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[发明专利]光学元件加工方法-CN201710498275.6有效
发明人：金会良;邓文辉;钟波;徐曦;袁志刚;郑楠;侯晶;陈贤华 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-06-27 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明提供的光学元件加工方法，涉及光学加工技术领域。该光学元件加工方法包括以下步骤：等离子体熔覆抛光、等离子体快速去除和等离子体面形修正。等离子体熔覆抛光用于熔合光学元件亚表面的损伤裂纹以及改善光学元件的表面光洁度。等离子体快速去除用于消除加工过程中产生的表面及亚表面损伤，并使光学元件的面形精度小于等于2μm，光学元件表面粗糙度小于50nm。等离子体面形修正用于完成所述光学元件的表面误差的修正。该光学元件加工方法操控方便，适合批量化加工，加工精度高，效率高。
光学元件加工方法

[发明专利]一种光学元件消光工艺-CN202010319845.2在审
发明人：王丽青;吴俊甫;邹海荣 -专利权人：江西晶超光学有限公司
申请日： 2020-04-21 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种光学元件消光工艺，包括以下步骤：采用等离子体对光学元件进行消光处理；对光学元件进行杂散光测试，判断测试结果是否合格，若否，返回采用等离子体对光学元件进行消光处理的步骤。本申请通过采用等离子体来对光学元件进行消光处理，等离子体中包含活性基团，在对光学元件进行清洗去污的同时，还可以改善光学元件的表面性能，降低其对光线的反射率。这样，当光学元件安装到镜头中时，就能减少镜头中出现的杂散光。并且，等离子体的方向性不强，可以深入到光学元件的细微空隙和凹陷结构中，清洗的效果好、效率高。
一种光学元件工艺

[发明专利]降低离子束抛光光学元件表面污染的方法-CN201910844111.3有效
发明人：王大森;李晓静;聂凤明;裴宁;郭海林;张旭 -专利权人：中国兵器科学研究院宁波分院
申请日： 2019-09-06 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法，1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理；2)将光学元件安装在夹具后，对光学元件和夹具的表面进行清洁处理，随后放入离子束抛光设备的副腔室内，最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内；3)安装离子源，离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网；4)开启离子束抛光设备，启动离子源，使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流，待离子源运行一定设定时间t稳定后，对光学元件进行离子束抛光。采用该方法，离子束加工后光学元件表面洁净，有效抑制污染，提高加工质量。
降低离子束抛光光学元件表面污染方法

[发明专利]光学元件及包括该光学元件的信息存储器件-CN201210080500.1有效
发明人：李成喆;韩承勋;柳寅敬 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2012-03-23 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G11C13/04 文献下载
摘要：本发明提供一种光学元件和包括该光学元件的信息存储器件。该光学元件可以包括用于将圆偏振光转变为等离子体激元并发射该等离子体激元的光波导结构。光波导结构可以发射圆偏振等离子体激元场。光学元件可以用在信息存储器件中。例如，信息存储器件可以包括记录介质和用于在记录介质上记录信息的记录元件，记录元件可以包括光学元件。通过利用由光学元件产生的圆偏振等离子体激元场，信息可以被记录在记录介质上。
光学元件包括信息存储器件

[发明专利]基于离子束抛光的光学元件表面清洗方法-CN201210553986.6有效
发明人：戴一帆;解旭辉;袁征;周林;关朝亮;胡皓 -专利权人：中国人民解放军国防科学技术大学
申请日： 2012-12-19 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于离子束抛光的光学元件表面清洗方法，包括以下步骤：以经过单点金刚石车削或磁流变抛光后的光学元件作为加工对象，采用基于低能离子溅射原理的离子束抛光方法对该加工对象的表面进行加工，在加工过程中，控制离子束对光学元件表面进行均匀扫略，加工结束后完成对光学元件表面的清洗。本发明的表面清洗方法简单易行，对设备要求低，可降低光学表面元件表面粗糙度和去除光学元件表面杂质。
基于离子束抛光光学元件表面清洗方法

