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[实用新型]等离子体设备-CN202223424556.2有效
发明人：王思宇;郭东;张赛谦 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-12-20 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型提供一种等离子体设备，涉及等离子体处理技术领域。该等离子体设备包括电源装置、匹配装置、主等离子体装置和远程等离子体装置；电源装置和匹配装置均位于远程等离子体装置外；匹配装置内设有切换开关，电源装置和切换开关连接；主等离子体装置设有第一通电端，远程等离子体装置设有第二通电端该等离子体设备通过将电源装置和匹配装置均外置于远程等离子体装置外可以有效节约远程等离子体设备的内部空间、减小远程等离子体设备的体积和重量，且该等离子体设备通过切换开关可以择一向主等离子体装置和远程等离子体装置供电，保证主等离子体装置和远程等离子体装置分别可以正常工作。
等离子体设备

[发明专利]等离子体设备-CN202080079916.4在审
发明人： M·坎茨勒;P·赛兰;F·米歇尔;T·文德 -专利权人： BSH家用电器有限公司;特拉等离子体有限责任公司
申请日： 2020-11-10 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于将冷大气等离子体施加到待处理表面、特别是纺织品、皮革和/或塑料纤维上的等离子体设备，具有外壳、布置在所述外壳中的等离子体源和用于将电压施加到所述等离子体源的电压源，并且具有致动器，所述致动器被构造为如果在所述等离子体源与所述待处理表面之间的距离在预定距离内则激活所述等离子体源，其中所述致动器具有可调节且被施加了预应力的致动器元件和检测装置，所述致动器元件具有至少一个致动元件，所述检测装置至少在所述等离子体源与所述待处理表面之间的距离在所述预定距离内时检测所述致动器元件的位置使用根据本发明的等离子体设备，特别是可以避免由于客户的错误操作引起的危险和排放，因为仅在与待清洁衣服的距离在预定距离内时才激活等离子体源。
等离子体设备

[发明专利]等离子体设备-CN202111615718.8在审
发明人：张赛谦;申思;刘忠武 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体设备。所述等离子体设备包括基座、电极以及多层金属网。所述基座经配置以承载待加工工件。所述电极设置于所述基座的上方。所述电极经配置以接收射频功率。所述多层金属网设置于所述基座与所述电极之间。
等离子体设备

[发明专利]等离子体设备-CN202111616380.8在审
发明人：张赛谦;刘忠武;申思 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体设备。所述等离子体设备包括基座、金属环以及可移动介质环。所述基座经配置以承载待加工工件。所述金属环设置于所述基座之上。所述金属环经配置以环绕所述待加工工件。可移动介质环设置于所述基座之上。
等离子体设备

[发明专利]等离子体处理设备和方法-CN201880084092.2有效
发明人：马绍铭;仲華;杨晓晅;D·V·德塞;瑞安·M·帕库尔斯基 -专利权人：玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供了等离子体处理设备和方法。在一个示例实施方式中，等离子体处理设备包括处理室。等离子体处理设备包括设置于处理室中的基座。基座用于支撑工件。等离子体处理设备包括在竖直方向上设置于处理室上方的等离子体室。等离子体室包括介电侧壁。等离子体处理设备包括将处理室与等离子体室分开的分离格栅。等离子体处理设备包括邻近介电侧壁的第一等离子体源。第一等离子体源用于在分离格栅上方的等离子体室中产生远程等离子体。等离子体处理设备包括第二等离子体源。第二等离子体源用于在分离格栅下方的处理室中产生直接等离子体。
等离子体处理设备方法

[发明专利]用于膨胀热等离子体的电感耦合的系统和方法-CN200480015891.2有效
发明人：马克·谢普肯斯 -专利权人：通用电气公司
申请日： 2004-06-14 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子体生成系统(300)，其包括用于生成热等离子体的等离子体生成设备(316)；处于所述等离子体生成设备(316)外的等离子体处理室(318)，其用于接收来自等离子体生成设备(316)的热等离子体，并且，在生成等离子体的过程中，保持等离子体处理室(318)内的压力小于等离子体生成设备(316)中的压力，从而引起热等离子体在等离子体处理室(318)内膨胀；以及用于对所述热等离子体进行电感耦合的电感系统
用于膨胀等离子体电感耦合系统方法

