“等离子处理技术”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果12524825个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]一种双层保护正压等离子气体处理系统-CN202320755429.6有效
发明人：万良庆;卞杰 -专利权人：南京珀斯佩特电子科技有限公司
申请日： 2023-04-07 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B01D53/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双层保护正压等离子气体处理系统，应用在等离子气体处理技术领域，其技术方案要点是：包括等离子气体处理装置与包围于等离子气体处理装置外的密封箱，等离子气体处理装置的前侧连通有气体正压处理组件，气体正压处理组件用于将等离子气体输入到等离子气体处理装置内，等离子气体处理装置远离气体正压处理组件的一侧连通有气体负压处理组件；具有的技术效果是：减少废气泄漏出来而造成周围人员人身安全的可能。
一种双层保护正压等离子气体处理系统

[发明专利]一种自走式等离子体土壤处理装置-CN202110601454.4有效
发明人：黄峰;褚晓飞;刘卓林;高万林;闫鹏飞;王园 -专利权人：中国农业大学
申请日： 2021-05-31 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： B09C1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种自走式等离子体土壤处理装置，涉及等离子体技术领域，包括等离子发生机构，用于在不同的高度产生等离子体；行走机构，设置在所述等离子发生机构的旁侧，用于承载等离子发生机构并驱使等离子发生机构行走，使得等离子发生机构产生等离子体的位置发生变化；土壤预处理结构，设置在所述行走机构上，位于等离子发生机构的旁侧，用于对土壤进行预处理，疏松土壤；供电机构，设置在行走机构上，位于等离子发生机构的旁侧，与所述土壤预处理结构、行走机构和等离子发生机构均电性连接，用于为等离子发生机构、行走机构和土壤预处理结构供电，本发明实现将等离子体技术应用于大田环境的实际生产。
一种等离子体土壤处理装置

[发明专利]一种远程等离子体输送管以及远程等离子体处理设备-CN202010991834.9在审
发明人：金暻台;白国斌;高建峰;王桂磊;崔恒玮;丁云凌 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开一种远程等离子体输送管以及远程等离子体处理设备，涉及等离子体处理技术领域，以解决远程等离子体容易与等离子体输送管发生反应，产生副产物，从而导致最终的硅片成品率降低的技术问题。该远程等离子体输送管用于向工艺腔输送远程等离子体，远程等离子体输送管包括金属管，以及形成在所述金属管内壁的陶瓷结构，所述陶瓷结构用于隔离所述金属管与远程等离子体。远程等离子体处理设备包括上述技术方案所提供的远程等离子体输送管。
一种远程等离子体输送以及处理设备

[发明专利]化学液体的等离子体处理方法及装置-CN201710315535.1在审
发明人：程久华 -专利权人：苏州久华水处理科技有限公司
申请日： 2017-05-08 - 公布日： 2017-08-29 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种化学液体的等离子体处理方法及装置，涉及化学液体处理技术领域，该化学液体的等离子体处理方法包括以下步骤向待处理液体中通入气泡，然后将得到的气液混合液体通入等离子体发生器中，等离子体发生器激发气泡内的气体产生等离子体，等离子体与待处理液体发生反应，以实现对液体的处理。上述处理装置，包括用于盛放待处理液体的容器，容器的内部或容器壁上设有用于产生气泡的气泡发生装置，容器与等离子体发生器通过管路连接。该化学液体的等离子体处理方法及装置缓解了现有技术中用等离子体处理液体时电耗高、热转化高、投资成本高及反应效率低的技术问题，达到了反应效率高、耗能低的技术效果。
化学液体等离子体处理方法装置

[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法-CN201780096699.8有效
发明人：药师神弘士;渡边勇人;芝本雅弘 -专利权人：佳能安内华股份有限公司
申请日： 2017-11-13 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：提供有利于均匀地处理基板的技术。等离子体处理装置具备：处理室，用于对基板进行处理；等离子体产生部，用于产生等离子体；输送部，其中在上述等离子体产生部中产生的等离子体被输送至上述处理室；及扫描磁场产生部，产生使上述等离子体偏转的磁场以通过上述等离子体扫描上述基板，上述扫描磁场产生部的构成使得上述等离子体的轨迹的中心是能够调整的。
等离子体处理装置方法

