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[发明专利]半导体制造过程中使用的清洗液-CN201310508105.3在审
发明人：孙霞 -专利权人：青岛华仁技术孵化器有限公司
申请日： 2013-10-25 - 公布日： 2014-03-05 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供了一种清洗液，其包括季戊四醇、氢氧化钾、有机胺、防腐蚀剂和溶剂。本发明提供的清洗液感光膜清洗能力强且对半导体晶片图案和基材腐蚀性较低。
半导体制造过程使用清洗

[发明专利]用于无取向硅钢清洗液的洁净度检测分析方法-CN202110687131.1在审
发明人：何家峰;高煜 -专利权人：宝山钢铁股份有限公司
申请日： 2021-06-21 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G01N9/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于无取向硅钢清洗液的洁净度检测分析方法，包括以下步骤：步骤1：从清洗液循环槽中取含有污物的清洗液样品，并进行脱水、烘干、研磨，得到污物粉末样品；步骤2：根据含有污物的清洗液样品和污物粉末样品计算清洗液循环槽中清洗液的洁净度；步骤3：根据含有污物的清洗液样品的洁净度建立清洗液洁净度评定标准；步骤4：根据清洗液洁净度评定标准控制含有污物的清洗液的排放和换液。本发明能简便且直观的了解当前清洗段循环槽内清洗液的状态，并可以根据清洗液的洁净度评级对清洗液的使用和排放做出及时的在线调整。
用于取向硅钢清洗洁净检测分析方法

[发明专利]一种用于在半导体晶圆清洗过程中的清洗液-CN202110663474.4在审
发明人：孙秀岩;王倩;郭磊;苏俊;金徽 -专利权人：张家港安储科技有限公司
申请日： 2021-06-16 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于在半导体晶圆清洗过程中的清洗液，包括所述清洗液按照以下质量百分比的原料制成：胍或胍的衍生物的质量百分比1～20％，链烷醇胺的质量百分比1～20％，抗氧化剂的质量百分比0.1～10％，可选的含氮杂环的金属腐蚀阻止剂的质量百分比本发明中的清洗液不含季铵碱。该清洗液除了可以有效去除抛光后铜晶片表面残留的研磨颗粒、金属离子等残留并不对铜表面明显腐蚀，该清洗液可以对在半导体高级节点中使用的钴的阻碍层具有保护性能。
一种用于半导体清洗过程中的

[发明专利]水性油墨用的清洗液-CN201780080091.6有效
发明人：铃木启之;竹野泰阳 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2017-12-26 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： C11D1/72 文献下载
摘要：本发明涉及一种水性油墨用的清洗液、及使用了该清洗液的水性油墨的清洗方法，所述清洗液是包含颜料和水不溶性聚合物的水性油墨用的清洗液，该清洗液含有：表面活性剂(A)、包含二乙二醇单异丙基醚(b‑1)的水溶性有机溶剂(B)、及水，表面活性剂(A)包含选自炔二醇或其氧化乙烯加成物(a‑1)、以及具有碳原子数8以上的烷基的聚乙二醇烷基醚或具有碳原子数6以上的芳基的聚乙二醇芳基醚(a‑2)中的一种以上，水溶性有机溶剂(B
水性油墨清洗

[发明专利]机械加工清洗液体循环使用系统-CN201510715208.6在审
发明人：余清海 -专利权人：重庆科燃科技有限公司
申请日： 2015-10-29 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： B08B3/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种机械加工清洗液体循环使用系统，包括清洗液储存系统和清洗液分离处理系统，清洗液分离处理系统安装在清洗液储存系统上方位置，清洗液储存系统与清洗液分离处理系统之间从左到右依次安装有下液机构、电源系统和物料供给动力机构，下液机构连通清洗液储存系统与清洗液分离处理系统；清洗液分离处理系统底部左右两侧均安装有加热系统支座，加热系统支座上安装有加热系统。该发明系统能够有效地针对清洗物件进行清洗液分离处理，清洗液分离处理后的水蒸气能予以回收再利用。
机械加工清洗液体循环使用系统

[发明专利]集成电路板的清洗方法-CN201911043484.7在审
发明人：何际福 -专利权人：东莞新科技术研究开发有限公司
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种集成电路板的清洗方法，包括以下步骤：(1)采用压缩空气吹除集成电路板表面粘附的灰尘；(2)将集成电路板浸泡于第一清洗液中，超声清洗8～10min，所述第一清洗液为氯仿和酒精的混合液；(3)用水冲洗集成电路板；(4)用压缩空气吹除集成电路板表面的水滴；(5)用第二清洗液对集成电路板进行喷淋清洗，所述第二清洗液为硫酸、双氧水和水的混合液；(6)用水冲洗集成电路板，烘干，即得清洗后的集成电路板本发明所述方法采用第一清洗液清洗表面的有机残留物质，然后利用第二清洗液的强氧化剂和脱水性使有机物的碳氢键结得到彻底破坏，以达到有机杂质完全清除的目的，两步清洗可以完全将集成电路板清洗干净。
集成电路板清洗方法

