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[发明专利]一种内循环式非牛顿流体抛光系统与方法-CN201810601085.7有效
发明人：姚鹏;刘笑;周培法;薛栋林;邓伟杰 -专利权人：山东大学
申请日： 2018-06-12 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明提出了一种内循环式非牛顿流体抛光系统及方法，包括抛光流体循环系统和抛光机械系统；抛光机械系统包括抛光盘、公转系统和自转系统，公转系统驱动抛光盘公转，所述的自转系统驱动抛光盘自转；抛光盘包括抛光盘底座和抛光垫，所述抛光垫安装在抛光盘底座的下方，抛光盘底座与抛光垫之间有一定距离的缝隙，且在抛光盘底座的中心设有一个流体入口，在底座的外圈设有流体出口；抛光垫中心设有一个与所述的流体入口贯通的入流通道；抛光垫的底部设有流体微流道；沿着流体流动方向，流体微流道的始端与入流通道连通，末端与回流通道连通，回流通道与所述的流体出口连通；流体出口和流体入口与抛光流体循环系统相连。
抛光盘底座抛光垫流体出口流体入口连通非牛顿流体公转系统回流通道内循环式抛光机械抛光流体抛光系统入流通道循环系统自转系统微流道流体流体流动方向抛光垫中心驱动始端自转贯通

[发明专利]一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备及其抛光方法-CN201910166142.8在审
发明人：王欣;刘加亮;陈志英;辛绍杰;张栋;牛龙江;刘钊;刘鹏;钱燕红 -专利权人：上海电机学院;江苏飞船股份有限公司
申请日： 2019-03-06 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： B24B19/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备及其抛光方法，其技术方案要点是：一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备，包括上料缸、下料缸，待抛光模具设置于上料缸与下料缸之间，所述上料缸与下料缸之间设置有用于抛光待抛光模具的流体介质，上料缸与下料缸之间设置有流体抛光芯块，所述流体抛光芯块与所述待抛光模具的抛光面之间留有供流体介质穿过的流道，流道在待抛光模具任意径向截面位置的面积均相等，所述流体介质匀速穿过流道，所述待抛光模具任意位置的抛光面受所述流体介质的压力相同本发明达到保持流体介质在流道内匀速流动，实现高精度异型表面产品的均匀抛光，提高抛光的均匀性，并提高生产效率。
流体介质抛光模具抛光流道上料下料抛光设备等流速伞齿轮模具流体抛光抛光面芯块技术方案要点穿过径向截面生产效率异型表面均匀性相等流动

[发明专利]SiC抛光液台面回收装置-CN202310450859.1有效
发明人：林义复;林育仪;张炜国;余明轩 -专利权人：通威微电子有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本发明的实施例提供了一种SiC抛光液台面回收装置，涉及抛光技术领域，该SiC抛光液台面回收装置包括抛光台、抛光盘和流体搅拌机构，抛光台上设置有回收沟槽，抛光盘可转动地设置在抛光台上，流体搅拌机构设置在抛光台上；其中，回收沟槽的底壁上设置有多个第一流体喷孔，流体搅拌机构连通至多个第一流体喷孔，并通过多个第一流体喷孔朝向回收沟槽喷射流体，以搅拌回收沟槽中的抛光液。相较于现有技术，本发明提供的SiC抛光液台面回收装置，通过喷射流体的方式实现搅拌，使得抛光液始终处于流动状态，并且流体喷射口位于底壁上，避免了抛光液中的固体颗粒沉积，提升了抛光液中固体颗粒的均匀性，保证了抛光液的回收质量
sic 抛光台面回收装置

[发明专利]一种毛细管内壁磁流体抛光控制系统及方法-CN202210736223.9有效
发明人：钟志刚;许修耀;李泽学;李宗霖;余鹏;李翔 -专利权人：深圳市恒永达科技股份有限公司;南方科技大学
申请日： 2022-06-27 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明中提供了一种毛细管内壁磁流体抛光控制系统及方法，毛细管内壁磁流体抛光控制系统包括磁流体抛光结构，包括供液组件、若干磁流体抛光支路和若干磁场组件，若干磁流体抛光支路均与供液组件连接，若干磁场组件一一对应设置于若干磁流体抛光支路处；控制模组，与磁流体抛光结构电连接；检测结构，一端与磁流体抛光结构连接，另一端与控制模组电连接；远程控制端，与控制模组通讯连接。实现多根毛细管同时磁流体抛光，并且适用于所有材质的毛细管，兼顾多种材质毛细管高效率内壁抛光，并且可以检测抛光过程中的多种数据，并且由控制模组或远程控制端显示和再调配，实现毛细管内壁抛光过程便捷可控，获知抛光数据，提升抛光品质。
一种毛细管内壁流体抛光控制系统方法

