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[发明专利]电光学装置-CN200610095880.0无效
发明人：宫泽贵士 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2002-12-24 - 公布日： 2007-01-24 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：本发明提供一种电光学装置，该电光学装置包括：电光学元件层，其包括配置在两根电极之间的电光学元件；表面材料层，其位于所述电光学装置的最外面；第一层，其配置在所述电光学元件层与所述表面材料层之间；第二层，其配置在所述表面材料层与所述第一层之间
光学装置

[发明专利]电光有源装置-CN201880002546.7在审
发明人：余国民;张毅;A.齐尔基 -专利权人：洛克利光子有限公司
申请日： 2018-05-11 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： G02F1/017 文献下载
摘要：一种基于硅的电光有源装置及其生产方法。所述基于硅的电光有源装置包括：绝缘体上硅(SOI)波导；电光有源波导，其包括在所述SOI波导的空腔内的电光有源堆叠；以及在所述电光有源堆叠与所述SOI波导之间的带衬里的通道，所述带衬里的通道包括衬里；其中所述带衬里的通道由填充材料填充，所述填充材料的折射率类似于形成所述空腔的侧壁的材料的折射率，从而在所述通道中在所述SOI波导与所述电光有源堆叠之间形成桥波导。
电光衬里源装置堆叠填充材料折射率波导空腔绝缘体上硅源波导侧壁填充生产

[发明专利]基于电致折射率改变的3D显示方法-CN201510710986.6在审
发明人：冯林 -专利权人：冯林
申请日： 2012-06-07 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： G02B27/22 文献下载
摘要：本发明提供一种基于电致折射率改变的3D显示方法，该方法在二维显示屏前端设置平板状的透明电光晶体阵列，所述电光晶体阵列由与二维显示屏像素点相同数量的方柱状的电光晶体组成，每个电光晶体的与显示屏平行的截面与二维显示屏像素点的大小相同，且各电光晶体与二维显示屏像素点相正对，通过一控制模块向电光晶体施加与该电光晶体相正对像素点的景深相对应的电压。
基于折射率改变显示方法

[发明专利]调整电光Q开关的装置和安装有该装置的光学设备-CN202011553788.0在审
发明人：周江;李格;王晓沛 -专利权人：武汉奇致激光技术股份有限公司
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： H01S3/115 文献下载
摘要：本申请涉及一种调整电光Q开关的装置和光学设备，涉及激光技术领域，装置用于调整电光晶体空间角，其包括：温控组件，其包括匀温部和加热套，所述加热套为可供所述电光晶体插置的环状结构，且所述匀温部设于所述加热套中，所述温控组件用于通过所述加热套和所述匀温部控制所述电光晶体的温度；夹持机构，其夹持在所述加热套上；调整机构，其与所述夹持机构相连，用于改变所述夹持机构在空间上的位姿以调整插置在所述加热套中的电光晶体的空间角本申请解决了常规的电光晶体在低温环境下导致Q开关无法关断或者是漏光的缺陷，扩大电光晶体Q开关的适用范围。
调整电光开关装置装有光学设备

[发明专利]电光调制器-CN202111235451.X在审
发明人：薄方;张茹;张国权;许京军 -专利权人：南开大学
申请日： 2021-10-22 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：本申请涉及一种电光调制器，所述电源能够产生使所述第一电极和所述第二电极之间，所述第一电极和所述第三电极之间激发出铌酸锂的高阶电光效应的较高的变化的电场。当产生铌酸锂的高阶电光效应时，所述电光调制器的半波电压显著降低。因此，所述电源提供较高的直流偏置电压和较低的射频电压就能够实现信号的调制。所述电光调制器无需再使用射频放大器等器件进行射频信号放大，也符合CMOS驱动电压的要求。因此所述电光调制器的电路部分能够完全集成在芯片上。因此能够实现较大的调制频宽，减小射频损耗，保证调制速率。所述电光调制器实现了低半波电压和较大的调制频宽的有益效果。
电光调制器

