专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201210174363.8无效
  • 宫本英典;佐保田勉 - 东京应化工业株式会社
  • 2012-05-30 - 2012-12-05 - B05C9/14
  • 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法,该基板处理装置具备:第一腔,其具有将含有易氧化性的金属及溶剂的液状体的涂敷形成在基板上的涂敷部;第二腔,其具有加热所述涂敷的第一加热部;连接部,其将所述第一腔与所述第二腔之间连接,其中,在所述连接部设有对涂敷在所述基板上的所述涂敷进行加热的第二加热部及对所述涂敷的周围的压力进行调整的压力调整部。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]多层涂敷的制造方法-CN200910211616.2无效
  • 伊藤洁 - 大日本印刷株式会社
  • 2009-09-30 - 2010-05-26 - G03C1/74
  • 本发明涉及一种多层涂敷的制造方法,其具有预先将多个涂敷液进行多层化后,使多层化的涂敷液转移至基材上的工序,其特征在于,在将要层叠的2种涂敷液之间,插入同时含有所述2种涂敷液所分别含有的被形成成分且其合计浓度比所述2种涂敷液的各浓度都高的涂敷液作为中间层,从而进行多层化。该制造方法不使用调节粘度以进行层叠的凝胶化剂,同时涂布多种涂敷液,从而可以简便且生产性良好地制造层间密合性极其优异的多层涂敷
  • 多层涂敷膜制造方法
  • [发明专利]偏振的制造方法-CN202080017318.4有效
  • 大学纪二;山崎达也 - 日东电工株式会社
  • 2020-03-25 - 2023-05-09 - B05D3/00
  • 本发明的目的在于,提供连续且稳定地制造起偏镜与粘合剂层、及透明保护与粘接剂层的粘接性优异的偏振的方法。本发明的偏振的制造方法包括:在起偏镜的贴合面涂敷含有SP值为21.0(MJ/m3)1/2以上且26.0(MJ/m3)1/2以下的聚合性化合物X的易粘接组合物而形成第1涂的第1涂敷工序;在透明保护的贴合面涂敷含有上述聚合性化合物X的粘接剂组合物而形成第2涂的第2涂敷工序;对上述第1涂及上述第2涂的厚度进行在线测定的厚度测定工序;以及基于通过上述在线测定得到的上述第1涂及上述第2涂的厚度,以使将上述第1涂及上述第2涂贴合而得到的未固化粘接剂层中的上述聚合性化合物X的含量成为40~64质量%的方式调节上述第1涂敷工序中的上述易粘接组合物的涂敷量和/或上述第2涂敷工序中的上述粘接剂组合物的涂敷量的涂敷量调节工序。
  • 偏振制造方法
  • [发明专利]制造坐标检测的方法-CN200910139063.4有效
  • 近藤幸一 - 富士通电子零件有限公司
  • 2009-05-15 - 2009-11-18 - G06F3/045
  • 本发明提供一种制造具有电阻和用于对电阻施加电压的公共电极的坐标检测的方法,包括以下工序:(a)在形成于由绝缘体构成的基板上的电阻涂敷光致抗蚀剂;(b)经过预定的掩模将所涂敷的光致抗蚀剂曝光并随后将所涂敷的光致抗蚀剂显影,从而在电阻上形成抗蚀剂图案;(c)通过去除没有抗蚀剂图案的电阻的一部分以形成电阻去除区域;(d)在工序(c)后去除抗蚀剂图案;以及(e)在工序(d)后在电阻去除区域上方形成公共电极。
  • 制造坐标检测器方法
  • [发明专利]信息记录材料的制造方法及信息记录材料-CN200580016644.9无效
  • 鬼头宏和 - 富士胶片株式会社
  • 2005-05-23 - 2007-05-02 - B05D1/34
