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[发明专利]掩膜坯料的制造方法及光掩膜的制造方法-CN200810090895.7有效
发明人：浅川敬司;宫田凉司 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2008-04-09 - 公布日： 2008-10-15 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种带有抗蚀膜的掩膜坯料的制造方法，其包括抗蚀剂涂敷，在该抗蚀剂涂敷工序中，从具有向一方向延伸的抗蚀液供给口的涂敷喷嘴喷出抗蚀液，同时沿与所述一方向交差的方向使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面相对移动，在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀液。在本制造方法中，尤其是，涂敷后的抗蚀剂的干燥从相对于抗蚀剂的涂敷膜表面平行的方向供给清洁气体而进行。
坯料制造方法光掩膜

[发明专利]皮肤外用剂的涂敷方法及根据该方法的涂敷评价方法、涂敷评价装置、以及涂敷评价程序-CN201080014692.5无效
发明人：三浦由将;水野宽子;原祐辅 -专利权人：株式会社资生堂
申请日： 2010-03-30 - 公布日： 2012-03-07 - 主分类号： G01N21/33 文献下载
摘要：皮肤外用剂的涂敷方法，该涂敷方法用于在皮肤或皮肤代替膜上涂敷皮肤外用剂，并对通过用光照射被涂敷的所述皮肤代替膜后得到的所述皮肤外用剂中的特性进行评价，其特征在于，具有：第1涂敷步骤，从所述皮肤或皮肤代替膜上的一侧向一个方向逐渐涂开；第2涂敷步骤，从与由所述第1涂敷步骤而涂开的方向相垂直的方向向一个方向涂开；重复步骤，对所述第1涂敷步骤及所述第2涂敷步骤进行预定次数的重复。
皮肤外用方法根据评价装置以及程序

[发明专利]涂敷处理方法及涂敷处理装置-CN200910252191.X有效
发明人：井关智弘;吉原健太郎;野田朋宏;吉原孝介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-12-15 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种实现抑制涂敷涂敷液时产生的气泡来提高涂敷液膜的均匀化及成品率的涂敷处理方法及涂敷处理装置。还提供实现涂敷液的有效利用及涂敷液膜的均匀化的涂敷处理方法及涂敷处理装置。本发明的涂敷处理方法如下所述：使半导体晶圆(W)以低速的第1转速旋转，向晶圆中心部供给纯水(DIW)而形成纯水的积水部，然后在使晶圆以上述第1转速旋转的状态下，向晶圆中心部供给水溶性的涂敷液(TARC)，使该涂敷液和上述积水部的纯水混合。然后使晶圆以比上述第1转速高的第2转速旋转而形成涂敷液膜。
处理方法装置

[实用新型]一种IGBT模块散热面涂敷导热硅脂的装置-CN202122422243.2有效
发明人：谢铭飞;刘刚;陈鸿蔚;尹俊;罗玉玲 -专利权人：湘潭电机股份有限公司
申请日： 2021-10-09 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： B05C17/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种IGBT模块散热面涂敷导热硅脂的装置，包含涂敷框以及刮板；所述的涂敷框包括上压板、涂敷膜和下压板，上压板上设有U形槽，下压板上设有与IGBT模块的散热面相对应的凹槽，IGBT模块的散热面嵌在该凹槽内；上压板和下压板通过螺栓连接，涂敷膜夹在上压板和下压板之间，涂敷膜上设有供导热硅脂通过的通孔；所述的刮板包括刮板夹和硬质硅胶刀片，硬质硅胶刀片镶嵌在刮板夹中，刮板位于涂敷膜上方，用于涂敷导热硅脂。本实用新型结构简单，制作方便；本实用新型能够确保IGBT模块涂敷区域及涂敷厚度均匀一致，避免了导热硅脂的浪费，提高了涂敷质量及效率，有效保证了IGBT模块的散热效果。
一种 igbt 模块散热面涂敷导热装置

[发明专利]连接器接触基材-CN200510129662.X无效
发明人：大胁武史;柳泽佳寿美;佐伯公三 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2005-12-14 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： H01R13/03 文献下载
摘要：公开了一种在保持作为连接器的性能和插接操作性的同时具有小的摩擦系数、需要小的插接力和不增加接触电阻的连接器接触基材。该连接器接触基材在基板表面上具有包含氟类树脂颗粒和氟类油的混合物的涂敷膜，其中涂敷膜的厚度为0.2～0.5μm，在涂敷膜中氟类树脂颗粒与氟类树脂颗粒和氟类油的总量的比例为20质量％～40质量％，从而连接器接触基材具有小的摩擦系数
连接器接触基材

