到支撑件的中央
降低污染物衬底传送支撑系统

[发明专利]半导体制造方法和半导体制造装置-CN01116233.3有效
发明人：长谷川博之;山冈智刚;石原良夫;增崎宏 -专利权人：三菱麻铁里亚尔硅材料株式会社;日本酸素株式会社
申请日： 2001-02-28 - 公布日： 2001-09-12 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：在设置衬底的状态下测量反应室1内或该反应室的气体排放系统内的水分浓度,根据该水分浓度调整反应性气体处理的条件。并且,在用连接于衬底运送系统2、3内密闭空间的第1水分计6测量上述密闭空间的水分浓度后,用上述衬底运送系统进行送入或取出衬底W的衬底运送工序,及在该衬底运送工序后,用连接于反应室1的第2水分计一边测量反应室内的水分浓度一边进行反应性气体处理的处理工序
半导体制造方法装置

[发明专利]衬底运送器-CN201810456586.0有效
发明人： D.巴布斯;R.T.卡夫尼;R.C.梅;K.A.马查克 -专利权人：博鲁可斯自动化美国有限责任公司
申请日： 2014-01-22 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：衬底运送系统包括：载体，其具有壳体以及门，壳体形成内部环境，内部环境具有开口，以保持至少一个衬底，门用于将开口与外部气氛密封开，其中在被密封时，内部环境构造成保持其中的内部气氛，壳体包括流体贮存器，其在内部环境的外部且构造成容纳流体
衬底运送

[发明专利]衬底运送器-CN201480017533.9有效
发明人： D.巴布斯;R.T.卡夫尼;R.C.梅;K.A.马查克 -专利权人：布鲁克斯自动化公司
申请日： 2014-01-22 - 公布日： 2018-06-12 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：衬底运送系统包括：载体，其具有壳体以及门，壳体形成内部环境，内部环境具有开口，以保持至少一个衬底，门用于将开口与外部气氛密封开，其中在被密封时，内部环境构造成保持其中的内部气氛，壳体包括流体贮存器，其在内部环境的外部且构造成容纳流体
内部环境壳体流体贮存器衬底密封外部开口衬底运送系统环境密封流体阻隔密封件运送器流体容纳

[发明专利]用于大规模生产有机场致发光器件的设备-CN02822744.1有效
发明人：郑光镐;李三铉;黄昌勋 -专利权人：郑光镐
申请日： 2002-11-15 - 公布日： 2005-03-02 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：根据本发明用于制造有机场致发光器件的所述设备包括：一个衬底运送腔室(100)，其中成形有多个用于安装处理腔室的开口(110)，并且安装有一个泵端口(120)；一个衬底运送装置(200)，其安装于衬底运送腔室(100)中，用于在衬底运送腔室(100)的内部将在多个开口(110)中处理后的衬底运送至下一个开口；以及多个分别固附在衬底运送腔室(100)的开口上的腔室(300)。因此，所述衬底可以在衬底运送腔室的内部得以运送，并且可以在所述多个腔室的内部同时执行如衬底清洁、掩模对准和清洁、以及气相沉积的相关工艺。
用于大规模生产机场发光器件设备

[发明专利]制造半导体器件的方法-CN201310300247.0有效
发明人：酒井宣隆;大武守;斋藤浩儿;高桥富视 -专利权人：瑞萨电子株式会社
申请日： 2013-07-12 - 公布日： 2014-01-29 - 主分类号： H01L21/50 文献下载
摘要：分别向在制造半导体器件(QFP)时使用的多个衬底(引线框)和向用于运送多个衬底的运送单元(架、批次、堆叠箱等)附着唯一标识信息。然后相互关联运送单元的标识信息(架ID)和向运送单元中存储的衬底的标识信息(衬底ID)。然后，在从向每个制造装置的加载器单元设置的运送单元取出衬底并且向装置的处理单元供应衬底时以及在向装置的卸载器单元的运送单元中存储其处理完成的衬底时，检查在运送单元的标识信息与衬底的标识信息之间的关联性。
制造半导体器件方法