[发明专利]等离子体设备和系统-CN200780043771.7有效
发明人：弗拉基米尔·E·贝拉斯琴科;奥列格·P·索洛伦科;安德里·V·斯米尔诺夫 -专利权人：弗拉基米尔·E·贝拉斯琴科;奥列格·P·索洛伦科;安德里·V·斯米尔诺夫
申请日： 2007-11-27 - 公布日： 2009-12-16 - 主分类号： B44C1/22 文献下载
摘要：一种等离子体设备，包括第一阳极等离子体头和第一阴极等离子体头。每个等离子体头包括电极、等离子体流动通道和布置在所述等离子体流动通道的至少一部分之间的主气体入口。第一阳极等离子体头和第一阴极等离子体头布置成相对彼此成一角度。等离子体设备也包括第二阳极等离子体头和第二阴极等离子体头。每个等离子体头包括电极、等离子体流动通道、以及布置在等离子体流动通道和电极的至少一部分之间的主气体入口，第二阳极等离子体头和第二阴极等离子体头布置成相对彼此成一角度。
等离子体设备系统

[发明专利]复合式等离子体源系统与分体式远程等离子体设备-CN202210688694.7在审
发明人：乐卫平;刘涛;谢幸光 -专利权人：深圳市恒运昌真空技术有限公司
申请日： 2022-06-16 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本申请公开了复合式等离子体源系统与分体式远程等离子体设备，复合式等离子体源系统包括电源装置、等离子体设备、第一分体式等离子体装置与电力分配装置。电源装置用于提供工作电力。第一分体式等离子体装置与等离子体设备连接。电力分配装置用于实现以下两个功能中的至少一个：基于工作电力为等离子体设备提供第一工作电力，以使等离子体设备进行第一等离子体工艺；以及，基于工作电力为第一分体式等离子体装置提供第二工作电力，电源装置与第一分体式等离子体装置形成第一分体式远程等离子体系统，以对等离子体设备进行第二等离子体工艺。
复合等离子体系统体式远程设备

[实用新型]复合式等离子体源系统与分体式远程等离子体设备-CN202221537968.4有效
发明人：乐卫平;刘涛;谢幸光 -专利权人：深圳市恒运昌真空技术有限公司
申请日： 2022-06-16 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本申请公开了复合式等离子体源系统与分体式远程等离子体设备，复合式等离子体源系统包括电源装置、等离子体设备、第一分体式等离子体装置与电力分配装置。电源装置用于提供工作电力。第一分体式等离子体装置与等离子体设备连接。电力分配装置用于实现以下两个功能中的至少一个：基于工作电力为等离子体设备提供第一工作电力，以使等离子体设备进行第一等离子体工艺；以及，基于工作电力为第一分体式等离子体装置提供第二工作电力，电源装置与第一分体式等离子体装置形成第一分体式远程等离子体系统，以对等离子体设备进行第二等离子体工艺。
复合等离子体系统体式远程设备

[发明专利]用于利用自谐振设备的等离子体点火的装置和方法-CN201680008826.X有效
发明人： S.T.史密斯;S.R.沃尔瑟;C.吴 -专利权人： MKS仪器有限公司
申请日： 2016-01-27 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供了用于使等离子体腔室内的过程等离子体点火的方法和装置。一个或多个自谐振设备相对于等离子体腔室内的等离子体生成体积而定位在等离子体腔室内。等离子体生成体积由等离子体腔室限定。每一个自谐振设备生成点火等离子体。点火等离子体引起点火气体的部分电离。部分电离的点火气体允许通过向等离子体生成体积应用电场而使过程等离子体点火。
用于利用谐振设备等离子体点火装置方法

