专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]PECVD法沉积薄膜的方法、电池制备方法及电池-CN202111123246.4在审
  • 陈曦;张达奇;吴坚;蒋方丹 - 嘉兴阿特斯技术研究院有限公司
  • 2021-09-24 - 2023-03-28 - H01L31/20
  • 本发明公开了PECVD法沉积薄膜的方法、电池制备方法及电池,其中,PECVD法沉积薄膜的方法包括如下步骤:以硅烷为反应气体,在硅片衬底上依次沉积第一层和第二层,其中,所述第一层沉积时的沉积速率V1为0.4nm/s‑1.2nm/s;第二层沉积时的射频功率W2小于第一层沉积时的射频功率W1;以硅烷和氢气的混合气体为反应气体,在第二层之上沉积成型第三层本发明实施例避免了射频源从高射频功率骤减为零的情况的出现,进而避免了由于射频功率的骤减在薄膜上形成的粉层,提升了薄膜的钝化效果。
  • pecvd沉积征非晶硅薄膜方法电池制备
  • [实用新型]一种HJT结构及太阳能电池-CN202321645548.2有效
  • 朱晶晶;赵福祥 - 韩华新能源(启东)有限公司
  • 2023-06-27 - 2023-10-27 - H01L31/0747
  • 实用新型涉及一种HJT结构及太阳能电池,结构包括基体,基体的正面由内向外依次设有隧穿氧化层、第一碳化硅层、第二碳化硅层、正面TCO导电,正面TCO导电远离第二碳化硅层一侧设有正金属电极;基体的背面由内向外依次设有第一层、第二层、掺杂层、背面TCO导电,背面TCO导电远离掺杂层的一侧设有背金属电极,其中,第二层的厚度大于等于第一层的厚度。实用新型提供的HJT结构,基体背面采用双层层,第一层为超薄层,可有效抑制纳米孪缺陷;第一碳化硅层提供优异钝化特性,第二碳化硅层提供优异导电性,实现钝化和接触共赢。
  • 一种hjt结构太阳能电池

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