专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]溅射涂覆装置和涂覆方法-CN200880115159.0无效
  • 克里斯托弗·蒙洛;安德里亚斯·鲁普;安德里亚斯·克鲁佩尔;杜比亚斯·斯托利;拉尔夫·林德伯格;马库斯·班德尔 - 应用材料公司
  • 2008-07-04 - 2010-11-03 - H01J37/34
  • 所述多个靶材部分(2.1、2.2、2.3、2.4、2.5、2.6)中的每一个具有属于分别的靶材部分的磁体(3.1、3.2、3.3、3.4、3.5、3.6)。在根据本发明的靶材/磁体组件(1)的实施例中,当磁体(3.1、3.2、3.3、3.4、3.5、3.6)分别扫描靶材部分(2.1、2.2、2.3、2.4、2.5和2.6)时,磁体(3.1、3.2、3.3、3.4、3.5、3.6)分别设置成相对于其各自邻近的磁体(3.1、3.2、3.3、3.4、3.5和3.6)相互偏置。具体的,第一磁体(3.1)、第三磁体(3.3)和第五磁体(3.5)是相互平行同步移动的第一组磁体,第二磁体(3.2)、第四磁体(3.4)和第六磁体(3.6)是相互平行同步移动的第二组磁体在靶材(2)的横向y上,第一、第三、第五磁体(3.1、3.3、3.5)与第二、第四、第六磁体(3.2、3.4、3.6)分别交替排列。磁体的移动路径设置成平行的。
  • 溅射装置方法
  • [发明专利]光刻设备和洛伦兹致动器-CN200910204493.X有效
  • F·A·布恩;H·P·G·J·范阿格特玛尔 - ASML荷兰有限公司
  • 2009-09-29 - 2010-05-26 - G03F7/20
  • 光刻设备包括用于在第一和第二部分之间在第一方向上产生力的致动器,该致动器包括每一个彼此相对地连接到所述设备的第一部分的第一磁体组件和第二磁体组件,第一磁体组件包括第一主磁体和第一辅助磁体,第二磁体组件包括第二主磁体和第二辅助磁体,第一和第二主磁体在它们之间沿垂直于第一方向的第二方向限定空间。第一辅助磁体的至少一部分和第二辅助磁体的至少一部分之间的距离小于第一主磁体和第二主磁体之间的最小距离。
  • 光刻设备洛伦兹致动器
  • [发明专利]一种超导磁体的保护电路-CN202110416850.X在审
  • 金道明;卞文龙;智德波 - 安徽硕金医疗设备有限公司
  • 2021-04-19 - 2021-07-27 - H02H7/00
  • 本发明公开了一种超导磁体的保护电路,属于超导磁体技术领域,包括超导磁体和保护电路,超导磁体,与保护电路相连接;保护电路,用于在超导磁体在发生失超时对其进行保护,包括切断保护部分和能量引流部分;切断保护部分,与超导磁体电连接,用于当整个线圈被加热失超时,断开回路超导磁体的回路;能量引流部分,与超导磁体电连接,用于泄放掉超导产生的磁体能量,本发明充分利用超导磁体自身一部分作为释能电阻,超导磁体发生失超的时候既可以保护到超导线圈又可以将超导线圈的能量释放到释能电阻上,从而减少了失超过程中的液氦损失。
  • 一种超导磁体系统保护电路
  • [发明专利]基于高温超导的聚变堆超导磁体-CN202310152123.6在审
  • 郑金星 - 中国科学院合肥物质科学研究院
  • 2023-02-22 - 2023-05-05 - H01F6/00
  • 本发明涉及一种基于高温超导的聚变堆超导磁体,属于核聚变和超导磁体技术领域,该聚变堆超导磁体包括环向场磁体、中心螺管磁体、极向场磁体。环向场磁体全部由高温超导CICC导体绕制而成,可产生15T以上的环向磁场,对等离子体起到约束作用;的中心螺管磁体由低温超导CICC和高温超导CICC导体共同绕制而成,通过产生磁通变化击穿等离子体,进而形成等离子体电流,为等离子体提供加热,同时与极向场磁体共同产生极向磁场,用以维持等离子体平衡;高温超导CICC导体由若干高温超导ReBCO集束线缆超导缆组合而成;本发明创新性好,性价比高,具有很强的实用性
