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[发明专利]一种单相磁流变抛光液及其制备方法-CN202110501082.8在审
发明人：李晓媛;叶作彦;叶敏恒;李启凯;王利利;潘金龙;程磊;王超 -专利权人：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请日： 2021-05-08 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种单相磁流变抛光液及其制备方法，涉及抛光材料技术领域，本方案通过将传统抛光液采用的微米磁性颗粒和纳米磨粒替换为纳米磁性颗粒，所述纳米磁性颗粒具有微米磁性颗粒和纳米磨粒的两种功能；并对所述纳米磁性颗粒进行功能化修饰，使所述纳米磁性颗粒具有表面包覆层形成核壳结构，制成所述复合磁性磨粒，复合磁性磨粒的颗粒间的团聚性较小，能在一定程度上避免团聚的磁性颗粒对工件表面的刮擦作用较大的问题，并且所述复合磁性磨粒具有表面包覆层，能够与工件表面的硬度更好的匹配，以提升单相磁流变抛光液的抛光效果。
一种单相流变抛光及其制备方法

[发明专利]大型零件抛光设备和抛光方法-CN200480020174.9无效
发明人：谷中悟;浅井知;坪井竜介;上村健司;田沼唯士;菊地正孝 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2004-04-28 - 公布日： 2006-08-23 - 主分类号： B24C5/06 文献下载
摘要：本发明包括：将涡轮机零件夹持在预先确定的位置上的转台(18)，转台由支撑元件可旋转地支撑；磨料供应单元，用于把具有作为芯部的弹性材料的磨粒供应到预先确定的位置来作为磨料；以及包括叶轮的抛光头(6)，叶轮由叶轮驱动电机(11)高速驱动和转动并且向从磨料供应单元供应的磨粒施加旋转能，抛光头(6)以预先确定的速度朝转台上夹持的涡轮机零件的将被抛光的表面喷射从叶轮的切向方向飞出的磨粒；以及磨料回收单元，用于回收从抛光头(6)射出的为抛光涡轮机零件所提供的磨粒并且将磨粒供应到磨料供应单元中。
大型零件抛光设备方法

[发明专利]一种季铵化球形α-氧化铝@γ-氧化铝复合磨粒及其制备方法-CN202011133210.X有效
发明人：雷逸凡;雷红;杨小强;张会龙;陈巍巍 -专利权人：上海胶束化工有限公司
申请日： 2020-10-21 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种季铵化球形α‑氧化铝@γ‑氧化铝复合磨粒的制备方法，先利用含有端基官能团的硅烷偶联剂对球形α‑氧化铝进行改性，进一步与叔胺反应得到球形α‑氧化铝季铵化产物，并带上正电荷；最后利用静电引力和氢键作用力，使得带负电荷的不规则形貌的γ‑氧化铝粒子在球形α‑氧化铝季铵化产物表面发生吸附，得到核壳型季铵化球形α‑氧化铝@γ‑氧化铝复合磨粒。采用该复合磨粒对手机陶瓷盖板进行抛光，与常规不规则形貌的α‑氧化铝磨粒相比，本发明磨粒能够有效阻止抛光损伤和抛光缺陷的发生；与球形α‑氧化铝相比，本发明季铵化球形α‑氧化铝@γ‑氧化铝复合磨粒的抛光速率提高了50％以上，本发明磨粒对手机陶瓷盖板体现出优异的“高速率、高精度”抛光特性。
一种季铵化球形氧化铝复合及其制备方法

[发明专利]一种气膜孔抛光用双向精密抛光系统以及抛光方法-CN202310244512.1在审
发明人：吴冬;张超;王炳坤;刁金香;原志翔 -专利权人：西安航空职业技术学院
申请日： 2023-03-14 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： B24B31/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种气膜孔抛光用双向精密抛光系统，其特征在于，包括控制系统、动力系统、A系统、B系统、清洁系统；控制系统控制研磨液压力以及活塞的运动；动力系统为抛光系统的运动提供动力；B系统在硬件结构、连接关系及功能上与所述A系统相同，B系统与A系统相互配合，对气膜孔内流道进行研磨；清洁系统可以过滤掉研磨液中的杂质以及磨抛下来的气膜孔材料。本发明还提供了一种气膜孔抛光用双向精密抛光方法与所述系统相互配合、再辅以磨抛时间、磨抛压力的限定，基本解决了现有磨粒流技术抛光后气膜孔内部与端口处孔径扩大尺寸差别较大的问题。
一种气膜孔抛光双向精密系统以及方法