[发明专利]一种光纤端面集成的电光调制器、加工方法及加工装置-CN202111649054.7在审
发明人：仇旻;王纪永;张磊;孙歆语;王勇 -专利权人：西湖大学
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G02F1/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种光纤端面集成的电光调制器，包括依次集成固定在光纤端面上的下电极、电光材料和上电极；所述下电极敷设在光纤端面，且为对特定波段光具有选择透过及局域电场增强功能的超构表面。本发明还公开了一种上述电光调制器的制备方法和装置。本发明直接在光纤端面集成电光调制器，克服了传统电光调制器在耦入和耦出载波光信号时无法避免的巨大耦合损耗的问题，实现了全光纤即插即用式的电光调制效果，为在光纤端面集成调制速率高，消光比大，耦合损耗小且结构紧凑的电光调制器提供了一种高效
一种光纤端面集成电光调制器加工方法装置

[发明专利]电光调制器半波电压检测系统及方法-CN202211525298.9在审
发明人：王旭阳;张云龙;焦康平;秦林 -专利权人：世维通河北科技有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G01R19/25 文献下载
摘要：本发明提供一种电光调制器半波电压检测系统及方法，该系统包括激光器，用于向待测电光调制器提供光源信号；数字模拟转换器，用于产生锯齿波电信号，所述锯齿波电信号用于控制所述待测电光调制器在预设周期内的输入电压；电压转换器，用于将所述待测电光调制器的输出电流转换成输出电压；控制器，用于根据所述输出电流和所述输出电压计算出所述待测电光调制器的输出光功率，并根据所述输出光功率获得所述待测电光调制器的半波电压。实施本发明，可以快速、准确地检测到待测电光调制器的半波电压，效率高，检测方法简单，易于实现。
电光调制器电压检测系统方法

[发明专利]电光调制器正交点检测系统及方法-CN202211524613.6在审
发明人：张云龙;焦康平;秦林;王旭阳;李俊慧;郭育梅 -专利权人：北京世维通科技股份有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G01R31/00 文献下载
摘要：本发明提供一种电光调制器正交点检测系统及方法，该系统包括激光器，用于向待测电光调制器提供光源信号；数字模拟转换器，用于产生锯齿波电信号，所述锯齿波电信号用于控制所述待测电光调制器的输入电压；电压转换器，用于将所述待测电光调制器的输出电流转换成输出电压；控制器，用于根据所述输出电压计算出所述待测电光调制器的当前输出光功率，并根据所述当前输出光功率判断所述待测电光调制器的正交点是否发生偏移。实施本发明，可以快速、准确地检测到待测电光调制器的正交点，效率高，检测方法简单，易于实现。
电光调制器正交检测系统方法

[发明专利]电光晶体通光面法线与晶体光轴的夹角测量装置-CN202310010200.4在审
发明人：郭广妍;赵鹏;麻云凤;程旺;曹灿;杨学博;白芳;廖利芬;殷晨轩;周家玮;周雅宋;钟涛;吕玮智;樊仲维 -专利权人：中国科学院空天信息创新研究院
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G01B11/26 文献下载
摘要：本公开提供了一种电光晶体通光面法线与晶体光轴的夹角测量装置，包括：激光器(1)，用于产生测试光束；光整形模块，用于将测试光束整形和扩束；锥光干涉模块，用于调整整形和扩束后的测试光束的偏振度，并将测试光束调整为锥形光束，作用于被测电光晶体上；样品姿态调整组件(8)，用于设置被测电光晶体，在三维空间内调整被测电光晶体的转动角度；准直成像模块，用于聚焦经过被测电光晶体后出射的测试光束；第一探测模块(11)，用于接收经过被测电光晶体后出射的测试光束，得到其光轴出露点；测量计算模块，计算被测电光晶体通光面法线与晶体光轴的夹角。
电光晶体光面法线光轴夹角测量装置

[发明专利]电光装置、滤色器基板及电子设备-CN200910168364.X有效
发明人：谷口由雄;望月宏明;川田浩孝;牛山秀寿 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2009-08-31 - 公布日： 2010-03-10 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本发明涉及电光装置、滤色器基板及电子设备。在液晶装置等电光装置中能以低的制造成本实现窄单元间距。电光装置具备：一对基板(10、20)；夹持于一对基板间的电光物质(50)；在一对基板间，配置于位于在一对基板上设置有电光物质的区域的周围的密封区域，使一对基板互相贴合的密封材料(52)；和设置于形成于一方基板(20)的设置有电光物质的区域的凹部(25)内的着色层(4)。进而，在比一方基板的与密封材料重叠的密封区域面(52t)更靠近另一方基板(10)侧，形成着色层的面向电光物质的着色层上表面(4t)。
电光装置滤色器基板电子设备