  • 基于高温超导聚变磁体系统
  • [发明专利]具有使用平衡部件的梯度磁体的MRI系统-CN200380103362.3无效
  • N·B·鲁泽恩;C·L·G·哈姆;P·R·哈维伊;P·W·P·利彭斯 - 皇家飞利浦电子股份有限公司
  • 2003-10-27 - 2005-12-21 - G01R33/385
  • 本发明涉及一种磁共振成像(MRI)系统(1),包括检查容积(11)、用于在该检查容积中沿Z方向产生主磁场(B0)的主磁体(13)、用于产生该主磁场梯度的梯度磁体(19)、以及用于减小在操作期间由机械负荷(MX、MY)引起的该梯度磁体振动的抗振系统(33),该机械负荷(MX、MY)是由于该主磁场和在该梯度磁体中的电流之间的电磁相互作用而被施加在该梯度磁体上的根据本发明,抗振系统(33)包括通过激励器系统(51)和耦合装置(49)耦合到该梯度磁体(19)的平衡部件(39),该耦合装置(49)允许该平衡部件相对于该梯度磁体的位移,MRI系统(1)还具有用于控制该激励器系统的控制系统>)基本上与被施加在该梯度磁体上的该机械负荷(MX、MY)相应。从而,激励器系统施加机械反负荷(MRX、MRY)在梯度磁体上,该机械反负荷(MRX、MRY)具有与施加在梯度磁体的机械负荷
  • 具有使用平衡部件梯度磁体系统mri
  • [发明专利]一种自由空间光隔离器-CN202210582745.8在审
  • 胡朝晖;王楠;曹俐;翟跃阳 - 北京航空航天大学
  • 2022-05-26 - 2022-08-30 - G02F1/09
  • 本发明涉及一种自由空间光隔离器,包括法拉第旋光器磁体、磁光晶体、磁体固定套筒、格兰‑泰勒棱镜、可调节偏振器件安装支架、固定圆盘、固定螺钉、垫圈、棱镜盖。磁体磁体磁体本发明各个组件布局合理、紧凑,结构稳定,磁体通过磁路最优设计,在小体积条件下使得晶体内分布磁场达到最优结果,加之磁光晶体形状、尺寸、减反射膜的设计,以及采用精密加工工艺的机械封装结构的设计
  • 一种自由空间隔离器
  • [发明专利]等离子体约束设备和等离子体约束的方法-CN202080079632.5在审
  • 扬·詹德伯格 - JFP詹德伯格未来动力公司
  • 2020-11-11 - 2022-06-24 - G21B1/05
  • 一种等离子体约束设备(500),包括:第一磁体(1),该第一磁体包括第一多个同心布置的圆环线圈(11,12),该第一多个同心布置的圆环线圈包括第一线圈(11)和第二线圈(12),该第一线圈被布置成沿第一方向传送电流,该第二线圈被布置成沿与第一方向相反的第二方向传送电流;以及第二磁体(2),该第二磁体包括第二多个同心布置的圆环线圈(21,22),该第二磁体相对于第一磁体(1)关于位于第一磁体(1)与第二磁体(2)之间的对称平面(P)镜像对称地布置,利用在对称平面(P)处法向于对称平面(P)的磁场,在对称平面(P)处产生环形等离子体约束区域(206)。
  • 等离子体约束设备方法
  • [发明专利]具有不平行永磁体的转子设置和机电换能器-CN201310137533.X有效
  • M.基米亚贝吉 - 西门子公司
  • 2013-04-19 - 2018-01-19 - H02K1/27
  • 本发明涉及具有不平行永磁体的转子设置和机电换能器。其包括支撑结构(101),其提供沿轴向方向(105)和圆周方向(107)延伸的安装表面(103),所述支撑结构适于绕所述轴向方向(105、109)旋转;在第一圆周区域(113)被设置在所述安装表面处的第一永磁体(111);在第二圆周区域(117)被设置在所述安装表面处的第二永磁体(115);其中在第一轴向位置(121)处在第一磁体和第二磁体之间的圆周距离(119)不同于在第二轴向位置(127)处在所述第一磁体和所述第二磁体之间的圆周距离
  • 具有平行永磁体转子设置机电换能器

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