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- [发明专利]磁场下连续制备高硅钢薄带的方法及装置-CN201210327475.2有效
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钟云波;龙琼;周鹏伟;孙宗乾;郑天翔
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上海大学
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2012-09-07
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2013-02-13
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C25D5/00
- 本发明旨在提供一种连续制备高硅钢薄带的方法和装置。本方法采用复合电镀方法,在镀铁溶液中加入0.1~3μm的硅铁合金粉末,以低硅钢带作为电解阴极,在复合电解液中被镀上7.0wt%~99wt%Si的厚复合镀层,经热处理后得到均匀的6.5wt%Si的高硅钢薄带本装置是在传统的复合电镀装置基础上,通过施加磁场强度为0.001~20T的恒定磁场,通过磁场使作为阴极的低硅钢薄带磁化,并在表面形成很强的梯度场,利用磁场力将镀液中的硅铁合金颗粒吸附在低硅钢带阴极表面,进而通过复合镀铁过程获得高硅镀层,然后经后续的气氛保护热处理,就可以制备出硅含量达6.5wt%的高性能高硅钢薄带。本发明操作简单,低温增硅操作,成本低廉,并且可以连续制备高硅钢带材。
- 磁场连续制备硅钢方法装置
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