[发明专利]层叠体的制造方法及制造装置-CN200580035740.8无效
发明人：野殿光纪 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2005-10-19 - 公布日： 2007-10-10 - 主分类号： B32B37/10 文献下载
摘要：本发明的层叠体的制造方法，包括：将涂敷液涂敷在多孔膜(1)上的涂敷工序；以及使涂敷有涂敷液的多孔膜(1)沿着供给辊(14)的外周面行走后，使涂敷有涂敷液的多孔膜(1)与支持基体材料(2)一起沿着层叠棍(30)的外周面行走，将涂敷有涂敷液的多孔膜(1)与支持基体材料(2)层叠，得到层叠体的工序，设供给辊(14)的半径为R1(cm)、层叠辊(30)的半径为R2(cm)、供给辊(14)与层叠辊(30)的中心轴之间距离为L(cm)、多孔膜(1)的厚度为T1(cm)、支持基体材料(2)的厚度为T2(cm)时，满足下式(1)的条件：R1+R2+T1+T2≤L≤R1+R2+100(1)。
层叠制造方法装置

[发明专利]低辐射涂敷膜、其的制备方法及包含其的窗户用功能性建材-CN201480066967.8有效
发明人：柳贤祐;田允淇;权大勋 -专利权人：乐金华奥斯有限公司
申请日： 2014-12-11 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： C09D7/40 文献下载
摘要：本发明涉及低辐射涂敷膜、其的制备方法及包含其的窗户用功能性建材，上述低辐射涂敷膜包括：基材；低辐射涂敷层；以及顶部涂敷层，上述顶部涂敷层为从上述低辐射涂敷层起依次包括金属层、金属氧化物层及金属氮氧化物层的多层结构
辐射涂敷膜制备方法包含窗户用功建材

[发明专利]涂敷膜转印器-CN201010566389.8有效
发明人：成田康夫 -专利权人：普乐士株式会社
申请日： 2010-11-26 - 公布日： 2011-08-17 - 主分类号： B43L19/00 文献下载
摘要：本发明提供一种即使离合器的摩擦力小也能够传递驱动力而使卷取线轴可靠地旋转的小型的涂敷膜转印器。本发明的涂敷膜转印器(1)的特征在于具有：供给线轴(53)，其卷绕安装有未使用的转印带(51)；转印头(7)，其架设转印带(51)，通过将该转印头按压在转印对象上而使该转印带(51)的涂敷膜压敏转印在转印对象上
涂敷膜转印器

[发明专利]涂敷膜转印器-CN200610057049.6有效
发明人：牛嶋润 -专利权人：普乐士文具株式会社
申请日： 2006-03-13 - 公布日： 2007-05-30 - 主分类号： B43L19/00 文献下载
摘要：本发明提供一种采用保护转印带且在使用时不产生松弛之构成的涂敫膜转印器。该涂敷膜转印器包括：滑动(slide)机构100，为了使转印头5滑动并进行转印，而与转印带T抵接并从壳体10突出，且被收纳在壳体10内，以及滑移(slip)机构，存在于供给绕线，21和供给卷盘2之间，在使转印头
涂敷膜转印器

[发明专利]薄膜晶体管的制造方法-CN00800436.6无效
发明人：汤田坂一夫;下田达也;关俊一 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2000-03-29 - 公布日： 2001-05-30 - 主分类号： H01L29/786 文献下载
摘要：用液体材料形成构成薄膜晶体管的硅膜、绝缘膜、导电膜等的薄膜的全部或一部分。其主要的方法是,采用向基板上涂敷液体材料形成涂敷膜,对该涂敷膜进行热处理的办法形成所希望的薄膜。
薄膜晶体管制造方法

[发明专利]树脂涂敷薄膜的涂膜缺陷的检查方法-CN200880117334.X无效
发明人：铃木孝志 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2008-11-26 - 公布日： 2010-10-20 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供一种树脂涂敷薄膜的涂膜缺陷的检查方法，其对由薄膜和通过在其上涂敷树脂溶液而成的涂膜构成之树脂涂敷薄膜的涂膜缺陷进行检查，所述树脂涂敷薄膜的涂膜缺陷的检查方法的特征在于，通过将发光强度的峰值波长在385～415nm范围内的检查光向涂膜进行照射并检测其反射光来进行。通过该检查方法，能够对树脂涂敷薄膜的涂膜的缺陷进行高精度的检查。
树脂薄膜缺陷检查方法

