专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种氧化镓晶片CMP后的清洗方法-CN202010997736.6有效
  • 陈政委;赵德刚;范钦明 - 北京铭镓半导体有限公司
  • 2020-09-21 - 2022-04-05 - B08B3/08
  • 本申请涉及半导体制造技术领域,具体公开了一种氧化镓晶片CMP后的清洗方法。其方法为:S1、用包含硫酸、双氧水和去离子清洗液Ⅰ清洗CMP后的氧化镓晶片,然后用去离子清洗;S2、用包含氨水、双氧水和去离子清洗液Ⅱ清洗S1清洗后的氧化镓晶片,然后用去离子清洗;S3、用包含氢氟酸和去离子清洗液Ⅲ清洗S2清洗后的氧化镓晶片,然后用去离子清洗;S4、用包含盐酸、双氧水和去离子清洗液Ⅳ清洗S3清洗后的氧化镓晶片,然后用去离子清洗;S5、在超声功率为150‑300w的环境下超声清洗S4清洗后的氧化镓晶片
  • 一种氧化晶片cmp清洗方法
  • [实用新型]一种用于石墨极板的清洗装置-CN201921232187.2有效
  • 赵莉添;李振新;李雨龙;郭树杰;谷军 - 河南豫氢动力有限公司
  • 2019-08-01 - 2020-04-10 - B08B3/02
  • 本实用新型公开了一种用于石墨极板的清洗装置,包括热风烘干槽、去离子喷淋清洗槽、去离子浸泡清洗槽、自来浸泡清洗槽、自来喷淋清洗槽和超声波发生器,自来喷淋清洗槽的左侧设置有自来浸泡清洗槽,自来浸泡清洗槽的左侧设置有去离子浸泡清洗槽,去离子浸泡清洗槽和自来浸泡清洗槽下部的内壁上均安装有超声波发生器,去离子浸泡清洗槽的左侧设置有去离子喷淋清洗槽,去离子喷淋清洗槽的左侧设置有热风烘干槽。本实用新型解决了现有清洗设备不能很好的清理所残留下来的石墨粉,造成清洗不干净,残留的石墨粉会二次吸附到石墨板上造成二次污染,导致电导率高的问题。
  • 一种用于石墨极板清洗装置
  • [实用新型]具有颗粒监测功能的去离子清洗设备-CN202023058996.1有效
  • 吴镐硕;朴灵绪 - 苏州恩腾半导体科技有限公司
  • 2020-12-18 - 2021-10-22 - B08B3/08
  • 本实用新型提供一种具有颗粒监测功能的去离子清洗设备,包括去离子清洗槽、补给管路、颗粒监测装置、控制装置及报警装置;去离子清洗槽用于承载去离子及待清洗件;补给管路一端与去离子清洗槽相连通,另一端与去离子源相连接;颗粒监测装置位于补给管路上且与去离子清洗槽相邻;控制装置与颗粒监测装置及报警装置相连接,以当颗粒监测装置监测到去离子中的颗粒数量超过预设值时产生报警信息。本实用新型经改善的结构设计,对进入清洗槽内的去离子进行实时在线监测,并在监测到去离子中的颗粒污染物超标时产生报警信息以提醒工作人员采取应对措施,避免因去离子的污染导致晶圆的污染,有助于提高晶圆清洗质量
  • 具有颗粒监测功能离子水清洗设备
  • [实用新型]微纳米离子高频清洗设备-CN202022672331.3有效
  • 江浩 - 江浩
  • 2020-11-18 - 2021-07-13 - B08B3/04
  • 本实用新型公开了一种微纳米离子高频清洗设备,包括清洗槽和离子发生器,所述离子发生器的出水口与清洗槽的进水口连接,所述离子发生器用于产生离子并传输至清洗槽,所述清洗槽内设有微纳米气泡发生装置,所述微纳米气泡发生装置用于接触离子并产生微纳米气泡本实用新型提供的微纳米离子高频清洗设备,清洗高效,且无毒无害,利于环保。
  • 纳米离子高频清洗设备
  • [实用新型]湿法清洗设备-CN202120138079.X有效
  • 吴镐硕;朴灵绪 - 苏州恩腾半导体科技有限公司
  • 2021-01-19 - 2021-08-31 - H01L21/67
