“磁控溅射阴极”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网_专利查询网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果133418个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]弧光离子源增强磁控溅射装置-CN200820065576.6无效
发明人：余益飞;杨兵;黎明;付德君 -专利权人：武汉新铬涂层设备有限公司
申请日： 2008-01-31 - 公布日： 2008-12-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种弧光离子源增强中频磁控溅射装置，用于硬质保护涂层的快速制备。本装置由真空室、磁控溅射装置、弧光离子源和基片架构成，磁控靶垂直安装于真空室侧面，配备有大功率中频开关电源，背面通有循环冷却水；弧光离子源阴极灯丝置于真空室的顶部，阴极灯丝由一个交流电源为灯丝供电，同时接弧电源的阴极本装置充分发挥了弧光离子源和磁控溅射的优点，沉积速度快、表面光洁度好，最适合用于氮化铬等硬质保护涂层的快速制备，属于环境友好型替代电镀铬的装置，生产过程无污染。
弧光离子源增强磁控溅射装置

[实用新型]磁控溅射装置组合单元-CN201020056712.2有效
发明人：王金林;陆卫;季亚林;徐军 -专利权人：广东中航特种玻璃技术有限公司;中国科学院上海技术物理研究所
申请日： 2010-01-19 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种磁控溅射装置组合单元，包括阴极，分子泵以及导流罩，所述的分子泵设置在导流罩内，所述的分子泵与阴极并列设置。本实用新型的磁控溅射装置组合单元通过将阴极和分子泵设置在一个单元里，节约了镀膜设备中的单元数量，而又达到了同样的工艺效果，这样对所有因设备单元数量有限而使多层镀膜受限制提供了一个很好的解决方案，在不增加设备购买以及满足产品性能要求的情况下，可以继续放置更多的阴极进行多层镀膜，从而大大的节约了生产成本，提高了生产效率。
磁控溅射装置组合单元

[实用新型]一种快速制备晶体外延薄膜的装置-CN201320117675.5有效
发明人：季泳;张龚磊 -专利权人：贵阳嘉瑜光电科技咨询中心
申请日： 2013-03-14 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： C30B25/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种快速制备晶体外延薄膜的装置，它包括真空室、抽真空系统、反应磁控溅射外延装置以及旋转式薄膜生长装置，其中，反应磁控溅射外延装置由阴极部、原子源阳极、气体导向部以及电源组成，阴极部包括至少一个阴极、位于阴极上的金属或半导体靶材以及磁控回路。
一种快速制备晶体外延薄膜装置

[实用新型]磁控溅射设备及其阴极装置-CN201820443363.6有效
发明人：王正安 -专利权人：北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
申请日： 2018-03-29 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种磁控溅射设备及磁控溅射设备的阴极装置。该阴极装置包括靶材组件、磁路组件、传动组件和驱动装置。磁路组件正对于靶材组件设置，磁路组件包括多个能独立产生磁场的磁路单元。本实用新型的阴极装置能够向靶材组件同时提供多个磁场，使溅射效率提高。同时，驱动装置可通过传动组件与磁路组件的各个磁路单元连接，可驱动磁路组件整体往复移动，使磁场的作用范围得以扩大，从而减小靶材组件上的非刻蚀区域，增大刻蚀区域，使靶材组件的利用率得以提升，最终使溅射效率提高
磁路组件靶材组件传动组件阴极装置磁控溅射设备磁路单元驱动装置磁场本实用新型刻蚀区域溅射第二位置第一位置驱动减小预设

[实用新型]一种高曲度弧形阴极磁控溅射靶-CN201320181124.5有效
发明人：韩裕鲲 -专利权人：昆山艾诺美航天材料有限公司
申请日： 2013-04-12 - 公布日： 2013-10-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于战机座舱罩镀膜的高曲度弧形阴极磁控溅射靶，包括弧形基架、充气管、永久磁体、辉光放电电极。所述弧形基架是溅射靶的主要部分，它的形状是本实用新型设计的重点。本实用新型高曲度弧形阴极磁控溅射靶，形状符合飞机座舱罩曲面外形，能够实现对复合曲面的飞机座舱罩快速、均匀的大面积镀膜，确保其导电率和透光率。
一种曲度弧形阴极磁控溅射