[发明专利]制造半导体器件的方法-CN201711266580.9有效
发明人：酒井宣隆;大武守;斋藤浩儿;高桥富视 -专利权人：瑞萨电子株式会社
申请日： 2013-07-12 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：分别向在制造半导体器件(QFP)时使用的多个衬底(引线框)和向用于运送多个衬底的运送单元(架、批次、堆叠箱等)附着唯一标识信息。然后相互关联运送单元的标识信息(架ID)和向运送单元中存储的衬底的标识信息(衬底ID)。然后，在从向每个制造装置的加载器单元设置的运送单元取出衬底并且向装置的处理单元供应衬底时以及在向装置的卸载器单元的运送单元中存储其处理完成的衬底时，检查在运送单元的标识信息与衬底的标识信息之间的关联性。
制造半导体器件方法

[发明专利]真空处理装置、真空处理方法以及计算机可读存储介质-CN200880123293.5无效
发明人：广木勤 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-12-17 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：真空处理装置包括：预备真空室，其内部压力能够被切换为常压和负压，衬底被运入运出该预备真空室；对衬底进行各种处理的多个真空处理室；真空运送室，其与预备真空室以及多个真空处理室连接，并包括在预备真空室和多个真空处理室之间运送衬底的衬底运送机构、以及形成在底部或顶棚部的凹部；附属模块，其对衬底运送机构进行预定的处理；以及升降机构，其在第一位置和第二位置之间移动附属模块，其中，第一位置是附属模块被容纳到凹部以便不妨碍衬底运送机构运送衬底的位置，第二位置是衬底通过衬底运送机构能够进出附属模块的位置。
真空处理装置方法以及计算机可读存储介质

[发明专利]探测装置以及衬底运送方法-CN201010532051.0有效
发明人：带金正;矢野和哉;山田浩史;铃木胜;山本保人 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-10-27 - 公布日： 2011-07-06 - 主分类号： G01R31/28 文献下载
摘要：本发明提供探测装置以及探针装置中的衬底运送方法。探测装置包括：配置在直线上的多台探测检查室；以及具有衬底运送机构的装载室，其中衬底运送机构从配置在比探测检查室靠上的位置的收纳容器中取出被检查衬底，在将被检查衬底下降到探测检查室的运入运出口的高度之后，在探测检查室的列的前方与该列平行地移动，并将从收纳容器取出的被检查衬底运送到探测检查室内；并且在使衬底运送机构在探测检查室的列的前方与该列平行地移动的水平移动机构上设置有读取机构，该读取机构用于读取被衬底运送机构支承的被检查衬底上所记录的信息
探测装置以及衬底运送方法

[发明专利]衬底中心检测方法、衬底运送方法、运送单元及包括运送单元的衬底处理装置-CN201610850986.0有效
发明人：金德植;金贤俊 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2016-09-26 - 公布日： 2019-10-15 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：提供衬底中心检测方法、衬底运送方法、衬底运送单元及衬底处理装置。根据实施例，衬底中心检测方法包括：第一位置检测步骤，检测衬底的四个边沿位置；凹槽存在性判断步骤，判断四个边沿位置中是否存在凹槽；衬底移动步骤，当四个边沿位置中存在凹槽时移动衬底；中心计算步骤，计算衬底中心，中心计算步骤包括：第二检测步骤，重新检测衬底的四个边沿位置；第一中点计算步骤，使用第一位置检测步骤中检测的衬底的四个边沿位置中的三个边沿位置计算衬底的第一中点；第二中点计算步骤，使用第二位置检测步骤中检测的衬底的四个边沿位置中的三个边沿位置计算衬底的第二中点；第一确定步骤，基于衬底的第一和第二中点的移动状态确定衬底的真实中点。
衬底中心检测方法运送单元包括处理装置

[发明专利]用于衬底圆片的单面湿处理的装置和方法-CN201110431032.3无效
发明人： M·米歇尔;M·卡格勒;G·阿特斯 -专利权人：商先创光伏股份有限公司
申请日： 2011-12-20 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于对衬底圆片进行湿处理的装置，该装置具有多个池，各池分别具有用于引入工艺液体的至少一个第一入口和平坦的水平定向的上边缘。设置用于运输衬底圆片经过沿该运输单元的运输方向相继设置的至少两个池的运输单元，其中运输单元具有多个位于池之外的衬底运送元件，这些衬底运送元件从下面与待运送的衬底接触并运送衬底。此外还涉及一种用于对衬底圆片进行湿处理的方法，在该方法中，衬底圆片经由运输单元沿运输方向经过沿运输方向相继设置的至少两个池运输。在运输过程中，衬底圆片置于至少两个衬底运送元件上面，这些运送元件设置在池外面并从下面与衬底圆片接触，其中工艺液体分别如此引入池中，以使工艺液体至少局部地越过池的上边缘，并且其中衬底圆片被如此运输，以使工艺液体与衬底圆片的底面接触
用于衬底单面处理装置方法