[发明专利]用于齿轮抛光的磁性复合流体抛光头-CN201810431762.5有效
发明人：姜晨;钱大兵;严广和;黄佳雷;洪小兰 -专利权人：上海理工大学
申请日： 2018-05-08 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： B23F21/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于齿轮抛光的磁性复合流体抛光头，线圈支架置于抛光头的内部，线圈缠绕在线圈支架上，抛光头的两侧设有流体固液装换通道，抛光头内部设有喷头，喷头通过环形存储区流入通道连通环形存储区，环形存储区通过环形存储区连接通道与流体固液转换通道连通，磁性复合流体通过流体通道流入喷头，由喷头将磁性复合流体喷向环形存储区流入通道，磁性复合流体在流经环形存储区流入通道、环形存储区、环形存储区连接通道后流往流体固液转换通道，在线圈通电形成所需的磁场作用下变为固体形成抛光平面，用于抛光齿轮。本发明通过改变通电周期使两边流体固液转换通道交替形成抛光平面，从而实现不间断抛光，增加抛光区域的接触面积，以提高抛光效率。
环形存储区复合流体抛光头喷头抛光流体固液流入通道转换通道齿轮连接通道抛光平面连通在线圈支架磁场作用固体形成交替形成流体通道抛光区域抛光效率通电周期线圈缠绕线圈通电线圈支架两边

[发明专利]基于非牛顿流体的抛光系统及其抛光方法-CN201510507141.7有效
发明人：吕鸿图;施武助;向定艾;徐维浓 -专利权人：昆山纳诺新材料科技有限公司
申请日： 2015-08-18 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： B24B31/00 文献下载
摘要：本发明公开一种基于非牛顿流体的抛光系统及其抛光方法。抛光系统包含抛光工具装置、非牛顿流体辅助装置及控制装置。抛光工具装置用以带动工件于容置有非牛顿流体的抛光容器中进行位移，且非牛顿流体中具有磨料。非牛顿流体辅助装置用以利用压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变非牛顿流体的黏度，以利用磨料对工件进行抛光。控制装置用以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移。本发明藉此可对具有三维形状的工件抛光。
基于牛顿流体抛光系统及其方法

[实用新型]一种用于流体抛光设备的进出料装置及流体抛光设备-CN202122737760.9有效
发明人：陈明;李慧平;胡守昌 -专利权人：株洲精工硬质合金有限公司
申请日： 2021-11-08 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B24B31/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于流体抛光设备的进出料装置及流体抛光设备，该进出料装置包括导向引流器，流体抛光设备的挤压缸通过导向引流器与待抛光工件连接，导向引流器上设有使挤压缸的流体磨粒料向待抛光工件的型腔壁运动的导流机构该用于流体抛光设备的进出料装置及流体抛光设备具有功效高、加工效率高、经济效益好、结构简单、操作快捷、成本低等优点。
一种用于流体抛光设备进出装置

[实用新型]基于非牛顿流体的抛光系统-CN201520620731.6有效
发明人：吕鸿图;施武助;向定艾;徐维浓 -专利权人：昆山纳诺新材料科技有限公司
申请日： 2015-08-18 - 公布日： 2016-01-20 - 主分类号： B24B31/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种基于非牛顿流体的抛光系统。抛光系统包含抛光工具装置、非牛顿流体辅助装置及控制装置。抛光工具装置用以带动工件于容置有非牛顿流体的抛光容器中进行位移，且非牛顿流体中具有磨料。非牛顿流体辅助装置用以利用压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变非牛顿流体的黏度，以利用磨料对工件进行抛光。控制装置用以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移。本实用新型藉此可对具有三维形状的工件抛光。
基于牛顿流体抛光系统

[发明专利]一种基于磁场辅助的非牛顿流体增稠抛光方法及抛光系统-CN201811160460.5有效
发明人：黄向明;明阳;周志雄 -专利权人：湖南大学
申请日： 2018-09-30 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于磁场辅助的非牛顿流体增稠的抛光方法，包括以下步骤：S1：将具有磁流变特性的非牛顿流体抛光液加入抛光液槽中，再通过一带驱动系统的夹持装置使抛光工件浸泡于上述非牛顿流体抛光液中，并开启磁场发生装置；S2：在上述驱动系统的作用下，夹持装置带动抛光工件转动使抛光工件与非牛顿流体抛光液发生相对运动，非牛顿流体抛光液中的磨粒对抛光工件表面进行切削，即完成抛光过程。本发明还相应提供一种基于磁场辅助的非牛顿流体增稠的抛光系统。本发明的耗材成本低、抛光效率高、抛光效果好、可以实现抛光工件的超精密抛光。
一种基于磁场辅助牛顿流体抛光方法系统

