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[发明专利]溅射靶材-CN201180019473.0无效
发明人： E.Y.伊瓦诺夫;A.莱波维克;J.里泽 -专利权人：东曹SMD有限公司
申请日： 2011-02-16 - 公布日： 2012-12-26 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的一方面是提供了一种溅射靶材，其包括支承板（40）和安装在该支承板上的溅射板，所述的支承板包括前表面和后表面，所述的溅射板包括溅射表面和后表面。至少所述溅射板的后表面、所述支承板的前表面或所述支承板的后表面的其中之一具有至少一个凹槽（30），相对于所述溅射板的邻近区域，所述凹槽成形且大小对应于所述溅射板的更高溅射的观察区。所述的支承板包括第一材料，所述的溅射板包括第二材料，插入块包括第三材料。而所述溅射靶材的另一方面是提供了一种控制溅射靶材电磁特性的方法。
溅射

[发明专利]溅射靶、溅射仪和假体涂层方法-CN201610639742.8在审
发明人：孟德松 -专利权人：北京爱康宜诚医疗器材有限公司
申请日： 2016-08-05 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： A61L27/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种溅射靶、溅射仪和假体涂层方法，溅射靶包括：溅射板，溅射板上设置有溅射孔；遮挡板，遮挡板遮挡在溅射孔处，遮挡板可运动地设置以调整遮挡板所遮挡的溅射孔的通流面积。本发明中的溅射靶解决了现有技术中的假体结构的寿命较低的问题。
溅射涂层方法

[实用新型]溅射靶和溅射仪-CN201620847833.6有效
发明人：孟德松 -专利权人：北京爱康宜诚医疗器材有限公司
申请日： 2016-08-05 - 公布日： 2017-10-17 - 主分类号： A61L27/30 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种溅射靶和溅射仪，溅射靶包括：溅射板，溅射板上设置有溅射孔；遮挡板，遮挡板遮挡在溅射孔处，遮挡板可运动地设置以调整遮挡板所遮挡的溅射孔的通流面积。本实用新型中的溅射靶解决了现有技术中的假体结构的寿命较低的问题。
溅射

[实用新型]溅射设备-CN201220074337.3有效
发明人：黄常刚;魏崇喜 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-03-01 - 公布日： 2012-10-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种溅射设备，包括成膜腔体、载片结构、传输结构以及用于完成溅射的溅射装置，所述载片结构包括相对设置的第一承载板和第二承载板，所述第一承载板和所述第二承载板之间设置有磁屏蔽板；所述载片结构装设于传输结构上，所述传输结构用于传输所述载片结构；所述溅射装置包括第一溅射装置和第二溅射装置，第一溅射装置设置于成膜腔体的第一内壁上，所述第二溅射装置设置于与第一内壁相对的第二内壁上。本实用新型提供的溅射设备，可以一次传输两片基板进行溅射镀膜，由此提高了溅射镀膜产线的生产效率，降低了耗能。
溅射设备

[发明专利]等离子溅射致冷件晶板镀膜装置和致冷件晶板镀膜方法-CN201610284934.1在审
发明人：陈磊;陈建民;赵丽萍;钱俊有;张文涛;蔡水占;张会超;王东胜 -专利权人：河南鸿昌电子有限公司
申请日： 2016-05-04 - 公布日： 2016-07-06 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及致冷件生产技术领域的设备和方法，名称是等离子溅射致冷件晶板镀膜装置和致冷件晶板镀膜方法，等离子溅射致冷件晶板镀膜装置，包括机架，在机架上具有传送装置，在传送装置上面安装溅射装置，所述的传送装置上具有晶板的放置盘，所述的溅射装置具有溅射喷头，传送装置运行，放置盘在溅射喷头下面运行的时间是2—3 S；将晶板放置在溅射装置下面进行溅射，溅射的耗材是镍、钯或银，可以形成一层镀膜的半导体晶板。这样的致冷件晶板镀膜装置可以生产出节省耗材、减少浪费、环保性好、镀膜和晶板结合力量好的致冷件晶板镀膜；这样的等离子溅射致冷件晶板镀膜方法具有节省耗材、减少浪费、环保性好、镍和晶板结合力量好的优点。
等离子溅射致冷件晶板镀膜装置方法

[发明专利]具有背部冷却槽的溅射靶材-CN201810646078.9有效
发明人：布赖恩·T·韦斯特;迈克尔·S·考克斯;吴正勋 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-08-14 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本揭示案的实施方式涉及用于溅射腔室的溅射靶材，该溅射腔室用于处理基板。在一个实施方式中，提供用于溅射腔室的溅射靶材。溅射靶材包含具有背部表面的溅射板及安装至溅射板的环形背板，该背部表面具有径向内部、中间及外部区域。该背部表面具有多个圆形槽，这些圆形槽彼此间隔开；及至少一个弓状通道，该弓状通道切割穿过这些圆形槽，且从该溅射板的径向内部区域延伸至该径向外部区域。环形背板界定暴露该溅射板的背部表面的开口环。
具有背部冷却溅射

