专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]生物成分测定方法-CN02805170.X有效
  • 上田阳子;山下和昭 - 国际试药株式会社
  • 2002-04-16 - 2004-04-28 - C12Q1/42
  • 本发明提供一种生物成分活性的测定试剂及其测定方法,在测定生物成分的方法中,避免胆红素、溶血性血红蛋白等非测试剂料测定对象物质的存在对测定结果的影响。一种生物成分测定试剂,在生物成分测定试剂中含有2,2-羟基二乙硫酸、β-2,2-羟基二乙硫、甲硫氨酸等中的任意一种或两种以上药剂。为了避免溶血性血红蛋白的影响,添加2,2-羟基二乙硫酸、β-2,2-羟基二乙硫、甲硫氨酸中的至少一种,特别是为了避免胆红素的影响,向试剂中添加2,2-羟基二乙硫酸、甲硫氨酸、硫脲、亚硫酸钠的至少一种,而且
  • 生物成分测定方法
  • [发明专利]一种化学镀中单晶硅表面预处理方法-CN202211439411.1在审
  • 管培怡;裴和中;李飞;盛子豪;陈怀清 - 昆明理工大学
  • 2022-11-17 - 2023-02-24 - C23C18/18
  • 本发明涉及一种化学镀中单晶硅表面预处理方法,该方法摒弃传统的敏化‑活化法,用羟基化‑自组分子层法对单晶硅进行镀前处理,然后化学镀沉积出合金层。镀前预处理包括有机物清洗、羟基化、自组分子层、活化等五个步骤;所述自组分子层,是基于先对硅片表面进行羟基化处理,在高温环境下,加入X硅烷偶联剂,在硅片表面发生化学键合,再通过活化,钯粒子和X键化学结合。本发明适用于在单晶硅(P型和N型)上进行表面预处理,有良好的结合力,不会出现漏镀的情况,说明活化比较均匀,且呈现金属色泽。
  • 一种化学单晶硅表面预处理方法
  • [发明专利]一种寡糖的合成方法-CN200410101621.5有效
  • 黄雪飞;叶新山 - 叶新山;黄雪飞
  • 2004-12-21 - 2005-11-16 - C07H3/06
  • 本发明公开了一种新的寡糖合成方法,该方法主要包括以下步骤:(a)在不加糖基受体的情况下用促进剂活化糖基供体,该糖基供体的异头碳上连有可活化的糖苷配基且不含裸露羟基,获得活性中间体;(b)向活性中间体中加入保护的糖基供/受体,该糖基供/受体的异头碳上有可活化的糖苷配基且含一个裸露羟基,生成新的糖基供体;(c)重复步骤(a)和(b),加入目标寡糖组成中下一个所需的保护的糖基供/受体;(d)加入保护的糖基受体,该糖基受体含一个裸露羟基且异头碳上有不可活化的糖苷配基
  • 一种寡糖合成方法

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