专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]清洗供给装置-CN201180023425.9有效
  • 竹之内丰;大津芳永;崎口清富;羽渕辉见;中田智美;八木下彻哉;铃木淳一 - FUJIKS株式会社
  • 2011-10-21 - 2013-07-24 - B08B3/02
  • 清洗供给装置装备有暂时贮留清洗清洗贮留罐(T2),将来自该清洗贮留罐内的清洗加压成高压而送出的高压泵(22),驱动上述高压泵旋转的内燃机的发动机(23),以及执行上述发动机的转速控制的发动机控制器而且装备有喷出被上述高压泵(22)加压后的高压清洗的喷出路径(22b),和将来自上述高压泵的高压清洗中的多余水分向上述清洗贮留罐(T2)内返回的多余水路径(22c)。上述发动机控制器(27)通过高压泵所装备的压力传感器(24)获知从上述高压泵(22)向高压清洗的喷出路径(22b)前进的清洗的流量,并执行使上述发动机的转速上升或者下降的控制。
  • 清洗供给装置
  • [发明专利]透析系统的清洗方法及透析系统-CN202111482728.9在审
  • 上田满隆;山下悦孝;藤井笃;斎尾英俊 - 尼普洛株式会社
  • 2021-12-07 - 2022-06-10 - A61M1/16
  • 透析系统包括:透析装置;流路,其供向透析装置供给的透析液或者用于调制透析液的液体成分流动;以及清洗供给部,其用于向流路供给清洗清洗供给部具有:用于向流路供给酸性的清洗(a)的酸供给部;以及用于向流路供给含有次氯酸钠的清洗(b)的碱供给部。透析系统的清洗方法包括第一清洗工序,该第一清洗工序中,利用将从酸供给供给清洗和从碱供给供给清洗(b)混合后的清洗(a+b)对透析装置内进行清洗
  • 透析系统清洗方法
  • [发明专利]清洗的回收和供给设备及方法-CN201410217829.7有效
  • 朱棋锋;张为腾;徐勇 - 上海和辉光电有限公司
  • 2014-05-21 - 2014-09-24 - B08B3/02
  • 本发明涉及一种清洗的回收和供给设备及方法。所述设备包括:第一清洗供给单元,具有存储清洗的箱体;第二清洗供给单元,由管道构成且与所述第一清洗供给单元相互交替作业;回收管道,将所述清洗回收至所述箱体;主排放管道,将所述清洗直接排放至废液系统;第一开关控制装置,切换所述第一清洗供给单元和所述第二清洗供给单元的作业;第二开关控制装置,切换所述回收管道和所述主排放管道的作业。其中,所述第一清洗供给单元作业时,所述第二清洗供给单元停止,且实施所述回收管道的作业,所述主排放管道停止;所述第二清洗供给单元作业时,所述第一清洗供给单元停止,且所述主排放管道运行,所述回收管道停止
  • 清洗回收供给设备方法
  • [发明专利]口腔清洗装置-CN201380058093.7有效
  • 和田行纪;西浦正洋 - 太阳星光齿磨公司
  • 2013-10-24 - 2015-07-15 - A61C17/02
  • 本发明提供一种口腔清洗装置,其采用输出功率小的小型且价廉的电动式空气泵,并且能够充分确保清洗的排出压。该口腔清洗装置包括:用于贮存清洗的可气密性地封闭的清洗容器(2);清洗供给通路(24),在其一端设置有用于向口腔内排出清洗的排出口(4a),在其另一端设置有在清洗容器(2)的底部内开口的导入口(23a);和电动式空气泵(44),其向清洗容器(2)内供给空气,对清洗容器(2)内加压,利用清洗容器(2)内的空气压,经由清洗供给通路(24)向排出口(4a)供给清洗容器(2)内的清洗。设置有在清洗供给通路(24)的中途部开口的空气导入孔(71),通过将从空气泵(44)向清洗容器(2)供给的空气的一部分经由空气导入孔(71)向清洗供给通路(24)供给,使清洗从排出口(4a)波动排出
  • 口腔清洗装置
  • [发明专利]清洗供给系统、基板处理装置以及基板处理系统-CN201910272935.8有效
  • 宫崎充;今村听;井上拓也;高桥正三 - 株式会社荏原制作所
  • 2019-04-04 - 2023-02-28 - B08B3/02