[发明专利]一种耐磨消杂型光学玻璃元件及其制备方法与应用-CN202110218199.5有效
发明人：沈杰 -专利权人：南通市国光光学玻璃有限公司
申请日： 2021-02-26 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： C03C3/089 文献下载
摘要：本发明属于光学玻璃加工技术领域，具体涉及一种耐磨消杂型光学玻璃元件及其制备方法与应用。该元件包括光学玻璃基体和复合光吸收层；所述复合光吸收层位于所述光学玻璃基体的表面；所述复合光吸收层依次包括基础层、过渡层和功能层，基础层与玻璃基底相接；所述基础层、过渡层和功能层均含有掺杂金属离子，所述掺杂离子包括钛离子，还包括镓离子、锡离子或铌离子中任意一种或多种；钛离子在基础层、过渡层和功能层中的摩尔浓度依次递增。该耐磨消杂型光学玻璃元件不仅能够有效吸收杂散光，提高该光学玻璃元件的精度，还能使该光学玻璃元件获得优异的耐磨性能，从而适用于多种环境下进行应用，并延长光学玻璃元件的使用寿命。
一种耐磨消杂型光学玻璃元件及其制备方法应用

[实用新型]一种大口径光学元件的离子束加工装置-CN202121810366.7有效
发明人：宋驰;张鑫;殷龙海;尹小林;张斌智;李鑫;黄贺;张乐 -专利权人：摩高光学科技（佛山）有限公司
申请日： 2021-08-04 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本申请涉及离子束加工的技术领域，尤其是涉及一种大口径光学元件的离子束加工装置，包括真空加工舱以及设置于所述真空加工舱内用于对光学元件进行离子束加工的离子源，所述离子源的发射端设置有用于吸附溅射材料的挡板，所述挡板上开设有供离子束通过的通孔，所述挡板表面粗糙度达到纳米量级，所述光学元件设置于所述真空加工舱内的预定位置，所述离子源位于所述光学元件上方且发射端朝向所述光学元件本申请具简化了离子束加工设备且有利于保证产品质量
一种口径光学元件离子束加工装置

[发明专利]用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统-CN201911291678.9在审
发明人：牛龙飞;苗心向;周国瑞;刘昊;吕海兵;蒋一岚;蒋晓东;周海;倪卫 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2019-12-16 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： B08B6/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，包括：底板，其上通过支撑柱放置有光学元件；风刀及离子棒单元，其通过支撑单元连接在底板上，且风刀及离子棒单元位于光学元件的一端，并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面；静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上，且正电极棒位于光学元件的上方，负电极棒位于光学元件的的下方。本发明通过风刀及离子棒产生离子风或高速气流将光学元件表面的污染物去除并使污染物荷电，采用静电吸附电极在光学元件末端或将静电吸附电极带动在光学元件表面进行来回运动，对污染物进行收集，从而达到污染物去除的目的
用于光学元件表面颗粒污染物处理系统

[实用新型]用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统-CN201922250112.3有效
发明人：牛龙飞;苗心向;邹睿;周国瑞;刘昊;蒋一岚;蒋晓东;周海;倪卫 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2019-12-16 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： B08B6/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，包括：底板，其上通过支撑柱放置有光学元件；风刀及离子棒单元，其通过支撑单元连接在底板上，且风刀及离子棒单元位于光学元件的一端，并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面；静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上，且正电极棒位于光学元件的上方，负电极棒位于光学元件的的下方。通过风刀及离子棒产生离子风或高速气流将光学元件表面的污染物去除并使污染物荷电，采用静电吸附电极在光学元件末端或将静电吸附电极带动在光学元件表面进行来回运动，对污染物进行收集，从而达到污染物去除的目的。
用于光学元件表面颗粒污染物处理系统

[发明专利]一种通过离子注入调节光学元件光学性能的方法-CN202010005326.9在审
发明人：崔云;张晗宇;赵元安;易葵 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-01-03 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明属于光学元件领域，具体涉及一种离子注入调节光学元件光学性能的方法，步骤包括：通过计算模拟离子注入基底表面的深度与离子能量、入射角度的关系，模拟入射离子在基底中的分布，模拟离子种类和剂量对光谱调节范围和幅度的影响；根据所需调节光谱波段和幅度，依照模拟计算结果，确定离子注入种类、能量、注入角度、注入剂量；将基底置于离子注入机内，注入确定能量和剂量的离子。通过本发明方法在基底表面注入离子，调节光学元件的吸收、透射或反射，而不影响元件表面粗糙度、硬度、耐磨性，保证光学元件的环境适应性，应用于发光晶体、探测窗口或节能窗口等，应用前景广阔。
一种通过离子注入调节光学元件性能方法