[发明专利]一种等离子管式液体表面放电水处理装置-CN201210563174.X无效
发明人：陈晓波;陈清林 -专利权人：陈晓波
申请日： 2012-12-21 - 公布日： 2014-06-25 - 主分类号： C02F1/48 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子管式液体表面放电装置，包括入水口、出水口、进水水泵、高压放电管、进气口阀门、出气口阀门、隔板、循环水泵、地极、等离子电源系统、变压器；其特征在于：变压器接至等离子电源系统，高压放电管接至变压器，本发明结合等离子污水处理技术与水体浪涌技术，充分溶解等离子体产生的臭氧，让等离子体直接与污水接触反应，进一步提高了等离子在污水处理方面的效率，通过浪涌增加对电极的水冷，减小了等离子污水处理技术产生的臭氧的衰减速度，很大程度上提高了等离子污水处理技术对污水的处理效率，并且具有结构简单、环保节能、无二次污染的优点。
一种等离子液体表面放电水处理装置

[发明专利]等离子处理装置及处理方法-CN200810202828.X有效
发明人：杜珊珊;黄怡;韩秋华 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2008-11-17 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种等离子处理装置及处理方法。其中，等离子处理装置，包括腔室，所述腔室内壁覆有等离子体与腔室内壁材料反应的第一产物薄膜。与现有技术相比，本申请在等离子处理装置的腔室内壁上生成由内壁材料与处理被处理物相同的等离子体反应的产物薄膜，可以提高腔室内的等离子环境的均一性。
等离子处理装置方法

[实用新型]一种单点等离子源、大面积等离子源以及等离子激发装置-CN202222003642.X有效
发明人：王邱林;吉皓 -专利权人：成都奋羽电子科技有限公司
申请日： 2022-08-01 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及等离子体技术领域，具体涉及一种单点等离子源、大面积等离子源以及等离子激发装置，所述单点等离子源在密闭空间内所产生的等离子体密度水平更高，所述大面积等离子源可根据被处理物的几何形状进行调节和设计，使得等离子激发装置所产生的等离子体的几何形状与被处理物的几何形状相匹配，以达到较好的处理效果。
一种单点离子源大面积以及等离子激发装置

[发明专利]一种低温等离子体处理羊绒织物的方法-CN202210905553.6在审
发明人：邱雪芳;周嫦娥;王金玉;沈小叶;方秋雅;柯美虹 -专利权人：湖州珍贝羊绒制品有限公司
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： D06M10/02 文献下载
摘要：本发明提供一种低温等离子体处理羊绒织物的方法，属于羊毛加工技术领域。一种低温等离子体处理羊绒织物的方法，包括以下步骤；（1）将羊绒织物进行真空冷冻干燥，得到干燥羊绒织物；（2）将干燥羊绒织物以后的羊绒织物放入低温等离子体处理机，进行低温等离子体处理，得到低温等离子体处理羊绒织物，低温等离子体处理的气氛氧气、氮气、氨气中的两种或三种。本发明通过将冷冻干燥、等离子体处理技术相结合，采用氧气、氮气和或氨气气氛下进行低温等离子体处理，使得羊绒表面的鳞片收到蚀刻，增强染料的上色能力，不易出现毛毡。
一种低温等离子体处理羊绒织物方法

[实用新型]一种等离子表面处理机-CN202120410499.9有效
发明人：李奇;徐新国 -专利权人：河南先途等离子体科技有限公司
申请日： 2021-02-25 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： H05H1/28 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种等离子表面处理机，涉及等离子处理技术领域，包括机壳，所述机壳的底部设置有万向轮，所述机壳的侧壁设置有控制面板、气压表、气压调节阀和压缩气体输入端，所述压缩气体输入端设置有限压阀，所述机壳内形成有处理腔，所述处理腔内设置有支架和传送带，所述支架上设置有等离子喷枪，所述等离子喷枪之间设置有调距装置，所述等离子喷枪与所述压缩气体输入端连通，所述传送带设置于所述等离子喷枪的下方，解决现有技术中的等离子表面处理机的等离子喷枪不能灵活调节、处理面积小的问题。
一种等离子表面处理机