[发明专利]一种伺服阀阀芯喷嘴的磨粒流加工实验验证方法-CN201610048006.5在审
发明人：李俊烨;杨兆军;王震;张心明;吴庆堂;李学光;许颖;张宝庆 -专利权人：长春理工大学
申请日： 2016-01-25 - 公布日： 2016-06-15 - 主分类号： B24C1/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种伺服阀阀芯喷嘴的磨粒流加工实验验证方法，利用磨粒流加工技术对伺服阀阀芯喷嘴进行微小孔径通道内表面的抛光加工，实验结束后，为了对其通道内表面的检测，首先需要将已加工工件线切割，零件清洗之后，本发明论证了磨粒流加工技术的有效性，磨料介质的微磨损机理以及加工预测的论证。
一种伺服阀阀芯喷嘴磨粒流加工实验验证方法

[发明专利]一种高精度阀体内表面加工装置-CN202011219561.2在审
发明人：李俊烨;隋拓;丁红昌;石广丰;王新鹏;刘建河;尚春民;周化文 -专利权人：长春理工大学;长春理工大学重庆研究院
申请日： 2020-11-05 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： B24B31/10 文献下载
摘要：本装置采用顶杆同时穿过紧固座1和紧固座2，通过调节2个顶杆嵌入紧固座2的深度，可以自由的调节夹紧程度，入口一侧通入磨粒流，则磨粒流从出口一侧流出，带传动齿轮的下端盖子在电机的驱动下，带动装置旋转，使得磨粒与阀体内表面充分接触，极大增加阀体内表面和通道抛光效率，且该装置结构紧凑，便于拆装，性能可靠，经济实惠。
一种高精度阀体表面加工装置

[实用新型]一种高精度阀体内表面加工装置-CN202022526543.0有效
发明人：李俊烨;隋拓;丁红昌;石广丰;王新鹏;刘建河;尚春民;周化文 -专利权人：长春理工大学;长春理工大学重庆研究院
申请日： 2020-11-05 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： B24B31/10 文献下载
摘要：本装置采用顶杆同时穿过紧固座1和紧固座2，通过调节2个顶杆嵌入紧固座2的深度，可以自由的调节夹紧程度，入口一侧通入磨粒流，则磨粒流从出口一侧流出，带传动齿轮的下端盖子在电机的驱动下，带动装置旋转，使得磨粒与阀体内表面充分接触，极大增加阀体内表面和通道抛光效率，且该装置结构紧凑，便于拆装，性能可靠，经济实惠。
一种高精度阀体表面加工装置

[发明专利]带有叶片约束构件的旋转抛光装置-CN201310635526.2有效
发明人：张利;丁少杰;金明生;袁巧玲 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2013-12-03 - 公布日： 2014-03-05 - 主分类号： B24C3/02 文献下载
摘要：一种带有叶片约束构件的旋转抛光装置，包含箱体、罩体；箱体中心设有旋转装置，旋转装置上安装工件，罩体套装在箱体上方，罩体可绕轴线旋转，罩体内腔和箱体内腔间形成密封的抛光室，罩体内表面上均布叶片，箱体两侧分别设有磨粒流入射口和磨粒流出射口，磨粒流入射口和磨粒流出射口与抛光室相通。本发明中抛光室内形成磨粒流流道，箱体内旋转装置可带动工件旋转，罩体内表面上均布叶片且罩体可在电机的带动下旋转，工件与罩体旋转方向相反，从而使得抛光室内的研磨液产生相对的无序运动来实现表面的微力微量切削，达到镜面级表面粗糙度，抛光效果好、精度高。
带有叶片约束构件旋转抛光装置