[实用新型]一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置-CN90210166.8无效
发明人：战余英;宋刚;王德荣 -专利权人：辽宁省环境保护科学研究所
申请日： 1990-02-26 - 公布日： 1990-12-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置，它由密闭在真空容器内的两个圆柱型磁控溅射阴极；设在两个阴极之间的挡板，可加负偏压电的夹具和电器控制系统组成。这种镀膜装置具有二十来种适合不同镀膜工艺的自动控制功能，可以溅射镀，也可以离子镀，在一个镀膜周期内可以镀单一金属成分的膜，也可以镀多层结构不同金属成分的膜。
一种多功能磁控溅射离子镀膜装置

[发明专利]一种平面磁控溅射阴极靶面防护屏蔽装置-CN201911134573.2在审
发明人：张晓岚;谢丑相;王国昌;籍龙占;吴历清 -专利权人：杭州朗旭新材料科技有限公司
申请日： 2019-11-19 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种平面磁控溅射阴极靶面防护屏蔽装置，包括用以分别设于平面靶材外侧的上下两端的传动杆和导向杆，以及上下两端分别与所述传动杆和所述导向杆滑动连接的多个折叠杆，多个所述折叠杆之间装设有防护屏蔽面上述平面磁控溅射阴极靶面防护屏蔽装置，多个折叠杆沿传动杆和导向杆滑动以带动防护屏蔽面铺展拉开或折叠收回，折叠结构的形式减小了空间的占用，完全拉开时可起到未工作靶材表面的防护作用，部分拉开时还可调节靶材的溅射速率和溅射区域等重要参数
一种平面磁控溅射阴极防护屏蔽装置

[发明专利]一种磁控溅射阴极动态刻蚀模型的构建方法、装置、设备-CN202210648330.6在审
发明人：吴忠振;崔岁寒;陈秋浩 -专利权人：深圳元点真空装备有限公司
申请日： 2022-06-09 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G16C10/00 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体放电物理技术领域，具体是涉及一种磁控溅射阴极动态刻蚀模型的构建方法、装置、设备。本发明在仿真刻蚀的过程中考虑了因刻蚀形貌变化而导致的等离子体放电状态的变化，及其对刻蚀形貌的反作用，并将溅射离子组分和背景温度作为计算刻蚀模型的因素，因此提高了刻蚀模型的精度，另外由于本发明考虑了溅射离子组分和背景温度分布的影响，使得本发明能够适用于新一代高功率、高离化的磁控溅射技术，可以实现高功率放电、复杂磁场、大深度刻蚀等条件下的等离子体放电特性和阴极刻蚀行为的精确仿真。
一种磁控溅射阴极动态刻蚀模型构建方法装置设备

[实用新型]一种平面磁控溅射阴极靶面防护屏蔽装置-CN201922008302.4有效
发明人：张晓岚;谢丑相;王国昌;籍龙占;吴历清 -专利权人：杭州朗旭新材料科技有限公司
申请日： 2019-11-19 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种平面磁控溅射阴极靶面防护屏蔽装置，包括用以分别设于平面靶材外侧的上下两端的传动杆和导向杆，以及上下两端分别与所述传动杆和所述导向杆滑动连接的多个折叠杆，多个所述折叠杆之间装设有防护屏蔽面上述平面磁控溅射阴极靶面防护屏蔽装置，多个折叠杆沿传动杆和导向杆滑动以带动防护屏蔽面铺展拉开或折叠收回，折叠结构的形式减小了空间的占用，完全拉开时可起到未工作靶材表面的防护作用，部分拉开时还可调节靶材的溅射速率和溅射区域等重要参数
一种平面磁控溅射阴极防护屏蔽装置

[发明专利]阴极体以及采用该阴极体的荧光管-CN200880106539.8无效
发明人：大见忠弘;后藤哲也 -专利权人：国立大学法人东北大学;财团法人国际科学振兴财团
申请日： 2008-09-12 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： H01J61/06 文献下载
摘要：本发明的课题是提供具有高亮度、高效率且长寿命的阴极体。在由含有氧化镧的热传导率高的金属合金形成的圆筒状杯体上，采用能够以低电子温度进行溅射的磁控溅射装置，形成LaB6膜，由此来制造本发明的阴极体。
阴极以及采用荧光