[发明专利]等离子处理装置以及等离子处理方法-CN202180011601.0在审
发明人：园田靖;田中基裕;中谷侑亮 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2021-06-28 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供能控制离子与自由基的密度比的等离子处理装置以及等离子处理方法所涉及的技术。提供如下技术，具备：处理室，其对样品进行等离子处理；高频电源，其供给用于在处理室内生成等离子的微波的高频电力；磁场形成机构，其在处理室内形成磁场；样品台，其设于处理室内，且载置样品；和遮蔽板，其遮蔽离子对样品台的入射，且配置于所述样品台的上方，磁场形成机构包含：设于处理室的外周部的线圈；和与线圈连接的电源，通过磁场形成机构的电源或高频电源相对于遮蔽板控制使等离子生成的位置，使生成等离子的位置在遮蔽板的上下周期性地改变的同时使等离子生成
等离子处理装置以及方法

[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN202110749578.7在审
发明人：田吹圭司;户根川大和;五十岚一将;矢部和雄 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法，提供一种能够抑制微粒向基板的附着的技术。本公开的一个方式的等离子体处理装置具备：处理容器，其具有纵型的筒体状，在处理容器的侧壁形成有开口，在所述处理容器内部将多个基板分多层收容；等离子体划分壁，其气密地设置于所述处理容器的外壁，覆盖所述开口并且规定等离子体生成空间；等离子体电极，其沿着所述等离子体划分壁设置；以及处理气体供给部，其设置于所述等离子体生成空间的外部，供给等离子体生成用气体。
等离子体处理装置方法

[实用新型]一种等离子体钝化彩板-CN202020770221.8有效
发明人：赵军;赵秀娟;邹炎斌 -专利权人：青岛河钢复合新材料科技有限公司;合肥河钢新材料科技有限公司
申请日： 2020-05-11 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： B05D7/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子体钝化彩板，涉及装饰材料技术领域，其技术方案要点是等离子体钝化彩板包括金属基材、在金属基材表面通过脱脂、等离子体处理后形成的等离子处理层、位于等离子处理层远离金属基材一侧的底漆层和面漆层，底漆层位于面漆层和等离子处理层之间。
一种等离子体钝化

[发明专利]等离子体发生装置和用于等离子体发生装置的控制方法-CN201910505821.3在审
发明人：孙万付;王世强;刘全桢;唐诗雅;刘宝全;刘英杰;牟洪祥;关银霞 -专利权人：中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司青岛安全工程研究院
申请日： 2019-06-12 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体发生装置和用于等离子体发生装置的控制方法，涉及等离子体技术领域。该等离子体发生装置包括：反应器，其内设置有多个等离子体发生器，分析模块，与多个等离子体发生器连接，用于对已处理物料的成分进行分析；及控制模块，与分析模块相连接，用于根据已处理物料的分析结果递增处于开启状态的等离子体发生器的数量，并且每次在新增处于开启状态的等离子体发生器时，根据已处理物料的分析结果调整新增处于开启状态的等离子体发生器的电源的参数和载气参数。上述技术方案，通过设置多个等离子体发生器以及电源参数和载气参数的可调，使等离子体发生装置能够处理组分复杂和浓度波动大的介质，有很好的处理效果和实用性。
等离子体发生装置用于控制方法

[发明专利]一种等离子体活化水制备装置和方法-CN202310882152.8在审
发明人：刘东平;刘国强 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2023-07-18 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C02F1/46 文献下载
摘要：本发明公开一种等离子体活化水制备装置和方法，涉及等离子体活化水制备领域，解决了现有技术中等离子体活化水制备装置对等离子体能量利用率低以及制备活化水效率较低的技术问题。本发明的等离子体活化水制备装置，包括待处理液体储存器、等离子体放电装置组件、冷水机。等离子放电装置组件用于在待处理液体表面产生等离子体，等离子体与水面直接接触、作用面积大，该装置通过实现在水的表面直接产生等离子体，可提高等离子体的能量利用率和气液传质效率，从而大大提高等离子体活化水的制备效率；而且由于等离子体直接处理，短寿命的氧和氮活性物种充分溶解到水中，提高了等离子体活化水的活性。
一种等离子体活化制备装置方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条