[发明专利]具有背部冷却槽的溅射靶材-CN201480042023.7有效
发明人：布赖恩·T·韦斯特;迈克尔·S·考克斯;吴正勋 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-08-14 - 公布日： 2018-07-17 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本揭示案的实施方式涉及用于溅射腔室的溅射靶材，该溅射腔室用于处理基板。在一个实施方式中，提供用于溅射腔室的溅射靶材。溅射靶材包含具有背部表面的溅射板及安装至溅射板的环形背板，该背部表面具有径向内部、中间及外部区域。该背部表面具有多个圆形槽，这些圆形槽彼此间隔开；及至少一个弓状通道，该弓状通道切割穿过这些圆形槽，且从该溅射板的径向内部区域延伸至该径向外部区域。环形背板界定暴露该溅射板的背部表面的开口环。
背部表面溅射靶材溅射板溅射腔室圆形槽环形背板弓状径向内部区域径向外部区域处理基板径向内部通道切割外部区域开口环冷却槽界定穿过暴露延伸

[实用新型]等离子溅射致冷件晶板镀膜装置-CN201620388280.2有效
发明人：陈磊;陈建民;赵丽萍;钱俊友;张文涛;蔡水占;张会超;王东胜 -专利权人：河南鸿昌电子有限公司
申请日： 2016-05-04 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及致冷件生产技术领域的设备和方法，名称是等离子溅射致冷件晶板镀膜装置，等离子溅射致冷件晶板镀膜装置，包括机架，在机架上具有传送装置，在传送装置上面安装溅射装置，所述的传送装置上具有晶板的放置盘，所述的溅射装置具有溅射喷头，传送装置运行，放置盘在溅射喷头下面运行的时间是2—3 S；将晶板放置在溅射装置下面进行溅射，溅射的耗材是镍、钯或银，可以形成一层镀膜的半导体晶板。这样的致冷件晶板镀膜装置可以生产出节省耗材、减少浪费、环保性好、镀膜和晶板结合力量好的致冷件晶板镀膜；这样的等离子溅射致冷件晶板镀膜方法具有节省耗材、减少浪费、环保性好、镍和晶板结合力量好的优点。
等离子溅射致冷件晶板镀膜装置

[实用新型]一种药液浓缩装置-CN201520325211.2有效
发明人：胡继忠 -专利权人：江阴市江中设备制造有限公司
申请日： 2015-05-20 - 公布日： 2015-11-18 - 主分类号： B01D1/22 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种药液浓缩装置，该浓缩装置包括液体喷嘴，液体喷嘴的一侧设有溅射板，液体喷嘴与溅射板之间设有间隙，且液体喷嘴与溅射板之间设有夹角，溅射板朝向液体喷嘴的一面设有螺旋叶片，溅射板背向液体喷嘴的一面设有轴座，轴座通过轴承与支撑轴连接，支撑轴通过支撑架与真空罐内壁连接，液体喷嘴与溅射板均设置在真空罐内，液体喷嘴通过输液管连接到真空罐的外部。该装置通过液体喷嘴将药液喷射到溅射板上，并通过溅射板上的螺旋叶片驱动溅射板旋转，由溅射板将药液分散成细小的颗粒状，并甩向真空罐的空腔内。
一种药液浓缩装置

[发明专利]一种溅射挡板-CN201210120764.5有效
发明人：施玉安;李炳坤 -专利权人：上海北玻镀膜技术工业有限公司;上海北玻玻璃技术工业有限公司;洛阳北方玻璃技术股份有限公司
申请日： 2012-04-24 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开一种溅射挡板，包括一具有内腔的溅射腔体，并且所述溅射腔体内腔的底端面具有轴承座，其中，在所述溅射腔体内腔的侧端面以及内腔底端面的轴承座上分别设有若干冷却水管，所述轴承座的所述冷却水管上连接有沿横向设置的溅射板，所述内腔侧端面的所述冷却水管上连接有沿纵向设置的溅射板，并且沿纵向设置的所述溅射板靠近所述轴承座垂直弯折，同时，相对两侧端面的所述溅射板相互连接。使用本发明一种溅射挡板，由于溅射挡板与冷却水管通过软管相连接，使得每次溅射挡板拿去喷沙的时候，只需要单独把溅射挡板拆卸下来，等溅射挡板喷沙完成后，将溅射挡板安装上去即可，有效地减少了连接冷却水管和检漏的步骤
一种溅射挡板

