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[发明专利] 吡啶并[1,5α]嘧啶、其制备和应用 -CN96193780.7 无效
发明人：
R·比诺特 ;T·格罗特 ;H·贝尔 ;B·穆勒 ;K·奥伯多夫 ;H·萨特 ;E·阿莫曼 ;G·劳伦兹 ;S·斯特拉斯曼
- 专利权人：
巴斯福股份公司
申请日：
1996-04-26
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公布日：
1998-06-03
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主分类号：
C07D487/04 文献下载
摘要： 、卤代烷氧基、烷硫基 、卤代烷硫基 、芳 基 、芳 烷基、芳 氧基、芳 基 烷氧基、芳 硫基 、杂 芳 基 、杂 芳 烷基、杂 芳 氧基、杂 芳 基 烷氧基、杂 芳 硫基 ,或NRcRd、NRcNRdRe、CO－Rc、CO2－Rc、CO－NRcRd、CO－Rc、CO2－Rc或CRf=NORgR4是氢、氰基 、硝基、亚硝基、卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基 、卤代烷硫基 、芳 基 、芳 烷基、芳 氧基、芳 基 烷氧基、芳 硫基 、杂 芳 基 、杂 芳 烷基、杂 芳 氧基、杂 芳 基 烷氧基、杂 芳 硫基 ,或NRcRd、CO－Rc、CO2－Rc或CRf=NORg;Ra、Rb是氢、卤素、C1－C4－烷基、C1－C4－卤代烷基Rc、Rd和Re是氢、烷基、链烯基 、炔基 、芳 基 、芳 烷基、杂 芳 基 或杂 芳 烷基;Rf是氢、氰基 、卤素、未取代或取代的烷基、烷氧基、烷硫基 、链烯基 、链烯氧基、链烯硫基 、炔基 、炔氧基、炔硫基 、环烷基、环烷基氧基、环烷基硫基 、杂 环 基 、杂 环 基 氧基、杂 环 基 硫基 、芳 基 、芳 氧基、芳 硫基 、杂 芳 基 、杂 芳 基 氧基或杂 芳 基 硫基 ;Rg是氢、未取代或取代的烷基、链烯基 、炔基 、环烷基、杂 环 基 、芳 基 或杂 芳 基 。吡啶 嘧啶 制备 应用
[发明专利] 改进的电致发光稳定性 -CN200580005434.X 有效
发明人：
D·B·诺尔斯 ;R·库
- 专利权人：
通用显示公司
申请日：
2005-01-19
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公布日：
2007-02-28
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主分类号：
C09K11/06 文献下载
摘要： 该发射层进一步包括具有以下结构的发射材料，其中M是具有大于40的原子量的金属；R3 ′是选自烷基，杂 烷基，芳 基 ，杂 芳 基 和芳 烷基中的取代基 ，其中R3 ′任选地被一个或多个取代基 Z取代；R5 是选自芳 基 和杂 芳 基 中的取代基 ，其中该芳 基 或杂 芳 基 是未被取代的或任选地被一个或多个非芳 族基团取代；环 A是具有至少一个配位到金属M上的氮原子的芳 族杂 环 或稠合芳 族杂 环 ，其中环，CO2 R，C(O)R，NR2 ，OR，卤素，芳 基 ，杂 芳 基 ，取代的芳 基 ，取代的杂 芳 基 或杂 环 基团中的取代基 ；R4 是选自H，烷基，烯基 ，炔基 ，>2，OR，卤素，芳 基 ，杂 芳 基 ，取代的芳 基 ，取代的杂 芳 基 或杂 环 基团中的取代基 ；另外或做为选择地，R3 和R4 一起独立地形成稠合的4－到7－元环状基团，取代的杂 芳 基 或杂 环 基团中的取代基 ；此外，R3 ′和R6 可以被选自－CR2 －CR2 －，－CR＝CR－，－CR
改进 电致发光 稳定性
