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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]液处理方法、基板处理装置以及存储介质-CN201710670286.8有效
发明人：中森光则;川渕洋介;增住拓朗;山下浩司;前田昭三 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-08-08 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种能够去除存在于基板的图案内的纯水来快速置换为溶剂的液处理方法、基板处理装置以及存储介质等。该液处理方法在对被水平保持并在表面形成有图案的基板供给纯水之后，对基板进行干燥，该液处理方法包括：纯水供给工序，向基板的表面供给纯水；加热溶剂供给工序，在所述纯水供给工序之后，以液体的状态向存在纯水的基板的表面供给被加热到水的沸点以上的温度的溶剂；以及去除工序，去除所述基板表面的溶剂来使所述基板干燥。
处理方法装置以及存储介质

[发明专利]高净度钢桶清洗工艺-CN201410689344.8有效
发明人：茆林凤;许文杰;徐建;陈小亮 -专利权人：太仓四方友信制桶有限公司
申请日： 2015-08-02 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： B08B9/28 文献下载
摘要：本发明涉及高净度钢桶清洗工艺，包括：溶剂清洗步骤：包括至少一道溶剂清洗工序，每道溶剂清洗工序使用的溶剂均是醋酸丁酯，溶剂用量按200L容积钢桶用4.5~5.5L溶剂的比例；钢桶滚动清洗，滚动速度为90~110转/分，清洗时间为55~65秒；纯水清洗步骤：包括至少一道纯水清洗工序，每道纯水清洗工序中，纯水用量按200L容积钢桶用4.5~5.5L纯水的比例；钢桶滚动清洗，滚动速度为90~110转/分，清洗时间为55~65秒；纯水喷洗步骤：钢桶倒置，喷头从钢桶的丝口向上插入钢桶内，向钢桶内壁喷水，喷头在喷水过程中上下往复一次，即为一次纯水喷洗。
高净度钢桶清洗工艺

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN200710110046.9有效
发明人：林豊秀 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-06-19 - 公布日： 2007-12-26 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，该基板处理方法包括：清洗处理工序，向作为待处理对象的基板的主面供给纯水而对该基板进行清洗；干燥前处理工序，在该清洗处理工序之后，向基板的主面供给含有挥发性比纯水更高的有机溶剂的干燥前处理液，使在该主面上残留的纯水置换成干燥前处理液；干燥处理工序，在该干燥前处理工序之后，除去被供给到基板的主面上的干燥前处理液而使该基板干燥。干燥前处理工序包括：纯水·有机溶剂混合液供给工序，将含有纯水和有机溶剂的混合液作为干燥前处理液而向基板的主面供给；混合比变更工序，在进行该纯水·有机溶剂混合液供给工序的期间中，使含有纯水和有机溶剂的混合液中的有机溶剂的比例增加
处理方法以及装置

[发明专利]基板处理装置-CN200810087412.8有效
发明人：基村雅洋;高桥弘明;前川直嗣;林豊秀 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2008-03-27 - 公布日： 2008-10-01 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，其有：有存积处理液的内槽和回收溢出的处理液的外槽的处理槽；供给配管，连通内外槽使处理液循环；第一分支配管，分流供给配管；分离装置，设于第一分支配管，分离处理液中的纯水和溶剂，排出纯水；第二分支配管，连通分离装置的上下游；纯水去除装置，设于第二分支配管，吸附去除纯水；注入管，设于供给配管，在分离装置下游注入纯水；溶剂注入装置，将溶剂注到注入管中；控制装置，在从注入管供纯水并用清洗基板的纯水清洗处理后，执行注入溶剂并置换纯水的置换处理后，切换至第一分支配管，通过分离装置执行去除纯水的分离去除处理，再切换至第二分支配管，通过纯水去除装置执行吸附并去除纯水的吸附去除处理。
处理装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201780010108.0有效
发明人：中井仁司;安藤幸嗣 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-01-24 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：在向旋转的基板(9)的上表面(91)依次供给纯水、混合液和有机溶剂之后，借助基板(9)的旋转来去除上表面(91)上的有机溶剂。混合液通过将表面张力小于纯水的有机溶剂和纯水混合而生成且温度高于常温。通过向提供了纯水的上表面(91)供给溶解于纯水的溶解性高于有机溶剂的混合液，在混合液与纯水的边界上，难以发生上表面(91)的局部干燥，从而抑制图案要素倒塌。
处理装置以及方法