[发明专利]一种熔石英光学元件表面的处理方法-CN201610606135.1有效
发明人：孙来喜;黄进;蒋晓东;叶鑫;刘红婕;王凤蕊;耿峰;周晓燕;李青芝 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2016-07-28 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： C03C15/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种熔石英光学元件表面的处理方法，主要包括如下步骤：(A)对熔石英光学元件的表面进行反应离子刻蚀处理后，去离子水漂洗；(B)再采用HF‑NH₄F缓释溶液对熔石英光学元件的表面进行刻蚀处理，去离子水漂洗，即可。本发明实施例的熔石英光学元件的表面处理方法实现了以较低的材料去除量对熔石英光学元件表面进行处理，并使得处理后的熔石英光学元件不仅具有较高的损伤阈值，还具有较低的粗糙度。
熔石英光学元件去离子水漂洗反应离子刻蚀材料去除量粗糙度缓释刻蚀损伤

[发明专利]光学元件加工装置及加工方法-CN201811049182.6有效
发明人：许乔;李亚国;金会良;王度;袁志刚;刘志超;耿锋;欧阳升;张清华;王健 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-09-07 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种光学元件加工装置及加工方法，该装置包括加工真空腔室以及多个团簇离子束产生装置，加工真空腔室内设置有用于放置待加工光学元件的运动台，各团簇离子束产生装置设置在加工真空腔室顶部，并连接在加工真空腔室的开口处各团簇离子束产生装置用于对不同种类的源气进行处理以得到不同的团簇离子束，并将产生的团簇离子束输送至加工真空腔室，并作用于光学元件的表面以对光学元件进行面形修整加工。如此，在光学元件进样、抽真空及位置坐标确定的情况下，可实现不同团簇离子束加工模式的集成加工，保障光学元件在无衍生缺陷的高精度面形修整加工的前提下，提高光学元件的加工效率。
光学元件加工装置方法

[发明专利]氟磷酸盐玻璃、模压成型用玻璃材料、光学元件坯料、光学元件和玻璃成型体及制造方法-CN201410381364.9在审
发明人：池西干男 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2009-08-26 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： C03C3/247 文献下载
摘要：本发明提供了一种氟磷酸盐玻璃，所述氟磷酸盐玻璃包含作为玻璃成分的3阳离子％～25阳离子％的P5+、超过30阳离子％且为40阳离子％以下的Al3+、0.5阳离子％～20阳离子％的Li+和65阴离子％以上的本发明还提供了模压成型用玻璃材料、光学元件坯料、光学元件和玻璃成型体及制造方法。本发明的氟磷酸盐玻璃具有超低色散性和稳定性，优选用于模压成型用玻璃材料、光学元件坯料和光学元件。
磷酸盐玻璃模压成型材料光学元件坯料制造方法

[发明专利]一种用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法-CN202110429742.6在审
发明人：裴宁;王大森;聂凤明;张旭;李晓静;夏超翔;郭海林;刘敏;周静;李维杰 -专利权人：中国兵器科学研究院宁波分院
申请日： 2021-04-21 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：对光学元件进行古典抛光；步骤二：对经过古典抛光的光学元件进行真空等离子体抛光。本发明采用古典抛光和等离子抛光的复合抛光技术，能显著消除光学元件的表面与亚表面损伤，该复合抛光技术能够有效克服古典抛光造成光学元件表面和亚表面损伤以及等离子抛光的抛光效率低的问题，即将古典抛光与等离子体抛光结合
一种用于去除光学元件表面表层损伤抛光方法

[发明专利]RB-SiC光学元件抛光工艺加工方法-CN201710397592.9有效
发明人：惠迎雪;刘卫国;张进;周顺;徐均琪;赵杨勇;熊涛;房沫岑 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2017-05-31 - 公布日： 2018-10-30 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种RB‑SiC光学元件抛光工艺加工方法，该方法首先利用电感耦合等离子体抛光技术实现RB‑SiC光学元件的精磨抛光，之后利用射频磁控溅射表面平坦化技术在光学表面沉积纳米级平坦化层、最后利用离子束抛光修形技术辅助自由基微波等离子体抛光技术实现光学元件超光滑表面加工相比于现有技术，本发明利用等离子体抛光技术替代传统的光学加工方法，结合纳米级的平坦化层制备技术和离子束修形抛光技术，极大地缩短了中大口径RB‑SiC元件的加工周期，构建了以高效率、高精度和低损耗的特点RB‑SiC光学元件抛光加工新方法。
rb sic 光学元件抛光工艺加工方法

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