[实用新型]一种氢氧化铝分解槽冲洗装置-CN201520656790.9有效
发明人：裴广斌;闫启;吴建华 -专利权人：洛阳中超新材料股份有限公司
申请日： 2015-08-20 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： B08B9/08 文献下载
摘要：一种氢氧化铝分解槽冲洗装置，包括环形管、三角支架、结疤冲洗小孔、喷头、洗液进口管、阀门、洗液输送管道、洗液泵、洗液储存槽、搅拌桨叶、圆管、圆孔；环形管设置于三角支架上，在环形管外壁上部设置有均匀分布的50这种氢氧化铝分解槽冲洗装置，结构设计简单，实现了对氢氧化铝种分分解槽的由上而下双向清洗，利用生产中的氢氧化铝洗液作为清洗液，不引入专用的化学清洗液，不会造成氢氧化铝分解槽的污染，而且延长了氢氧化铝分解槽的使用周期和降低了清理难度
一种氢氧化铝分解冲洗装置

[发明专利]一种腐蚀箔清洗方法、腐蚀箔清洗装置-CN201510246564.8有效
发明人：徐建华 -专利权人：吴江飞乐天和电子材料有限公司
申请日： 2015-05-14 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： C23G3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种腐蚀箔清洗方法、腐蚀箔清洗装置。腐蚀箔清洗方法包括以下步骤腐蚀箔在进入清洗液一内时，在所述腐蚀箔与所述清洗液一的交界处，采用清洗液二以与所述清洗液一的液面呈一定的角度一喷射，使所述清洗液一的液面激起激荡波；所述腐蚀箔在离开所述清洗液一时，在所述腐蚀箔与所述清洗液一的交界处，采用所述清洗液二以与所述清洗液一的液面呈一定的角度二喷射，使所述清洗液一的液面激起激荡波。由于腐蚀箔在进入清洗液一和出清洗液一时都受到清洗液二的冲击引起的激荡波，该波沿着腐蚀箔的运行方向在清洗液一中传导，因而使得腐蚀箔在经过整个清洗的过程中，始终受到清洗液一的震荡波的冲击而大大提升了清洗的效果
一种腐蚀清洗方法装置

[发明专利]一种用于光阻喷嘴的清洗槽体结构及其应用-CN201410174612.2有效
发明人：汪武平;毛智彪;杨正凯 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-04-28 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：一种用于光阻喷嘴的清洗槽体结构及其应用，包括清洗槽壳体、防清洗液飞溅腔、喷嘴清洗腔、清洗液排出口、清洗液管路、新增清洗液管路、氮气吹扫管路和负压抽气管路；清洗液沿清洗液管路和新增清洗液管路向喷嘴清洗腔内部偏下的方向冲洗喷嘴头部，使喷嘴头部得到全面的清洗；倾斜布置的氮气吹扫管路和负压抽气管路能减少清洗液飞溅到防清洗液飞溅腔的情况，并能防止清洗液或者最终清洗液残留在喷嘴清洗腔内。本发明的槽体结构及其应用既能保证喷嘴头部的清洗效果，也能避免污染物的残留，保证光阻喷嘴喷光阻时的质量不受影响。
一种用于喷嘴清洗结构及其应用

[发明专利]一种磁珠法提取血浆游离DNA的试剂盒和方法-CN201910699960.4在审
发明人：周桂兰 -专利权人：杭州艾迪康医学检验中心有限公司
申请日： 2019-07-31 - 公布日： 2019-09-27 - 主分类号： C12N15/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁珠法提取血浆游离DNA的试剂盒，主要包括磁珠液、裂解结合液、蛋白酶K、清洗液和洗脱液，所述磁珠液包括表面包被二氧化硅的四氧化三铁磁性微珠和去离子水，所述裂解液包含盐酸胍、SDS、Tris、EDTA、NaCl、Tween20和异丙醇；所述蛋白酶K溶液包含蛋白酶K、Tris‑HCl和CaCl₂；所述清洗液包括清洗液I和II，所述清洗液I包含盐酸胍、Tris、EDTA、NaCl、无水乙醇和Tween20，清洗液II包含Tris‑HCl、无水乙醇和水；所述洗脱液包含Tris‑HCl。
清洗液试剂盒血浆游离DNA 无水乙醇蛋白酶K 游离DNA 磁珠法洗脱液盐酸胍磁珠生物信息分析蛋白酶K溶液裂解结合液四氧化三铁基因组DNA 表面包被磁性微珠二氧化硅去离子水文库构建假阳性裂解液外周血异丙醇孕妇

