[发明专利]低辐射涂敷膜、其的制备方法及包含其的窗户用功能性建材有效
| 申请号： | 201480066967.8 | 申请日： | 2014-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN105814150B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 柳贤祐;田允淇;权大勋 | 申请（专利权）人： | 乐金华奥斯有限公司 |
| 主分类号： | C09D7/40 | 分类号： | C09D7/40;C09D5/08;C09D5/24;C09D7/63;B05D1/36;G02B1/116;E06B3/00 |
| 代理公司： | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人： | 吕琳;刘明海<国际申请>=PCT/KR2 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及低辐射涂敷膜、其的制备方法及包含其的窗户用功能性建材，上述低辐射涂敷膜包括：基材；低辐射涂敷层；以及顶部涂敷层，上述顶部涂敷层为从上述低辐射涂敷层起依次包括金属层、金属氧化物层及金属氮氧化物层的多层结构。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 涂敷膜 制备 方法 包含 窗户 用功 建材 | ||
【主权项】：
1.一种低辐射涂敷膜，其特征在于，/n按顺序由以下组成：/n基材；/n在所述基材表面上的低辐射涂敷层；以及/n在所述低辐射涂敷层上的顶部涂敷层，/n其中：/n所述顶部涂敷层具有从所述低辐射涂敷层起按顺序由在所述低辐射涂敷层上的金属层、金属氧化物层及金属氮氧化物层组成的多层结构；/n所述低辐射涂敷层具有从所述基材起按顺序由在所述基材上的第一电介质层、第一低辐射保护层、低辐射层、第二低辐射保护层及第二电介质层组成的多层结构；/n所述第一电介质层或所述第二电介质层包含选自由氮化硅、氮化硅铝、氮化硅锡及它们的组合组成的组中的至少一种；/n所述金属氮氧化物层包含锆类复合金属氮氧化物；/n所述第一低辐射保护层的厚度为0.5nm至1nm；/n所述低辐射层的厚度为5nm至7nm；/n所述第二低辐射保护层的厚度为0.5nm至1nm；和/n所述金属氮氧化物层的厚度为10nm至20nm。/n
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- 柳贤祐;田允淇;权大勋 - 乐金华奥斯有限公司
- 2014-12-11 - 2019-11-19 - C09D7/40
- 本发明涉及低辐射涂敷膜、其的制备方法及包含其的窗户用功能性建材，上述低辐射涂敷膜包括：基材；低辐射涂敷层；以及顶部涂敷层，上述顶部涂敷层为从上述低辐射涂敷层起依次包括金属层、金属氧化物层及金属氮氧化物层的多层结构。
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