专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果6608个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]改善纱线排布均匀性的装置-CN201320517759.8有效
  • 朱晓伟;顾桂江;王海兴;赵刚 - 巨石集团有限公司
  • 2013-08-23 - 2014-02-26 - D02J1/14
  • 本实用新型公开了一种改善纱线排布均匀性的装置,包括机架和设置在机架上的引纱装置,还包括依次设置在引纱装置后端的所述机架上的第一集束装置、第二集束装置以及对第二集束装置上的纱线进行集合的集合导纱眼,所述的第一集束装置上设置有若干个第一导纱眼单元,所述的第一导纱眼单元由若干个根据产品规格组合排布的第一导纱眼构成,所述的第二集束装置上设置有若干个第二导纱眼,所述的第一导纱眼、第二导纱眼以及集合导纱眼的内径大小依次增大,且其内径大小可根据产品不同进行调整本实用新型纱线穿过集束装置时应一一对应,防止错位,改善了纱线截面的均匀性。
  • 改善纱线排布均匀装置
  • [实用新型]一种等离子体处理装置-CN202023035618.1有效
  • 杨金全;苏兴才;叶如彬 - 中微半导体设备(上海)股份有限公司
  • 2020-12-16 - 2021-06-15 - H01J37/32
  • 本实用新型公开了一种等离子体处理装置,包含:真空反应腔,真空反应腔内具有下电极组件;等离子体约束装置,其环绕设置于下电极组件的外侧;排气口,其设置于真空反应腔的底部且位于等离子体约束装置下侧,用于将真空反应腔内部的气体排出;等离子体约束装置包括第一区域和第二区域,第一区域到排气口的距离小于所述第二区域到排气口的距离;气流挡板,其设置于等离子体约束装置的下方,气流挡板上开设有气流口,气流口位于第二区域的下方。其优点是:该装置通过将等离子体约束装置、气流挡板等结构相结合,通过气流挡板增加气体行走路径,减缓了等离子体约束装置和排气口之间气体的流速,有助于实现晶圆刻蚀速率的均匀性,保证晶圆刻蚀效果。
  • 一种等离子体处理装置

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top