专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种酸盐分子筛的制备方法-CN201811599276.0有效
  • 魏莹;王苗;张润铎;郭可;林宇彤;孟祥智;黄鹏飞 - 北京化工大学
  • 2018-12-26 - 2021-12-07 - C01B39/08
  • 本发明公开一种酸盐分子筛的制备方法,离子液体作为反应介质和模板剂,有机碱为辅助结构导向剂。具体步骤如下:(1)将离子液体,含和含的原料,有机碱和矿化剂混合,加入这几种原料的摩尔比为SiO2:GeO2:有机碱=0‑1:0‑1:0‑5:0‑5:0‑40,搅拌混合均匀,制得分子筛前体混合物;(2)将步骤(1)得到的前体混合物装入反应釜中,在一定温度下晶化一定时间;(3)冷却至室温,产物抽滤洗涤,干燥,即可得到酸盐分子筛该合成方法过程简单,操作方便安全,经济环保,本发明可用来合成多种结构的酸盐分子筛,得到的酸盐分子筛在催化、吸附、分离等领域有很广泛的应用前景。
  • 一种硅锗酸盐分制备方法
  • [发明专利]光传感器设备及其制备方法-CN202080095152.8在审
  • 勝野元成;工藤義治 - 华为技术有限公司
  • 2020-02-07 - 2022-09-09 - H01L27/146
  • 所述光传感器设备包括:基板(1‑13);形成于所述基板(1‑13)上的层,所述层包括n型层(1‑2)和p型层(1‑3);由p型层(1‑4)组成的导电层,所述导电层形成于所述层的顶部和侧面所述制备光传感器设备的方法包括:提供基板(1‑13);在所述基板(1‑13)上形成层,所述层包括n型层(1‑2)和p型层(1‑3);形成由p型层(1‑4)组成的导电层,所述导电层形成于所述层的顶部和侧面。
  • 传感器设备及其制备方法
  • [发明专利]FDSOI的顶层层的制作方法-CN202010458335.3在审
  • 陈勇跃 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2020-05-27 - 2020-08-25 - H01L21/762
  • 本发明公开了一种FDSOI的顶层层的制作方法,包括步骤:步骤一、提供SOI基片,SOI基片包括底部体、绝缘介质埋层和顶部;步骤二、在顶部表面外延生长第一外延层,顶层和第一外延层叠加成顶层层;步骤三、对顶层层进行浓度提升,通过循环进行如下分步骤实现:步骤31、进行热氧化在顶层层表面形成顶部氧化层并在顶部氧化层和底部的顶层层的界面处形成凝聚;步骤32、进行热退火将界面处凝聚的扩散到整个顶层层本发明能提升顶层层的浓度,能很好的控制顶层层的厚度以及能很好的提升顶层层的工艺质量。
  • fdsoi顶层锗硅层制作方法
  • [发明专利]FDSOI上鳍体的制作方法-CN202010350253.7在审
  • 陈勇跃 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2020-04-28 - 2020-08-07 - H01L21/336
  • 本发明公开了一种FDSOI上鳍体的制作方法,包括:步骤一、提供SOI基片,SOI基片包括底部体、绝缘介质埋层和顶层;步骤二、在顶层表面外延生长第一外延层,顶层和第一外延层叠加成顶层层;步骤三、形成对顶层层刻蚀后形成的鳍体;步骤四、对鳍体进行浓度提升,通过循环进行如下分步骤实现:步骤41、进行热氧化在所述鳍体表面形成第一氧化层并在第一氧化层和鳍体的界面处形成凝聚;步骤42、进行热退火将凝聚的扩散到整个鳍体;步骤43、刻蚀去除第一氧化层。本发明能提升鳍体的浓度,还能同时对鳍体的宽度和高度进行精细调节。
  • fdsoi上锗硅鳍体制作方法

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