[实用新型]一种带有叶片约束构件的旋转抛光装置-CN201320781121.5有效
发明人：张利;丁少杰;金明生;袁巧玲 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2013-12-03 - 公布日： 2014-06-04 - 主分类号： B24C3/02 文献下载
摘要：一种带有叶片约束构件的旋转抛光装置，包含箱体、罩体；箱体中心设有旋转装置，旋转装置上安装工件，罩体套装在箱体上方，罩体上方通过转轴连接电机，罩体内腔和箱体内腔间形成密封的抛光室，罩体内表面上均布叶片，箱体两侧分别设有磨粒流入射口和磨粒流出射口，磨粒流入射口和磨粒流出射口与抛光室相通。本实用新型中抛光室内形成磨粒流流道，箱体内旋转装置可带动工件旋转，罩体内表面上均布叶片且罩体可在电机的带动下旋转，工件与罩体旋转方向相反，从而使得抛光室内的研磨液产生相对的无序运动来实现表面的微力微量切削，达到镜面级表面粗糙度，抛光效果好、精度高。
一种带有叶片约束构件旋转抛光装置

[发明专利]一种电泳辅助自进给式超精密微量抛光方法及装置-CN202211158239.2有效
发明人：何俊峰;梁华卓;周莉;梁佳明 -专利权人：广东技术师范大学
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种电泳辅助自进给式超精密微量抛光方法及装置，S1、通过压力反馈装置实现在线对刀并保持合适的压力作用；S2、把纳米磨粒胶体溶液浸入可拔插自构建电场式电泳辅助电极；S3、纳米磨粒聚集到可拔插自构建电场式电泳辅助电极处，基于电泳特性，组成自适应动态变化磨粒层，实现磨粒层的构建；S4、实现工件在电泳辅助自进给超精密抛光磨头下的旋转运动，并在磨粒层的作用下，达到抛光的效果。电泳辅助自进给超精密抛光磨头安装在磨头夹具上；工作液槽安装在精密三维运动平台上，工作液槽内安装有具有压力反馈的高精度旋转平台，本发明可实现复杂曲面金属、非金属硬脆性材料表面的高精度高效率精密无损抛光，磨粒利用率高
一种电泳辅助进给精密微量抛光方法装置

[发明专利]一种芬顿辅助三相流动压空化抛光SiC光学曲面方法及装置-CN201810281076.4有效
发明人：赵军;郑启明;计时鸣 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2018-04-02 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： B24B31/116 文献下载
摘要：一种芬顿辅助三相流动压空化抛光SiC光学曲面方法，首先将SiC工件无需加工的部分用隔绝材料包裹，然后将SiC工件浸泡于装有芬顿试剂的反应池中；反应一段时间后，将工件取出并用夹具固定在抛光液容器中；串并混联抛光平台控制圆柱形抛光工具相对于工件的位姿，使抛光工具与工件表面始终保持一个微小的加工间隙，工具与工件完全浸没在抛光液中；由伺服电机驱动圆柱形抛光工具高速旋转，超声波气泡发生机构不断调整变幅杆相对于动压区域的位姿，随着抛光进行，磨粒流循环系统对抛光容器中的磨粒进行循环输送以及提供一种芬顿辅助三相流动压空化抛光SiC光学曲面。本发明在不造成表面及亚表面的损伤的前提下，提高抛光效率。
一种辅助三相流动压空化抛光 sic 光学曲面方法装置