[实用新型]一种一氧化碳变换系统中的蒸汽处理机构-CN202020534584.1有效
发明人：盛建强;李国中 -专利权人：河南金大地化工有限责任公司
申请日： 2020-04-13 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： B01D53/78 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种一氧化碳变换系统中的蒸汽处理机构，包括塔体，所述塔体内壁的前后两侧通过载板固定连接，所述载板顶部固定连接有清洗液池，所述塔体套接有内套排气套，所述内套排气套内腔的上方套接有收拢排气套，所述收拢排气套的底端套接在所述清洗液池内腔的下方，所述清洗液池内灌装有清洗液体，所述收拢排气套的底端位于所述清洗液体的液面以下。本申请方案中通过对中空环的改进，蒸汽进入中空环内，在吸附套、PP棉和吸附碳相互配合的使用下，能够对蒸汽内的二氧化碳、硫化氢和氨进行吸附，能够将蒸汽内的杂质清除干净，这样一来能够减少铵盐结晶物，保证后续设备的使用寿命
一种一氧化碳变换系统中的蒸汽处理机构

[发明专利]一种胶体金平台清洗液-CN201710209566.9有效
发明人：廖玲妮;陆亮 -专利权人：上海艾瑞德生物科技有限公司
申请日： 2017-03-31 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： C11D1/825 文献下载
摘要：本发明提供了一种胶体金平台清洗液，所述清洗液包括：(1)0.25～2g/L碱金属氢氧化物；(2)0.25～30g/L非离子表面活性剂；(3)2～11g/L缓冲剂；(4)0.1～4g/L抑菌剂。所述清洗液价格低廉，稳定性好，不易残留，不影响胶体金平台的测定。
一种胶体平台清洗

[实用新型]一种用于血细胞分析仪的清洗液回收装置-CN202122398154.9有效
发明人：刘光远;叶志杰;张义鑫 -专利权人：北京北化康泰临床试剂有限公司
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： G01N15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于血细胞分析仪的清洗液回收装置，属于血细胞分析仪技术领域，包括排液导管，所述清洗液回收装置还包括清洗液容器，间隔布设于所述排液导管一侧，用于存储回收的清洗液，包括溢流机构，连通所述排液导管与清洗液容器，用于依次向所述清洗液容器中定量输入清洗液，并控制所述排液导管内部的液体流通，以及支撑组件，布设于所述清洗液容器底部，用于承托所述清洗液容器并配合所述溢流机构进行运动。本实用新型通过布设于所述排液导管和若干清洗液容器之间的溢流机构，能够控制所述排液导管依次向所述清洗液容器中定量输入清洗液，使得清洗液容器轻便易取出，便于进行清洁和取用。
一种用于血细胞分析清洗回收装置

[实用新型]一种可定量添加清洗液的喷水拖把-CN202123068126.7有效
发明人：夏冬全 -专利权人：宁波锦路家居用品有限公司
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： A47L13/22 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种可定量添加清洗液的喷水拖把，包括相互铰接的拖把头和拖把杆，拖把杆上安装有喷水装置，喷水装置包括用于储存清水的清水容器；喷水装置上安装有清洗液添加装置，清洗液添加装置包括用于储存清洗液的清洗液容器以及定量添加结构，定量添加结构用于将清洗液容器内的清洗液定量添加至清水容器内；本喷水拖把，使用时无需拆下清水容器，即可通过清洗液添加装置向清水容器中添加清洗液，其操作简单方便；其定量添加结构，可通过泵体组件或按压部等方式将清洗液定量添加至清水容器中，防止清洗液添加过量或过少，克服了现有喷水拖把清洗液添加不便和清洗液不能定量的缺陷。
一种定量添加清洗喷水拖把

[发明专利]用于清洗经历抛光的硅片的清洗装置、方法及相关设备-CN202011284131.9在审
发明人：白宗权 -专利权人：西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种用于清洗经历抛光的硅片的清洗装置、方法及相关设备，所述清洗装置包括承载单元、清洗液供应单元和清洗液喷射单元，其中，所述承载单元用于对所述硅片进行承载，所述清洗液供应单元用于将清洗液供应至所述清洗液喷射单元，所述清洗液喷射单元设置在与所述承载单元承载的硅片相对的位置处以将所述清洗液供应单元供应的清洗液喷射至所述硅片，其中，所述清洗液包括酸性液和碱性液，并且所述清洗液供应单元构造成将所述酸性液和所述碱性液以交替的方式反复供应至所述清洗液喷射单元
用于清洗经历抛光硅片装置方法相关设备

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