[发明专利]等离子体清洗设备-CN201510505460.4在审
发明人：魏钰;袁广才;王东方 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-08-17 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体清洗设备。所述等离子体清洗设备包括多个等离子体发生筒；所述等离子体发生筒的一端为进气口，另一端为出气口，每个所述等离子体发生筒将位于其内部的气体激发为等离子体；所述多个等离子体发生筒阵列设置；且所述多个等离子体发生筒下端的开孔交错设置上述等离子体清洗设备输入到玻璃基板表面的等离子体可以均匀地将玻璃基板覆盖，减少未被等离子体覆盖的死角，从而可以保证对玻璃基板的清洗效果。
等离子体清洗设备

[发明专利]等离子体显示设备-CN200510088926.1无效
发明人：金基正;禹锡均 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2005-08-03 - 公布日： 2006-02-08 - 主分类号： H05K7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体显示设备。在一个实施例中，该设备将产生于等离子体显示面板的热通过导热层传递，因而防止热在等离子体显示面板上被局部地集中，并且该设备具有改进的散热性能。此外，等离子体显示设备减少产生于附于底板或者等离子体显示面板的电路部分的振动，从而减少噪声。等离子体显示设备包括：等离子体显示面板；支撑等离子体显示面板的底板；置于等离子体显示面板和底板之间的片，该片包括接触等离子体显示面板的导热层和接触底板的减噪层。
等离子体显示设备

[实用新型]微波等离子体辅助原子层沉积设备-CN202221851674.9有效
发明人：王东君;陈宇林;郭敏 -专利权人：英作纳米科技（北京）有限公司
申请日： 2022-07-19 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种微波等离子体辅助原子层沉积设备，包括：微波等离子体发生器、等离子体扩散腔、真空反应室和反应源接口。微波等离子体发生器含有等离子体快速发生装置。微波等离子体发生器通过等离子体扩散腔与真空反应室相连通。等离子体扩散腔与真空反应室通过开合装置连接，通过该开合装置，可以方便样品取放样。本实用新型的微波等离子体辅助原子层沉积设备，能够提供微波辐照，提高等离子体的能量和密度，为原子层沉积的提供合适的能量，降低反应温度。本实用新型的微波等离子体辅助原子层沉积设备含有等离子体快速发生装置以及等离子体反应气体特殊脉冲进入模式，可以实现毫秒级的等离子体脉冲，大大缩短反应时间。
微波等离子体辅助原子沉积设备

[发明专利]等离子体处理设备-CN201880038219.7有效
发明人：马绍铭;弗拉迪米尔·纳戈尔尼;D·V·德塞;瑞安·M·帕库尔斯基 -专利权人：玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司
申请日： 2018-02-28 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供了等离子体处理设备。在一个示例性实施方式中，等离子体处理设备包括处理室。该设备包括可进行操作以在处理室中支撑工件的基座。该设备包括等离子体室。等离子体室沿着等离子体室的电介质侧壁的垂直表面限定有源等离子体产生区域。该设备包括沿垂直方向定位在处理室和等离子体室之间的分离格栅。该设备包括围绕等离子体室延伸的多个感应线圈。多个感应线圈中的每一个可进行操作以在沿着等离子体室的电介质侧壁的垂直表面的有源等离子体产生区域中产生等离子体。
等离子体处理设备

[实用新型]一种等离子体废弃物处理系统-CN202223089504.4有效
发明人：张柯;范景利;邹清杰;韦光辉;呼志杰;宋浩;蔡巍 -专利权人：烟台龙源电力技术股份有限公司
申请日： 2022-11-16 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： F23G5/027 文献下载
摘要：本申请提供了一种等离子体废弃物处理系统，包括：废弃物处置装置和烟气处理装置，废弃物处置装置包括等离子体气化设备和等离子体燃烧设备，等离子体气化设备的外壁和等离子体燃烧设备的外壁分别设置有冷却结构；等离子体气化设备的输入端接收满足输入要求的固体废弃物颗粒，等离子体气化设备的输出端与等离子体燃烧设备的输入端相连；等离子体燃烧设备的输出端与烟气处理装置的输入端相连；其中，该等离子体气化设备对于输入的固体废弃物颗粒进行气化处理得到合成气；等离子体燃烧设备对输入的合成气
一种等离子体废弃物处理系统

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