[发明专利]一种磁场辅助剪切增稠的刀具抛光装置及其抛光方法-CN202211389895.3在审
发明人：黄向明;李希扬;周东栋;任莹晖 -专利权人：湖南大学
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁场辅助剪切增稠的刀具抛光装置，包括装有磁性增稠流体的抛光槽，抛光槽连接有励磁机构，抛光槽内设有抛光筒，励磁机构套设于抛光筒的外侧，抛光槽与抛光筒连通并用于磁性增稠流体的流入和流出，抛光筒内设有浸泡于磁性增稠流体中的刀具并通过刀具的高速旋转以使磁性增稠流体在励磁机构的磁场作用下沿抛光筒和刀具之间的间隙循环流经刀具的表面本发明还公开了其抛光方法。本发明通过刀具在抛光筒内的高速旋转，磁性增稠流体在刀具和抛光筒之间的间隙处产生一定的剪切速率，使磁性增稠流体能循环流，并在磁场作用下粘度增大，以高剪切力滑擦刀具的表面，进而达到刀具在磁性增稠流体中高速旋转进行柔性抛光及刃口钝化的效果
一种磁场辅助剪切刀具抛光装置及其方法

[发明专利]毛细管微粒流体抛光系统、方法及计算机可读存储介质-CN202210756428.3在审
发明人：钟志刚;许修耀;李泽学;李宗霖;余鹏;李翔 -专利权人：深圳市恒永达科技股份有限公司;南方科技大学
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： B24B31/116 文献下载
摘要：本申请中提供了一种毛细管微粒流体抛光系统、方法及计算机可读存储介质，毛细管微粒流体抛光系统包括：供液管，设置有液体流体供液支管和微粒流体供液支管；抛光管路，设置有动力源，且抛光管路的一端与液体流体供液支管和微粒流体供液支管均连接；回流管，一端与抛光管路连接；储液容器，设置微粒流体，液体流体供液支管、微粒流体供液支管和回流管均与储液容器连接，且储液容器与液体流体供液支管的连接处设置有微粒过滤器；控制组件，与液体流体供液支管、微粒流体供液支管通过在供液管设置液体流体供液支管和微粒流体供液支管，可向抛光管路中通入无微粒的液体流体和微粒流体，可冲洗抛光管路，避免堵塞。
毛细管微粒流体抛光系统方法计算机可读存储介质

[发明专利]一种便于对多凹槽铝型材进行全面抛光的流体抛光设备-CN202011224524.0有效
发明人：肖芳棋 -专利权人：东莞市国耀铝材有限公司
申请日： 2020-11-05 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： B24C1/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种流体抛光设备，尤其涉及一种便于对多凹槽铝型材进行全面抛光的流体抛光设备，包括有储水箱、安装导向架、铝型材夹紧组件、铝型材旋转组件和流体抛光组件等；储水箱顶面设有安装导向架，安装导向架内设有铝型材夹紧组件通过流体抛光组件，配合铝型材旋转组件正反交替旋转对铝型材进行全面地流体抛光作业，便于将凹槽内的毛刺抛光去除，使得铝型材抛光全面均匀。
一种便于凹槽铝型材进行全面抛光流体设备

[发明专利]具有抛光垫温度控制的半导体衬底抛光-CN202180039388.4在审
发明人：池田正章 -专利权人：环球晶圆股份有限公司
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种对半导体晶片抛光系统的抛光垫进行预热的方法包含将流体加热到第一预定温度。所述方法还包含将所述流体施加到所述抛光垫。所述方法进一步包含旋转所述抛光垫使得所述流体覆盖所述抛光垫。所述流体使抛光垫温度增加到第二预定温度。
具有抛光温度控制半导体衬底

[实用新型]一种流体抛光装置-CN202120530235.7有效
发明人：刘柠铨;刘顿 -专利权人：成都泽雅科技发展有限公司
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： B24B31/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种流体抛光装置，包括架体，工件载体，固定安装于架体上端，具有容纳被加工工件和抛光流体的上开口的容纳腔；灌注件，固定安装于架体并位于容纳腔开口端，向容纳腔中高压加注抛光流体；以及回收件，安装于架体并连接于灌注件抛光流体出口端；本实用新型设计合理，结构简单，使用方便，用于工件的抛光，合理的设计工件载体，该工件载体开设有容纳腔为抛光流体和被加工工件听过相互摩擦的场所，利用高压进入的抛光流体让抛光效率更高
一种流体抛光装置

[发明专利]抛光设备和方法-CN200810178331.9有效
发明人：安田穗积;福岛诚;户川哲二 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2008-11-28 - 公布日： 2009-06-03 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：抛光设备用于抛光基片例如半导体晶片为平坦的镜面加工面。抛光设备包括具有抛光表面的抛光台、具有至少一个设计成形成被供给加压流体的多个压力室的弹性膜的抛光头和设计成控制加压流体向压力室的供给的控制器。控制器控制加压流体的供给，这样当基片与抛光表面接触时，加压流体首先供给位于基片中央部的压力室，然后加压流体供给位于基片中央部的压力室的径向外侧的压力室。
抛光设备方法

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