[发明专利]基于电光晶体调谐腔长的种子注入单频脉冲激光器-CN201310468687.7有效
发明人：朱小磊;张俊旋;臧华国 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2013-10-10 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： H01S3/105 文献下载
摘要：一种基于电光晶体调谐腔长的种子注入单频脉冲激光器。利用电光晶体的电光效应，通过调整从动腔中电光晶体的方向，使得外加电场不改变种子光的偏振状态，仅仅改变其相位。在每个泵浦周期，电光晶体驱动电源给电光晶体施加一线性斜坡电压，电光晶体的折射率随之线性变化，进而改变光学腔长。
基于电光晶体调谐种子注入脉冲激光器

[发明专利]掩模对准系统及其方法-CN200810203806.5有效
发明人：唐文力;王海江;涂泽恩;宋海军;李运锋 -专利权人：上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2008-12-01 - 公布日： 2009-05-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种基于电光调制光源的掩模对准系统及其方法。本发明提出一种基于电光调制光源的掩模对准系统，掩模对准系统包括光源、电光调制模块、掩模板、信号接收控制单元。光源发出一对准光束，对准光束垂直穿过电光调制模块，且电光调制模块将对准光束调制为具有特定频率的调制光束；掩模板包含掩模对准标记，调制光束透过掩模对准标记；信号接收控制单元，接收上述调制光束，并控制上述掩模板的位置和姿态本发明基于电光调制光源的掩模对准系统是利用电光调制单元对光源进行特定频率的调制，大大提高信号源信噪比，提高信号的抗干扰性。
对准系统及其方法

[发明专利]消散斑装置和投影显示设备-CN201811532849.8有效
发明人：宋丽培;王静茹;郭汝海;刘显荣;田有良 -专利权人：青岛海信激光显示股份有限公司
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： G02B27/48 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种消散斑装置和投影显示设备，所述消散斑装置包括：掺杂离子的电光晶体以及与沿电光晶体的生长方向上相对的第一表面和第二表面电连接的控制电路；其中，掺杂离子的电光晶体中存在多个散射颗粒；控制电路用于沿电光晶体的生长方向上向电光晶体施加电压信号，使得在电压信号和多个散射颗粒的作用下，对入射到电光晶体中的入射光进行散射，从而在电光晶体的出射光方向产生多个动态散斑图像，通过多个动态散斑图像的叠加，实现了对激光散斑的抑制。
消散装置投影显示设备

[发明专利]一种低电压独立加压式电光Q开关-CN202110783349.7有效
发明人：商继芳;孙军;杨金凤;周娅玲;郝好山 -专利权人：河南工程学院
申请日： 2021-07-12 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： H01S3/115 文献下载
摘要：本发明提供了一种低电压独立加压式电光Q开关，属于晶体材料在光电技术领域中的应用。本发明是由铌酸锂或者钽酸锂晶体按照一定的设计切型制成的一种电光Q开关器件，用于YAG激光器及其他激光器中作电光调Q使用。本发明的电光Q开关能够独立进行加压式电光调Q，既规避了传统加压式电光调Q需要额外使用偏振元件，进而导致的插入损耗大、激光器结构不够紧凑稳定的弊端，又保留了加压式工作对调Q驱动源要求低、Q开关寿命长等优点同时，本发明的电光Q开关半波电压得到有效降低，器件更加容易制备。
一种电压独立加压电光开关

[发明专利]电光偏振调制系统及电光偏振调制方法-CN201910106707.3有效
发明人：张颜艳;姜海峰;张攀;饶冰洁;全洪磊;樊松涛 -专利权人：中国科学院国家授时中心
申请日： 2019-02-02 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G02F1/01 文献下载
摘要：本公开属于电光偏振调制技术领域，涉及一种电光偏振调制系统和电光偏振调制方法，该电光偏振调制系统包括：电光偏振调制器，用于接收一入射激光，并对所述入射激光进行调制以形成出射激光；激光偏振态计算装置，所述激光偏振态计算装置与所述电光偏振调制器连接本公开一方面能够获得任意偏振态的出射激光，避免了对电光偏振调制器进行折射率椭球方程主轴化；另一方面能够对任意偏振态的出射激光进行定量描述，帮助实验人员准确掌握出射激光的偏振态。
电光偏振调制系统方法