[发明专利]中空纤维复合膜涂敷机及中空纤维复合膜的制造方法和制品-CN200610013428.5无效
发明人：张宇峰;刘恩华;田国军;许以农;王薇;杜启云;肖长发 -专利权人：天津工业大学
申请日： 2006-04-04 - 公布日： 2006-11-22 - 主分类号： B01D67/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种中空纤维复合膜涂敷机及中空纤维复合膜的制造方法和制品，涂敷机包括设置在水相槽中的喂丝辊，与水相槽依次工艺连接的前干燥管、反应管、后干燥管、导丝辊和受丝辊；反应管水平安装，并且在其进口处管接有有机相补充装置，在其出口处管接有溢流装置；前干燥管、后干燥管竖置安装；喂丝辊和受丝辊分别与PLC控制器及与PLC控制器连接的两个变频调速电机连接。采用本发明涂敷机和界面聚合的制造方法，可连续生产涂敷均匀，质量稳定的中空纤维复合膜。
中空纤维复合膜涂敷机制造方法制品

[发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN201710063642.X有效
发明人：佐藤好友 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-02-03 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供基板处理方法，一边控制抗蚀剂厚膜的形状一边除去凸起。晶片(W)的处理方法包括：第一步骤，对晶片(W)的表面(Wa)供给涂敷液而形成涂敷膜；第二步骤，从喷嘴(46)排出有机溶剂并将其供给到涂敷膜的周缘部，将该周缘部之中呈凸状突起的凸起部溶解而使其均匀成与涂敷膜之中其他的部分相同程度的厚度；第三步骤，在第二步骤之后对涂敷膜进行加热，形成由涂敷膜固化而成的固化膜；和第四步骤，从喷嘴(46)排出有机溶剂并将其供给到所述固化膜的周缘部，将该周缘部溶解而将其从基板上除去。
处理方法装置

[发明专利]抗蚀液涂敷方法和装置-CN200310104695.X无效
发明人：高森秀之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2003-10-27 - 公布日： 2004-06-02 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明的目的是抑制在被处理基板上涂敷的抗蚀液在干燥处理中的移动、保证抗蚀膜的膜厚均一性的抗蚀液涂敷方法和抗蚀液涂敷装置。抗蚀液喷嘴头154沿点划线A所示路线移动，对第1列至第3列依次进行涂敷扫描。更详细地说，沿Y方向穿过各个列的液晶板区域S移动，仅仅限定向各涂敷区域E(图中斜线部分)涂敷抗蚀液。从而，基板G的被处理面中，仅仅向与液晶板区域S分别对应的涂敷区域E以大致一定的膜厚涂敷了抗蚀液。基板周缘部和相邻接的涂敷区域E、E的间隙d中，残留有不存在抗蚀液膜的空区域。
抗蚀液涂敷方法装置

[发明专利]涂敷层ND方向膜厚的自动测量装置及方法-CN200810247527.9有效
发明人：陈超;郑彦标;王鹏年 -专利权人：四川虹欧显示器件有限公司
申请日： 2008-12-30 - 公布日： 2010-06-02 - 主分类号： G01B21/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种涂敷层ND方向膜厚的自动测量装置，其用于多面取涂敷设备上，该多面取涂敷设备具有横梁和安装于横梁上的多个第一传感器，其中，该自动测量装置包括：滑块，可滑动地设置在横梁上；可伸缩的机械臂，一端固定于滑块上；第二传感器，安装于上述可伸缩的机械臂的另一端，该第二传感器至少具有测量上述ND方向膜厚的第一姿态，以及驱动装置，驱动上述滑块在横梁上滑动，以带动该第二传感器在ND方向移动。本发明还公开了一种涂敷层ND方向膜厚的自动测量方法。本发明能解决目前多面取涂层ND方向膜厚不能自动测量的问题，从而减少了对玻璃基板的损伤，并减少了设备的制作成本、节约了工艺动作和时间、提高了生产效率。
涂敷层 nd 方向自动测量装置方法