  • 本实用新型提供一种湿法清洗设备,所述湿法清洗设备包括去离子清洗槽及过滤装置,所述过滤装置通过液体管路连接于去离子供应源及所述去离子清洗槽之间,用于将所述去离子供应源供应的去离子经过滤后输送至所述去离子清洗槽本实用新型的湿法清洗设备经改善的结构设计,在去离子输送至清洗槽的液体管路上设置过滤装置以有效过滤去离子中的金属颗粒等杂质,有助于提高湿法清洗品质。
  • 湿法清洗设备
  • [发明专利]研磨垫清洗用高压去离子喷射装置及化学机械研磨设备-CN201210191268.9无效
  • 陈洪雷;邵尔剑;杨阳 - 上海宏力半导体制造有限公司
  • 2012-06-11 - 2012-09-26 - B08B3/02
  • 本发明提供了一种研磨垫清洗用高压去离子喷射装置以及化学机械研磨设备。研磨垫清洗喷射装置包括:研磨垫清洗用高压去离子接入部件,其具有用于接收研磨垫清洗用高压去离子的研磨垫清洗用高压去离子接收端口以及接入部件连接端口;角度调节部件,其具有第一连接端口和第二连接端口;以及研磨垫清洗用高压去离子喷出部件,其具有用于喷出研磨垫清洗用高压去离子的喷出端口以及喷出部件连接端口;所述研磨垫清洗用高压去离子接入部件与所述角度调节部件相连接分别通过所述接入部件连接端口和所述第一连接端口以所述角度调节部件能够调节所连接的所述研磨垫清洗用高压去离子喷出部件的角度的方式相互连接
  • 研磨清洗高压离子水喷射装置化学机械设备
  • [实用新型]晶片清洗设备-CN201020541339.X无效
  • 王敬;翟志华 - 王敬;江西旭阳雷迪高科技股份有限公司
  • 2010-09-25 - 2011-08-31 - H01L21/00
  • 本实用新型公开了一种晶片清洗设备,包括:清洗室;与清洗室相邻设置的干燥装置;以及贯穿清洗室设置的传输部,所述清洗室进一步包括:分别位于所述清洗室两端的、用于运入和运出所述待清洗晶片的进料口和出料口;设置于进料口的第一去离子冲洗区;相邻设置于第一去离子冲洗区的清洗液洗涤区;以及设置于所述出料口附近的第二去离子冲洗区,其中第二去离子冲洗区的出水管路与第一去离子冲洗区的进水管路通过管路连接,从而将所述第二去离子冲洗区的冲洗后液回收并用于所述第一去离子冲洗区进行所述第一阶段冲洗根据本实用新型的晶片清洗设备,可以在保证清洗效果的同时大幅地降低去离子的使用量,节约资源和成本。
  • 晶片清洗设备
  • [发明专利]一种实现电子封装外壳局部镀金的方法-CN201911383385.3在审
  • 解瑞;闫慧;陈宇宁 - 中电国基南方集团有限公司
  • 2019-12-27 - 2020-06-12 - C23G3/00
  • 本发明公开了一种实现电子封装外壳局部镀金的方法,步骤为:将外壳放入碱性除油溶液中清洗,除油后先用自来冲洗,再用去离子清洗;将外壳放入酸洗液中清洗,酸洗后先用自来冲洗,再用去离子清洗干净;将外壳放活化液中进行镀前活化;将外壳放入预镀镍溶液中电镀,镀镍后用去离子清洗干净;将外壳放入镀镍溶液中电镀,镀镍后用去离子清洗干净;将外壳放入镀金溶液中电镀,镀金后用去离子清洗干净;将外壳放入镀金溶液中电镀,镀金后用去离子清洗干净;将外壳放入退金溶液中退金,退金后用去离子清洗干净;用高温鼓风干燥箱对水洗后的外壳进行高温烘干处理。
  • 一种实现电子封装外壳局部镀金方法
  • [发明专利]清洗设备-CN202210420811.1在审
  • 陈嘉朗 - 陈嘉朗
  • 2022-04-21 - 2022-08-05 - B08B3/02
  • 本发明提供一种清洗设备,可适用于机械设备或居家产品的油污清洗或杀菌处理,经一电解水生成器将一洗涤成为一第一碱性离子及一第一酸性离子,第一碱性离子或第一酸性离子再被导入一蒸气产生槽,快速形成一碱性离子蒸气或一酸性离子蒸气,碱性离子蒸气或酸性离子蒸气再被加压后经由一蒸气喷洒器而对准被放置于一清洗件放置区内的一清洗件进行喷洒清洁工作。若选择碱性离子蒸气的喷洒,不仅可去除清洗件表面上的油污或油脂,也可提高清洗件的金属抗腐蚀性。若选择酸性离子蒸气的喷洒,则可对清洗件进行消毒、杀菌或漂白的效果。避免工业除油剂或清洁剂的使用以维护环境保护及自然生态,有效处理清洗件深处表面上的油污。