  • 涂敷前或涂敷中能够以不使涂敷液高粘度化的状态正常地进行同时多层涂敷,且在涂敷后能够高粘度化从而防止层间混合。一种信息记录材料的制造方法,其形成行使的支承体(14)上用滑珠涂敷装置(16)同时多层涂敷了多种涂敷液的多层中的至少一层是信息记录层的多层涂敷,并用干燥装置(20)干燥所形成的多层涂敷,其中,使多层涂敷液中的至少一种涂敷液含有若相互接触或混合则该涂敷液高粘度化的
  • 信息记录材料制造方法
  • [发明专利]涂敷方法和涂敷装置-CN201110168382.5有效
  • 一野克宪;吉原健太郎;吉原孝介 - 东京毅力科创株式会社
  • 2011-06-17 - 2011-12-21 - G03F7/16
  • 本发明提供一种涂敷方法和涂敷装置,即使在涂敷液例如抗蚀剂液的供给量较少的情况下也能在基板的表面上均匀地形成涂敷涂敷方法包括:预湿工序,将预湿液供给到基板(W)的中心,并且使基板旋转而使预湿液扩散到第1基板的整个表面上;涂敷形成工序,向供给了预湿液的基板供给涂敷液(例如抗蚀剂液),使该涂敷液干燥,从而在上述第1基板的表面形成涂敷。采用比涂敷液的表面张力高的混合液体作为预湿液,通过使能够溶解涂敷成分(例如抗蚀剂成分)的溶剂、和表面张力高于该溶剂的高表面张力液体混合,获得上述混合液体。
  • 方法装置
  • [发明专利]剥离及其制造方法-CN03124360.6无效
  • 饭田修治;宫原裕之;高桥丰;川崎薰 - TDK株式会社
  • 2003-04-02 - 2004-10-06 - B32B7/02
  • 通过使剥离层的涂敷条件最佳化,提供一种将陶瓷涂料涂敷在剥离层上时,不发生弹起,结果是从剥离上剥离后获得具有良好尺寸形状(特别是宽度方向端部中)陶瓷印刷电路基板的剥离及其制造方法。在基体材料1的至少一个面上,利用涂敷设置剥离层2形成的剥离中,在基体材料1的宽度方向两端部具有未涂敷剥离层2的部分,并在涂敷包括剥离层2的由目视识别的端部4和未涂敷部分5的油性墨水9时,不沾着油性墨水9的部分8,从由目视识别的端部4到未涂敷部分5的宽度方向上的长度,在2.0mm以下。
  • 剥离及其制造方法
  • [发明专利]涂敷形成方法和涂敷形成装置-CN202010017203.7在审
  • 稻叶翔吾 - 东京毅力科创株式会社
  • 2020-01-08 - 2020-07-28 - H01L21/027
  • 本发明提供一种在基片表面形成涂敷涂敷形成方法,其包括:涂敷扩散步骤,在上表面具有开口的涂敷杯状体内,使基片以第1转速旋转,对基片的表面供给用于形成所述涂敷涂敷液,使该涂覆液扩散;和干燥步骤,在所述涂敷扩散步骤之后一边从环状部件与基片表面之间的间隙进行排气,其中,所述环状部件以其中心与基片表面的中心位于同轴上的方式配置在基片的上方,且具有使其外周端部位于与基片的外周端部的位置相同或其外侧的位置的大小,在所述干燥步骤中,与所述涂敷扩散步骤中的涂敷杯状体内的排气相比以更高的压力进行排气由此,能够在基片的面内快速形成均匀性良好的厚的涂敷
  • 涂敷膜形成方法装置
  • [实用新型]一种纸张涂敷装置-CN202320551673.0有效
  • 黄钦泛;黄晓明;董国俊 - 上海宝中宝胶粘制品有限公司
  • 2023-03-20 - 2023-09-22 - B05C9/08
  • 本申请涉及一种纸张涂敷装置,涉及自动化设备技术领域,其包括机架,机架上设有传送电机和与传送电机的输出轴连接的涂敷辊,机架上还设有涂敷电机,涂敷电机的输出轴连接有主动齿,主动齿啮合有从动齿,从动齿连接有存储框,存储框上开设有供硅油放置的存储槽,在进行硅油的涂敷时,可将存储框转动扣于涂敷辊上,淋纸通过涂敷辊和存储框之间,存储在存储槽内的硅油便可涂敷在淋纸上,机架远离存储框的一侧设有消除淋纸上的静电的除静电组件本申请可以实现硅油涂敷厚度可调的效果。
  • 一种纸张装置

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