[发明专利]用于模板印刷机的升降工具组装件-CN201680029850.1有效
发明人：丹尼尔·马里亚诺 -专利权人：伊利诺斯工具制品有限公司
申请日： 2016-02-22 - 公布日： 2020-05-29 - 主分类号： B41F15/34 文献下载
摘要：模板印刷机还包含升降台组装件(22)以及输送机系统(14)，该升降台组装件被配置成将衬底(16)支撑在运送位置中和印刷位置中。输送机系统包含连接到框架的一对轨道构件(28、30)。所述一对轨道构件延伸穿过框架，并被配置成运送衬底穿过模板印刷机。输送机系统还包含：对于每一轨道构件(28、30)来说，连接到轨道构件的升降工具组装件(32)。升降工具组装件(32)被配置成与升降台组装件(22)合作，并将衬底(16)接合和支撑在运送高度和印刷高度处。
用于模板印刷机升降工具组装

[发明专利]衬底处理装置-CN200510080979.9无效
发明人：山口和彦;村冈佑介 -专利权人：未来视野股份有限公司
申请日： 2005-06-29 - 公布日： 2008-03-26 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理装置(10)，该衬底处理装置对正在沿运送通路(171)以基本水平的状态运送的衬底(B)进行规定的处理，沿着运送通路(171)串联设置液体回收型喷嘴部(20)和气刀(30)，该液体回收型喷嘴部(20)用作向运送中的衬底(B)供给规定的处理液的处理液供给器，按照可从衬底(B)回收已供给的处理液的方式构成，该气刀(30)用作去除被供给处理液后的衬底(B)上残留的处理液的处理液去除器，通过气流吹散衬底并且可以实现衬底处理装置的紧密化。
衬底处理装置

[发明专利]用于制备和递送用于带电粒子分析的生物样品的系统和方法-CN202010586903.8在审
发明人： M·斯特劳;A·马卡罗夫;J·吉尔伯特;A·托罗克;J·克里斯蒂安;A·巴姆;刘坤;T·尼科尔斯;J·科斯莫斯基;D·格林菲尔德 -专利权人： FEI公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： G01N1/34 文献下载
摘要：用于制备和递送用于带电粒子分析的生物样品的系统和方法。本文公开了用于制备和传递用于带电粒子分析的生物样品的系统和方法。示例系统至少包含与系统相偶联的离子过滤器，以从经过电离的储备样品中选择样品离子，所述离子过滤器包含：四极杆过滤器，用于从所述储备样品中选择所述样品离子；减能池，相偶联的所述减能池可以接收所选样品离子并且降低所述样品离子的动能；验证单元，相偶联的所述验证单元可以接收所述样品离子并且确定所述样品离子是否是目标样品离子；衬底，相偶联的所述衬底可以接收所述样品，其中所述衬底是电子透过性的；离子运送模块，相偶联的所述离子运送模块可以从所述离子过滤器接收所述样品离子并且将所述样品离子运送到所述衬底；以及成像系统，所述成像系统利用低能量带电粒子束对定位在所述衬底上的样品进行成像，其中所述衬底布置在分析位置中。所述成像系统包含：电荷粒子发射器，相偶联的所述电荷粒子发射器可以朝向所述样品引导相干带电粒子；以及检测器，所述检测器可以检测由所述相干带电粒子与所述样品的相互作用形成的干扰图案。
用于制备递送带电粒子分析生物样品系统方法

[发明专利]衬底处理设备和衬底处理方法-CN201110136207.8无效
发明人：柴田刚吏;谷山智志;中田高行 -专利权人：株式会社日立国际电气
申请日： 2011-05-18 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理设备和衬底处理方法。衬底处理设备包括：反应器；至少两个晶舟运送装置，配置成运送至少两个晶舟；至少一个晶舟支撑台，配置成支撑至少两个晶舟，该晶舟支撑台可移动到反应器下方的位置；以及控制单元，配置成控制晶舟运送装置，使得当由多个晶舟运送装置中的第一晶舟运送装置支撑的至少两个晶舟中的第一晶舟保持由反应器处理的经处理的衬底并且移动回到与反应器间隔开的位置时，使用至少两个晶舟运送装置中的第二晶舟运送装置将保持未经处理的衬底的、至少两个晶舟中的第二晶舟装载到反应器中。
衬底处理设备方法

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