[发明专利]形成溅射靶组件的方法及由此制成的组件-CN200380106365.2无效
发明人：小查尔斯·E·威克沙姆;戴维·P·沃克曼 -专利权人：卡伯特公司
申请日： 2003-10-20 - 公布日： 2006-01-25 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：描述了形成溅射靶组件的方法和由此制得的溅射靶组件。该方法包括通过在背衬板和靶上提供凸出部和凹槽在低温下将溅射靶结合到背衬板上，和使凸出部变形从而至少部分填充凹槽。还描述了形成溅射靶组件的方法，以致在溅射靶和背衬板之间形成间隙。还描述了形成溅射靶组件的方法，其提供防止非故意溅射进入背衬板的机构。
形成溅射组件方法由此制成

[发明专利]一种磁控溅射镀膜机-CN202211366586.4在审
发明人：周征华;李龙哲;朱显君;夏伟;李花;张亚芹 -专利权人：上海哈呐技术装备有限公司
申请日： 2022-11-01 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明属于镀膜设备领域，公开了一种磁控溅射镀膜机，蒸发镀膜室、溅射镀膜室和设置于蒸发镀膜室与溅射镀膜室之间可启闭地的翻板阀，翻板阀开启时蒸发镀膜室与溅射镀膜室连通，翻板阀关闭时将蒸发镀膜室与溅射镀膜室分隔为两个独立的腔室；蒸发镀膜室上设有可启闭的腔室门，蒸发镀膜室内设有前处理机构、AF蒸发机构和移载机构，溅射镀膜室内设有溅射机构；移载机构沿所述蒸发镀膜室至溅射镀膜室的方向可往复移动，用于将放置有待处理产品的工装板放入溅射镀膜室并从溅射镀膜室内拾取放置有已处理产品的工装板本发明溅射镀膜室可始终保持真空状态，无需重新抽真空，可实现产品的连续性不间断溅射镀膜，大大提高生产效率。
一种磁控溅射镀膜

[发明专利]溅射靶-背衬板接合体-CN201510477273.X有效
发明人：高村博;铃木了 -专利权人：捷客斯金属株式会社
申请日： 2015-08-06 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及溅射靶‑背衬板接合体。一种溅射靶‑背衬板接合体，其为使用焊接材料将溅射靶和背衬板接合而得到的溅射靶‑背衬板接合体，其特征在于，将溅射靶和背衬板之间的焊接材料的外周用熔点为600～3500℃且轴向截面形状为圆形、椭圆形或矩形的线状材料覆盖本发明提供有效地抑制在使用焊接材料接合溅射靶和背衬板的情况下的由焊接材料在溅射靶和背衬板之间露出引起的电弧放电产生、粉粒产生的技术。
溅射背衬板接合

[发明专利]溅射靶-背衬板接合体-CN201711189275.4有效
发明人：高村博;铃木了 -专利权人：捷客斯金属株式会社
申请日： 2015-08-06 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及溅射靶‑背衬板接合体。一种溅射靶‑背衬板接合体，其为使用焊接材料将溅射靶和背衬板接合而得到的溅射靶‑背衬板接合体，其特征在于，将溅射靶和背衬板之间的焊接材料的外周用熔点为600～3500℃且轴向截面形状为圆形、椭圆形或矩形的线状材料覆盖本发明提供有效地抑制在使用焊接材料接合溅射靶和背衬板的情况下的由焊接材料在溅射靶和背衬板之间露出引起的电弧放电产生、粉粒产生的技术。
溅射背衬板接合

[发明专利]一种自吸气式X射线发生装置及其用途-CN201911087670.0有效
发明人：戴庆;李振军;李驰;白冰;陈科;周圣涵 -专利权人：国家纳米科学中心
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： H01J35/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种自吸气式X射线发生装置及其用途，所述装置包括绝缘壳、阴极、阳极和栅极、至少一个吸附金属板和至少一个溅射金属板；阴极封装于绝缘壳内，用于释放电子；阳极封装于所述绝缘壳内，阳极包括靶体和靶面，阴极释放的电子与靶面碰撞而释放X射线；吸附金属板和溅射金属板平行设置，吸附金属板与其相邻的溅射金属板形成一组离子溅射结构，离子溅射结构的数目为至少一组，离子溅射结构位于阴极的至少一侧，吸附金属板和所述溅射金属板的平面方向与阴极释放电子的方向平行；栅极可设置在吸附金属板或溅射金属板上或单独设置。本发明通过引入离子溅射结构，实现在X射线管发射的同时实现对管内残余气体分子吸附，获得更佳的真空度。
一种吸气射线发生装置及其用途

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