[发明专利]多功能回程式水处理器-CN201510366708.3有效
发明人：冉昭杰;冉东成;冉东汶;汪宗海 -专利权人：西安华广电站锅炉有限公司
申请日： 2015-06-29 - 公布日： 2015-09-23 - 主分类号： C02F9/04 文献下载
摘要：一种多功能回程式水处理器，在多路阀上设置有原水进水接头、原水出水接头、纯水进水接头、纯水出水接头、左溶剂接头、右溶剂接头、多路阀排污管，左溶剂接头与左溶剂箱相联通，右溶剂接头与右溶剂箱相联通；筒体内壁下部设置有与筒体底面平行且与筒体底部构成排污腔的分层隔板，分层隔板与筒体顶部之间设置有将筒体内腔分割成原水腔和纯水腔的分腔隔板，分层隔板上设置有布水器，原水腔顶部设置有与原水出水接头相联通的原水进水管，纯水腔顶部设置有与纯水进水接头相联通的纯水出水管，排污腔底部设置有筒体排污管
多功能回程水处理

[实用新型]多功能回程式水处理器-CN201520455418.1有效
发明人：冉昭杰;冉东成;冉东汶;汪宗海 -专利权人：西安华广电站锅炉有限公司
申请日： 2015-06-29 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： C02F9/04 文献下载
摘要：一种多功能回程式水处理器，在多路阀上设置有原水进水接头、原水出水接头、纯水进水接头、纯水出水接头、左溶剂接头、右溶剂接头、多路阀排污管，左溶剂接头与左溶剂箱相联通，右溶剂接头与右溶剂箱相联通；筒体内壁下部设置有与筒体底面平行且与筒体底部构成排污腔的分层隔板，分层隔板与筒体顶部之间设置有将筒体内腔分割成原水腔和纯水腔的分腔隔板，分层隔板上设置有布水器，原水腔顶部设置有与原水出水接头相联通的原水进水管，纯水腔顶部设置有与纯水进水接头相联通的纯水出水管，排污腔底部设置有筒体排污管
多功能回程水处理

[发明专利]掩模组件的清洁装置-CN202011145129.3在审
发明人：金栽豊;姜爀 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-10-23 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：掩模组件的清洁装置包括有机溶剂清洁部、第一超纯水清洁部、电解质清洁部、第二超纯水清洁部和等离子体供给部，其中，所述有机溶剂清洁部用有机溶剂对掩模组件的异物进行清洁，所述第一超纯水清洁部用超纯水对在所述有机溶剂清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述电解质清洁部用电解质对在所述第一超纯水清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述第二超纯水清洁部用超纯水对在所述电解质清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，并且所述等离子体供给部用等离子气体对用超纯水清洁的所述掩模组件进行干燥并且用等离子气体去除所述掩模组件的异物
模组清洁装置

[发明专利]基于C‑500M和C‑1100M化学镀膜清洗方法-CN201610717220.5在审
发明人：马帅;张景伟 -专利权人：江苏星浪光学仪器有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-01-18 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本方法是将溶剂C‑500M和C‑1100M、超声波、温度、纯水的相互配合组成一个全新的清洗系统。溶剂纯水调配比例、溶剂纯水温度设定、超声波频率设定、超声波电流设置、清洗时间设定、PH值酸碱度控制、纯水漂次数设定、相互协调配合，达到将镀膜玻璃表面脏污异物清洗干净的效果。
基于 500 1100 化学镀膜清洗方法

[发明专利]涂敷处理方法、程序、计算机存储介质和涂敷处理装置-CN200910203720.7无效
发明人：吉原孝介;一野克宪;井关智弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-05-20 - 公布日： 2009-11-25 - 主分类号： B05D1/38 文献下载
摘要：首先，向晶片(W)的中心部供给纯水(P)。然后，向纯水(P)的中心部供给表面张力比纯水(P)的表面张力低的溶剂(Q)。溶剂(Q)与纯水(P)相比在其扩散方向的后方呈晶片(W)的同心圆状扩散。然后，在使晶片(W)旋转的同时向溶剂(Q)的中心部供给抗蚀剂液(R)。抗蚀剂液(R)被纯水(P)和溶剂(Q)所引导而呈晶片(W)的同心圆状扩散，从而在晶片(W)上的整个表面扩散。
处理方法程序计算机存储介质装置

[发明专利]一种不含溶剂纯水性防腐涂料及其制备方法-CN202211670719.7在审
发明人：杨磊;李妲;高鹏;石佳;张展;葛新欣 -专利权人：天津科瑞达涂料化工有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： C09D163/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种不含溶剂纯水性防腐涂料。本发明的主要目的是替代不环保的油性工业涂料和仍然含有部分溶剂的水性工业涂料，达到优异涂膜性能的同时实现节能减排和环保的目的。不含溶剂纯水性防腐涂料对于工业领域防腐效果显著，同时零VOC排放，绿色环保。不含溶剂纯水性防腐涂料一次涂膜成膜好，防腐优异、零VOC排放、耐水耐介质附着力优异。
一种溶剂水性防腐涂料及其制备方法