[发明专利]一种用于旋转阴极的液密封结构及真空磁控溅射装置-CN201910168258.5有效
发明人：张迎春;张源 -专利权人：张迎春
申请日： 2019-03-06 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本申请公开一种用于旋转阴极的液密封结构，在真空磁控溅射旋转阴极中采用上述液密封结构用于冷却水的动态和静态密封，所述第一密封环的一端设置有与固定件连接的键结构，另一端与第二密封环平面接触；两密封环高光洁度表面之间直接接触提供动态密封因此，采用上述液密封结构既可以保证高压大流量的冷却水供应，减少靶面积瘤、打弧现象；又可以确保有更高的溅射速率。并且，在真空磁控溅射旋转阴极中采用上述液密封结构可以有效的满足旋转阴极在其使用过程中对冷却循环密封结构的质量高密封性能和长期免维护的迫切需求。
一种用于旋转阴极密封结构真空磁控溅射装置

[发明专利]一种管件内壁真空镀膜装置及生产工艺-CN201811360942.5有效
发明人：郎文昌;王向红;刘伟;黄志宏 -专利权人：温州职业技术学院
申请日： 2018-11-15 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种管件内壁真空镀膜装置及生产工艺，包括翻转组件、磁靴组件、真空腔室、阴极组件、管件台、加热筒、绝缘组件及密封组件，翻转组件套装在真空腔室上可实现上下料时的真空腔室的翻转，真空腔室内可套装管件台用于夹装待镀管件，管件台上套装加热筒用以加热管件，阴极组件通过绝缘组件及密封组件套装在待镀管件内，阴极组件包括磁控溅射阴极及电弧阴极，不同阴极装配相应的磁靴组件，通过利用一次性铜管加工靶料形成的水冷阴极在真空下的磁控溅射本发明采用可翻转的真空腔室及替换性的阴极组件，实现对部分具有高要求的管件内壁进行涂层。
一种内壁真空镀膜装置生产工艺

[实用新型]磁控溅射镀膜设备的阴极装置及磁控溅射镀膜设备-CN202320257706.0有效
发明人：杨建;王雪戈;于振瑞 -专利权人：无锡极电光能科技有限公司
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜设备的阴极装置及磁控溅射镀膜设备。该装置包括阴极盖板和阴极组件，阴极盖板和阴极组件相对且间隔布置，阴极盖板和阴极组件之间设有冷却水管、组件支撑柱和高压接线柱，阴极组件包括冷却水通道和磁性组件，冷却水通道包括水道盖板和水道壁，水道壁包括第一水道壁和第二水道壁
磁控溅射镀膜设备阴极装置

[发明专利]一种可调节阴极挡板-CN201810187709.5在审
发明人：杨宏斌;冷庆吉;齐丽婧;郭仙;柳丽丽;李忠祥 -专利权人：河北物华天宝镀膜科技有限公司
申请日： 2018-03-07 - 公布日： 2018-06-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及真空磁控溅射设备技术领域，一种可调节阴极挡板，包括：L型挡板、伸缩机构及固定螺栓，阴极挡板设有两块轴对称的L型挡板相对放置，两块L型挡板之间设有开口，L型挡板的长板底端设有可调节的伸缩机构，L型挡板与伸缩机构通过固定螺栓连接，通过调节两块L型挡板形成的开口大小，当挡板开口变小时，相应的成膜速率会减慢，当挡板开口变大时，相应的成膜速率会加快，因此，可以达到调节磁控溅射阴极成膜速率从而优化大面积镀膜玻璃横向均匀性
伸缩机构阴极挡板可调节开口成膜挡板固定螺栓真空磁控溅射设备大面积镀膜玻璃磁控溅射阴极横向均匀性相对放置轴对称长板底端减慢优化

[实用新型]一种可调节阴极挡板-CN201820314327.X有效
发明人：杨宏斌;冷庆吉;齐丽婧;郭仙;柳丽丽;李忠祥 -专利权人：河北物华天宝镀膜科技有限公司
申请日： 2018-03-07 - 公布日： 2018-11-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及真空磁控溅射设备技术领域，一种可调节阴极挡板，包括：L型挡板、伸缩机构及固定螺栓，阴极挡板设有两块轴对称的L型挡板相对放置，两块L型挡板之间设有开口，L型挡板的长板底端设有可调节的伸缩机构，L型挡板与伸缩机构通过固定螺栓连接，通过调节两块L型挡板形成的开口大小，当挡板开口变小时，相应的成膜速率会减慢，当挡板开口变大时，相应的成膜速率会加快，因此，可以达到调节磁控溅射阴极成膜速率从而优化大面积镀膜玻璃横向均匀性
伸缩机构阴极挡板可调节开口成膜挡板固定螺栓真空磁控溅射设备大面积镀膜玻璃磁控溅射阴极本实用新型横向均匀性相对放置轴对称长板底端减慢优化

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top