[实用新型]一种铸件变截面通道双向磨粒流加工工装-CN202123351023.1有效
发明人：杨如生;张雷 -专利权人：南通海泰科特精密材料有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： B24B31/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及铸件抛光技术领域，具体公开了一种铸件变截面通道双向磨粒流加工工装，工装安装在上磨料缸和下磨料缸之间，其特征在于，工装包括依次设置的设备法兰、下底座、下护环、支撑板和上护环，设备法兰安装在下磨料缸上，支撑板上设有若干个支撑块，若干个支撑块上架设有铸件，铸件位于上护环的内侧，铸件上安装有上盖板，上盖板的四周通过紧固件设置在上护环上；支撑板上设有若干个流道通孔，铸件表面上设有若干个变截面通道。本实用新型下磨料缸内的磨粒通过磨粒流道至上磨料缸，上磨料缸吸起磨粒再向下挤压，如此反复操作，从而满足了铸件以及变截面通道的粗糙度要求，同时也清除了变截面通道口的毛刺，从而提高了铸件的品质。
一种铸件截面通道双向磨粒流加工工装

[发明专利]一种可溶性固着软质磨料抛光薄膜制作方法-CN201410461448.3有效
发明人：周兆忠;冯凯萍;邓乾发;吕冰海;袁巨龙 -专利权人：衢州学院
申请日： 2014-09-11 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：一种可溶性固着软质磨料抛光薄膜，包括磨料层和衬底层，厚度为0.3～5mm。磨料层以一种可溶性高分子材料作为结合剂，一定比例的多层粒径软质微细磨料按一定规律分布涂覆于弹性的衬底基底上。小粒径磨粒即可直接参与抛光过程，又可以作为填充物质，起到支撑大颗粒的作用，降低了抛光薄膜中的树脂结合剂含量，从而有效避免了薄膜表面龟裂、崩开的问题。加工过程中采用特定的无毒无害的水性溶剂，溶解抛光薄膜表层的结合剂，降低结合剂对磨粒的把持力使其脱落，一方面可以去除表层钝化磨粒，使抛光薄膜拥有较为持久的抛光性能；另一方面，固着在抛光薄膜表面上的磨粒与脱落分散到抛光液中的磨粒对工件共同作用，可实现工件超光滑表面的高效抛光。
一种可溶性固着磨料抛光薄膜制作方法

[发明专利]用于大长径比微孔电场辅助微磨粒抛光系统及方法-CN202210880531.9有效
发明人：袁巧玲;葛江涛 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2022-07-25 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明用于大长径比微孔电场辅助微磨粒抛光系统及方法，系统包括抛光模块、磨料循环模块、电荷加载模块、控制模块，抛光方法包括实验平台的搭建、工件的固定、正负电荷的加载及利用带电磨粒的撞击实现抛光。本发明采用电场辅助，使得磨粒和工件内表面分别附加上负电荷和正电荷，由于电荷的尖端聚集效应，内表面的峰处聚集大量正电荷，对磨粒产生额外的吸力，有效解决了传统抛光方法抛光精度一致性难以保持的问题，能适应各种复杂孔壁的工件，且相较于传统抛光装置，耗能更低。
用于长径微孔电场辅助微磨粒抛光系统方法

[发明专利]铁掺杂氧化硅溶胶复合磨粒和其抛光液组合物以及其制备方法-CN201510276371.7在审
发明人：雷红;顾倩;陈入领;马盼;仝开宇;黄丽琴;张佰春 -专利权人：上海大学
申请日： 2015-05-26 - 公布日： 2015-09-30 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及铁元素掺杂氧化硅溶胶的复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法。该复合磨粒的制备方法为：质量分数为0.29%氯化铁溶液与质量分数为2-3%稀硅酸溶液以等质量比，在一定反应条件下加入氧化硅晶种中，通过硅溶胶长大过程将铁元素掺杂到氧化硅溶胶磨粒中去，形成均一、稳定的铁元素掺杂硅溶胶的复合磨粒本发明的复合磨粒的物理结构为纳米级的球形，该磨粒的化学组成上含有铁元素，铁元素的作用是可与蓝宝石、硅片表面发生化学作用，提高了抛光速率。本发明提供的抛光液对蓝宝石基片和硅片进行抛光，可以有效降低蓝宝石和硅片表面的粗糙度及微粗糙度，且提高蓝宝石和硅片的抛光速率。
掺杂氧化硅溶胶复合抛光组合及其制备方法