[实用新型]一种超声波清洗机-CN201120494235.2有效
发明人：周绪红 -专利权人：东莞市嘉劲机械有限公司
申请日： 2011-12-02 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：一种超声波清洗机，涉及超声波清洗装置技术领域，该超声波清洗机的机架装设有依次排布的前处理清洗槽、溶剂清洗槽、纯水漂洗槽、慢拉脱水槽以及热风烘干槽，其中，前处理清洗槽、溶剂清洗槽以及纯水漂洗槽内分别装设有超声波振板，慢拉脱水槽为非等高边沿的槽体，慢拉脱水槽于靠近纯水漂洗槽一侧成型有供纯水溢流至纯水漂洗槽内的溢水口，慢拉脱水槽配装有纯水过滤装置和慢拉脱水机构，热风烘干槽配装有热风发生装置。前处理清洗槽、溶剂清洗槽以及纯水漂洗槽依次进行清洗、漂洗处理，慢拉脱水机构进行脱水处理，热风烘干槽进行烘干处理，纯水过滤装置持续地往慢拉脱水槽内注入纯水。
一种超声波清洗

[发明专利]一种水性涂料输漆系统清洗方法-CN202210874811.9有效
发明人：雷敬钦;石永亮;刘艳萍;黄勇;刘丛林;覃彩媚;韦正堂 -专利权人：东风柳州汽车有限公司
申请日： 2022-07-22 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： B08B9/032 文献下载
摘要：本发明公开了：对待清洗系统进行纯水清洗，将待清洗系统中的纯水排出，向待清洗系统中加入第一亲水溶剂，并对待清洗系统进行清洗，将待清洗系统中的第一亲水溶剂排出，向待清洗系统中加入碱性溶剂，并对待清洗系统进行清洗，将待清洗系统中的碱性溶剂排出，向待清洗系统中加入第二亲水溶剂，并对待清洗系统进行清洗，将待清洗系统中的第二亲水溶剂排出，向待清洗系统中加入纯水，并对待清洗系统进行清洗；本发明通过亲水溶剂、碱性溶剂和纯水分别对待清洗的水性涂料输漆系统进行清洗
一种水性涂料系统清洗方法

[发明专利]一种激光系统用光学玻璃的无损清洗工艺-CN201910872550.5有效
发明人：张天行;姚细林;徐旭;孙义可;尹西子;王阳阳 -专利权人：湖北久之洋红外系统股份有限公司
申请日： 2019-09-16 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光系统用超光滑光学玻璃的无损清洗工艺，包括弱酸浸泡、纯水漂洗、疵病检测、有机洗剂清洗、纯水漂洗、IPA脱水、IPA慢提拉干及洁净度检测等步骤；本发明的步骤是通过弱酸溶剂浸泡及超声清洗的方式软化基片表面残留物，随后利用纯水进行漂洗，纯水漂洗完成后利用有机溶剂超声清洗，去除表面的酸性洗剂残留，随后再次利用纯水漂洗去除表面残留的有机溶剂，纯水漂洗完成后利用IPA进行超声脱水，最后利用IPA高温蒸汽进行烘干，去除表面的
一种激光系统用光玻璃无损清洗工艺

[发明专利]一种电泳涂料用树脂的生产工艺-CN201410658287.7在审
发明人：胡国雄 -专利权人：立邦涂料（天津）有限公司
申请日： 2014-11-18 - 公布日： 2016-06-15 - 主分类号： C08J3/03 文献下载
摘要：本发明公开了一种电泳涂料用树脂生产方法，该工艺包括：合成阶段→乳化稀释阶段→脱溶剂阶段，得到树脂；合成阶段是将各反应物料混合进行化学反应，得到反应料；乳化稀释阶段是向纯水中加入醋酸，得到乳化稀释水，再将反应料放入其中进行乳化，得到乳化料；脱溶剂阶段是将乳化料进行脱溶剂处理，得到树脂；所述工艺进行前，先用乳化稀释阶段所用纯水总量中的一部分纯水与乳化稀释阶段所用醋酸混合，得到醋酸混合液；所述乳化稀释阶段是向所用纯水总量中的剩余部分纯水中加入所述醋酸混合液
一种电泳涂料树脂生产工艺

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