专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果2844575个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种铝合金锭的深井铸造系统-CN202211603407.4在审
  • 易伟 - 湖南西鼎新材料有限公司
  • 2022-12-13 - 2023-07-07 - B22D7/00
  • 本发明适用于深井铸造技术领域,提供了一种铝合金锭的深井铸造系统,包括铸造井,所述铸造井内设置有结晶器和液压模块,所述液压模块的输出端延伸至结晶器内并且与引锭器的底部相连,还包括:清理机构,所述清理机构分布在引锭器的底部,且所述清理机构的一端与结晶器的内壁接触,所述结晶器的底部设置有收集箱。本发明中的一种铝合金锭的深井铸造系统,清理机构可以根据残留的清理要求,提高清理角度,从而实现对结晶器内壁上的残留进行清理,避免残留对铝合金锭的铸造质量造成影响,提高铝合金锭的铸造质量和铸造效率。
  • 一种铝合金深井铸造系统
  • [发明专利]一种从大豆中提取植物甾醇的方法-CN202011007973.X在审
  • 谢福发;谢辉 - 福建福迩金生物科技有限公司
  • 2020-09-23 - 2021-02-02 - C07J9/00
  • 该一种从大豆中提取植物甾醇的方法,包括以下步骤:S1.杂质过滤,将大豆脱臭馏出内的杂质过滤;S2.对大豆脱臭馏出进行酯化处理,a.加入脂肪酶和硫酸亚铁;b.将a中静置后初步酯化的混合和甲醇按照1:0.5‑1的比例进行混合形成混合;S3.酸碱中和,加入氢氧化钠中和酸碱度值到6‑8时停止;S4.静置结晶,混合静置结晶;S5.获得大豆植物甾醇,将结晶之后的混合通入去离子水洗涤并干燥;S6.残留的处理,残留内加入无水乙醇后过滤蒸馏提取维生素E。通过脂肪酶、硫酸亚铁、甲醇和强酸使得大豆脱臭馏出快速酯化,通过无水乙醇提取残留内维生素E,值得大力推广。
  • 一种大豆提取植物方法
  • [发明专利]残留的清除方法-CN201510271913.1有效
  • 侯红娟;刘轩;朱建野 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2015-05-25 - 2020-11-27 - H01L21/02
  • 本发明提供了一种残留的清除方法,包括:提供一残留去除对象,所述残留去除对象的表面上具有残留;在所述残留去除对象的表面上形成抗反射涂层以吸附所述残留;去除所述抗反射涂层。在本发明提供的残留的清除方法中,通过在残留去除对象的表面上涂布具有强烈粘附作用的抗反射涂层,使其表面上的残留被粘在所述抗反射涂层上,之后去除所述抗反射涂层,从而实现清除残留的目的,由此解决了残留所引起的各种问题
  • 残留物清除方法
  • [发明专利]使用钙离子净化残留的方法-CN201280030448.7无效
  • F.尼科拉斯;F.格罗斯琼;E.格拉维尔;J-Y.塞古恩 - 索尔维公司
  • 2012-04-18 - 2014-02-26 - C01D3/16
  • 本发明涉及一种使用钙离子净化来自工业过程的残留以获得净化盐水的方法,包括:(a)将来自工业过程的包含硫酸盐的残留与钙盐混合;(b)将不溶性物种和/或沉淀从来自(a)的悬浮液中分离;(c)将选自CO2、碳酸盐类、碳酸氢盐类或氟化盐类中的一种或多种添加到来自(b)的滤液中以除去过量的钙离子;以及(d)将沉淀从来自(c)的悬浮液中分离以获得净化盐水。锶盐和/或钡盐(其典型地存在于残留中)也可以通过使用本方法从残留中除去。根据本方法,钙离子从盐水中有效地除去。因此,可以避免钙离子在设备(其是在进一步的过程如结晶或电解中所使用的)中的沉积。
  • 使用离子净化残留物方法
  • [发明专利]去除刻蚀残留的方法-CN200610026325.2有效
  • 王灵玲;宋铭峰;郭佳衢;李建茹;方标;刘轩;王秀;郑莲晃;王润顺 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2006-04-30 - 2007-10-31 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种去除刻蚀残留的方法包括:提供一半导体衬底;在衬底上形成功能层,在所述功能层表面形成掩膜层;图案化所述掩膜层;干法刻蚀所述功能层以形成所需图形并采用气体喷流去除刻蚀残留;湿法清洗去除刻蚀残留本发明的另一种去除刻蚀残留的方法在刻蚀所述功能层以形成所需图形之后先利用湿法去除刻蚀残留;然后采用灰化方法去除刻蚀残留;最后进行灰化后的清洗。本发明的刻蚀残留去除方法对刻蚀后聚合残留有很好的去除效果,而且能够抗止光刻胶去除后的残留再沉积,很好地解决了由于被去除残留的再沉积而引起的例如堵塞通孔等问题。
  • 去除刻蚀残留物方法
  • [发明专利]生物质气化系统及其工作方法-CN200580004979.9无效
  • 福岛政弘;笹内谦一 - 中外炉工业株式会社
  • 2005-02-14 - 2007-02-21 - C10J3/00
  • 本发明提供一种生物质气化系统及其工作方法,能够适宜地切断气化炉的气氛和热源的气氛,同时能够经由残留供给系统将残留从气化炉稳定地供给向热源。该生物质气化系统具有残留供给系统(3),所述残留供给系统(3)将在通过热风产生炉(1)的热处理生物质而生成燃料气体的气化炉(2)内产生的残留(S)作为燃料供给向热风产生炉,其中,残留供给系统具有使残留滞留的纵向管滞留于纵向管内的残留将气化炉的气氛和热风产生炉的气氛阻断。由通过与纵向管的残留接触而导通的至少一对电极(9、10、11)构成检测纵向管内的残留量的检测装置。
  • 生物气化系统及其工作方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top