  • 本发明提供一种能够向基板清洗装置恰当地供给清洗或者维护保养性提高的清洗供给系统、具备这样的清洗供给系统的基板处理装置、以及具备这样的基板处理装置的基板处理系统。本发明提供一种清洗供给系统,该清洗供给系统具备:循环线路,该循环线路的一端与清洗供给装置供给口连接,另一端与所述清洗供给装置的回收口连接,清洗在该循环线路的内部流动;分支管,该分支管从所述循环线路分支,并且与基板清洗单元连接;阀,该阀设置于所述分支管,并且对从所述循环线路向所述基板清洗单元的清洗供给进行控制;以及流量调节构件,该流量调节构件对在所述循环线路中流动的清洗的流量进行调节。
  • 清洗供给系统处理装置以及
  • [实用新型]一种口腔清洁装置-CN202123383167.5有效
  • 张金泉;黄道臣;黄拔梓 - 东莞市力博得电子科技有限公司;深圳市力博得科技有限公司
  • 2021-12-29 - 2022-06-17 - A61C17/02
  • 本申请公开了一种口腔清洁装置,涉及口腔清洁技术领域。口腔清洁装置包括壳体组件、喷嘴、清洗供给机构、臭氧供给机构及臭氧浓度检测件。喷嘴安装于所述壳体组件的一端;清洗供给机构与所述喷嘴连通,所述清洗供给机构用于向所述喷嘴供给清洗;所述臭氧供给机构的输出端与所述清洗供给机构连通,所述臭氧供给机构用于向所述清洗中注入臭氧;臭氧浓度检测件设置于所述清洗供给机构中,所述臭氧浓度检测件用于检测所述清洗中的臭氧浓度。本申请提供的口腔清洁装置可对用户口腔进行清洁杀菌,以确保口腔的健康。
  • 一种口腔清洁装置
  • [发明专利]喷嘴保管装置以及涂敷装置-CN200810144867.9有效
  • 相良秀一;增市干雄;高村幸宏;川越理史;松家毅 - 大日本网屏制造株式会社
  • 2008-07-31 - 2009-02-18 - B05B15/02
  • 一种喷嘴保管装置以及涂敷装置,该喷嘴保管装置对从喷出口向下方喷出喷出液的喷嘴进行保管。喷嘴保管装置包括突起部件、供给配管、储存机构、清洗供给装置。突起部件配置在设有供给口的上面与喷嘴的喷出口对置的位置上。供给配管将供给清洗供给源和供给口之间进行连通。储存机构连接在供给配管上,且在储存机构的比突起部件的上面更靠上方的位置中能够存储清洗清洗供给装置供给供给清洗,使得上述喷嘴保管装置处于如下状态:在突起部件的上面上盛满清洗且在储存机构中存储着清洗
  • 喷嘴保管装置以及
  • [发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201880052567.X有效
  • 吉田幸史 - 株式会社斯库林集团
  • 2018-06-15 - 2023-10-03 - H01L21/304
  • 基板处理装置(1)具备有:第1清洗供给部(3),其将碱性或酸性的第1清洗供给至基板(9)的主表面(91);及第2清洗供给部(4),其将含有增粘剂并且具有较第1清洗高的粘度的第2清洗供给至主表面在第1清洗及第2清洗中的一清洗存在于主表面(91)的状态下,另一清洗供给至主表面(91)。由此,可更确实地去除基板(9)的主表面(91)上不需要的物质。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]再生装置以及再生方法-CN200780048311.3无效
  • 高本德男 - 平田机工株式会社
  • 2007-12-27 - 2009-12-09 - B08B3/14
  • 本发明提供一种再生装置以及再生方法。在清洗等处理中,在使用清洗的同时,可以对使用过的清洗进行再生,作为再生清洗来再次使用。提供一种液体再生装置,其具备:对使用清洗的处理装置的使用过的清洗进行回收的回收单元;对回收的使用过的清洗进行再生的再生单元;向所述处理装置供给所述再生清洗供给单元;以及控制所述回收单元、所述再生单元以及所述供给单元的控制单元为了使所述处理装置和所述再生单元可以同时运转,还可以具备在它们之间供给使用过的清洗以及所述再生清洗的连接单元。
  • 再生装置以及方法

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