  • 清洗设备
  • [发明专利]清洗设备-CN202210935665.6在审
  • 陈嘉朗 - 陈嘉朗
  • 2022-08-04 - 2022-12-30 - B08B3/02
  • 本发明提供一种清洗设备,用于机械设备或居家产品的油污清洗或杀菌处理,由一电解水生成器将一洗涤成为一第一碱性离子及一第一酸性离子,第一碱性离子或第一酸性离子被导入一蒸气产生槽,形成一碱性离子蒸气或一酸性离子蒸气,碱性离子蒸气或酸性离子蒸气再被加压后经一蒸气喷洒器而对准被放置于一清洗件放置区内的一清洗件进行喷洒清洁工作。如果选择碱性离子蒸气的喷洒,不仅可去除清洗件表面上的油污或油脂,也可提高清洗件的金属抗腐蚀性。如果选择酸性离子蒸气的喷洒,则可对清洗件进行消毒、杀菌或漂白的效果。借此,不仅避免使用工业除油剂或清洁剂以维护环境保护及自然生态,又可有效处理清洗件深处表面上的油污。
  • 清洗设备
  • [发明专利]纳米微气泡制造和清洗系统-CN201910114882.7在审
  • 吕鸿图;施德毅;戴铭恩;吴彦泽 - 英属开曼群岛商纳诺股份有限公司
  • 2019-02-14 - 2020-08-21 - B08B3/10
  • 本发明系揭露一种纳米微气泡制造和清洗系统,该纳米微气泡制造和清洗系统包含水泵、电解单元、纳米微气泡单元与清洗槽。水泵输出纳米离子至电解单元,通过电解单元电解纳米离子以生成多个气泡(例如气泡尺寸为小尺寸气泡与微尺寸气泡);前述纳米离子通过纳米微气泡单元进一步产生多个纳米微气泡;清洗槽提供容置空间设置物件和注入具有纳米微气泡的纳米离子清洗物件其中,纳米离子通过在电解单元、纳米微气泡单元与清洗槽之间循环流动,而能够持续地以具有纳米微气泡的纳米离子清洗物件。
  • 纳米气泡制造清洗系统
  • [发明专利]带酸性储罐并用酸性离子循环清洗系统的离子生成器-CN200510013258.6无效
  • 李小鲁 - 李小鲁
  • 2005-03-30 - 2005-10-26 - C02F1/28
  • 本发明公开了一种带有酸性离子储罐并用酸性离子循环清洗整个系统的活性离子生成器。它属于离子制造技术领域,可直接安装在家庭的自来水龙头上。以往的此类离子生成器,主要的弊病在于清洗问题。用倒极的方法来清洗系统,倒极时间比例不易掌握。不方便且浪费,而且清垢效果差,杀菌效果差。本发明在系统中加了一个酸性离子储罐,用来储存原本大部分都流失掉的酸性离子。当系统工作一定时间后,用耐酸泵用酸性离子储罐中的酸性离子来循环清洗整个系统。这样操作起来方便了,清垢效果和杀菌效果都提高了;极板和设备的寿命也延长了近30%。
  • 酸性并用离子水循环清洗系统离子水生成器
  • [实用新型]晶圆清洗装置-CN201320095411.4有效
  • 杨勇;杜亮;常延武 - 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 2013-03-01 - 2013-08-14 - B08B3/10
  • 本实用新型提出一种晶圆清洗装置,包括清洗槽、与清洗槽连接的去离子供应管和排水管以及向所述去离子供应管供应氮气的氮气供应管,所述氮气供应管与所述去离子供应管连接,将晶圆放置入充满氮气泡的去离子清洗槽中,借助氮气泡对晶圆表面颗粒的冲洗以及吸附作用,以达到去除晶圆表面颗粒的目的,再通过排水管排除污水,保证清洗槽中的去离子的洁净度。
  • 清洗装置

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