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- [发明专利]电极边缘电流密度的调整方法和电极-CN202211706807.8在审
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杨鑫;林汲;胡春华
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清华大学
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2022-12-27
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2023-05-16
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A61N1/04
- 本申请涉及一种电极边缘电流密度的调整方法和电极,该方法包括:获取电极阵列中的目标电极的当前阻抗,并通过预设的阻抗调整方式和当前阻抗,对目标电极上的阻抗进行调整,得到调整后的目标电极;调整后的目标电极上的阻抗为使得目标电极的电极边缘电流密度小于预设阈值该方法中,根据电极阵列中的目标电极的当前阻抗和预设的调整方式对目标电极的阻抗进行调整,以使得调整后的目标电极的阻抗能够使目标电极的电极边缘电流密度小于预设阈值,使得目标电极的电极边缘电流密度在安全阈值以下,改善了目标电极的电极边缘部位的发热情况,减小了目标电极的副作用,并适用于安全性能更高的植入场景。
- 电极边缘电流密度调整方法
- [发明专利]半导体工艺腔室-CN202011260624.9有效
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师帅涛
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2020-11-12
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2022-10-21
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C23C16/455
- 本申请公开一种半导体工艺腔室,所公开的半导体工艺腔室包括腔室本体、上电极、下电极、屏蔽罩和阻抗调节机构,其中:屏蔽罩设置于腔室本体上,且两者形成容纳腔,上电极、下电极和阻抗调节机构均设置于容纳腔中,上电极与下电极相对设置,上电极位于下电极和屏蔽罩之间,且电悬浮设置,屏蔽罩和下电极均接地;阻抗调节机构可移动地与屏蔽罩相连,且阻抗调节机构与屏蔽罩电连接,阻抗调节机构可远离或靠近屏蔽罩移动,以调节阻抗调节机构与上电极之间的距离;和/或,阻抗调节机构可平行于屏蔽罩移动,以改变阻抗调节机构与上电极的相对区域。
- 半导体工艺
- [发明专利]穿戴式汗液监测装置-CN202011255841.9在审
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潘卫江
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深圳市因特迈科技有限公司
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2020-11-11
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2021-02-05
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A61B5/053
- 所述穿戴式汗液监测装置包括:贴合部、多个感应端、第一阻抗检测电极、第二阻抗检测电极及监测模块;贴合部用于与人体皮肤贴合,贴合部与人体皮肤贴合的一侧表面具有汗液监测区域;多个感应端、第一阻抗检测电极及第二阻抗检测电极在汗液监测区域内间隔分布;监测模块与多个感应端、第一阻抗检测电极及第二阻抗检测电极相连;监测模块用于与多个感应端配合监测待监测的化学物质在汗液中的含量以及与第一阻抗检测电极及第二阻抗检测电极配合测量人体皮肤的接触阻抗,并根据接触阻抗的大小判断多个感应端是否正常工作
- 穿戴汗液监测装置
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