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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]柔性线路板制程追溯二维码蚀刻制作方法-CN201711173256.2有效
发明人：续振林;陈妙芳;钟泽发 -专利权人：厦门弘信电子科技股份有限公司
申请日： 2017-11-22 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： H05K3/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种柔性线路板制程追溯二维码蚀刻制作方法，包括以下步骤：包括FPC前制程、贴干膜、LDI曝光线路和二维码、DES、FPC中间制程、在FPC上贴合覆盖膜、FPC后续制程等步骤，由于本发明在柔性线路板上指定区域设定二维码，在LDI曝光机设备上开发二维码功能软件，实现二维码由设备软件自动生成，二维码内含的制程流水号信息由设备软件自动生成或联网从系统提取，采用LDI技术实现将内含各制程流水号信息的二维码图形依次转移至每张产品上并蚀刻成形制作出
柔性线路板追溯二维码蚀刻制作方法

[发明专利]一种缩短PCB电镀制程的加工方法-CN201410263485.3在审
发明人：胡俊 -专利权人：金悦通电子（翁源）有限公司
申请日： 2014-06-13 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明提供一种缩短PCB电镀制程的加工方法，主要包括板面电镀、磨板、贴膜、曝光、显影、蚀刻、以及退膜步骤，采用板面电镀这种特殊的工艺流程，通过酸性蚀刻制作工艺将对未曝光已露铜部分的铜层直接蚀刻，从而减少图电与退锡两大步骤，缩短了PCB板的电镀制程，进一步为企业节省了成本。
一种缩短 pcb 电镀加工方法

[发明专利]一种UVLED大功率线路制程平行光源系统-CN202210971226.0在审
发明人：陈昊 -专利权人：无锡旭电科技有限公司
申请日： 2022-08-12 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于集成电路PCB板的外层线路制程技术领域，具体提供了一种UVLED大功率线路制程平行光源系统，包括PCB待曝光放置工作平台、UVLED光源、光学反射镜片、光学镜片以及光学球面镜片，所述UVLED光源用于发射光线，发射出的光线通过所述光学反射镜片反射出去，反射出去的光线透过所述光学镜片发散到所述光学球面镜片上，再通过所述光学球面镜片将发散出的光线反射到所述PCB待曝光放置工作平台上进行曝光。本发明提供的UVLED大功率线路制程平行光源系统，LED灯源性能稳定，降低客户的制造成本，提高客户产品的良率和高精度，以及提高客户生产效率。
一种 uvled 大功率线路平行光源系统

[发明专利]微影制程-CN03126630.4无效
发明人：黄全德 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2003-05-16 - 公布日： 2004-11-24 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种微影制程，其包括以下步骤：提供一基板；在该基板上涂覆一光阻层；利用光罩进行曝光步骤，其中该光罩与基板所平行的方向之间保持一角度；进行显影步骤。该微影制程可以控制微影图案的大小，通过改进微影制程，减小蚀刻制程所引起的误差。
微影制程

[发明专利]改善拼接曝光姆拉现象的方法-CN201710739084.4有效
发明人：雍玮娜;徐向阳 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2017-08-25 - 公布日： 2020-03-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种改善拼接曝光姆拉现象的方法，涉及显示面板的制造领域，用于解决现有技术中存在的获得的拼接处的亮度不均，出现拼接姆拉的技术问题。本发明的改善拼接曝光姆拉现象的方法，包括第一掩膜版获得具有黑色矩阵的基板的步骤、用第二掩膜版获得具有色组单元的基板的步骤以及用第三掩膜版获得具有隔垫物的基板的步骤，通过对不同的制程采用不同的掩膜版，并且由于第一掩膜版、第二掩膜版以及第三掩膜版上曝光区的面积均不相同，因此在不同的制程中，基板上拼接处的位置均不相同，因此能够来弱化拼接位置处的异常曝光量，减弱因制程因素对拼接姆拉的恶化作用，从而改善面板在拼接处的质量。
改善拼接曝光现象方法

[发明专利]显示面板的母板曝光结构-CN201910392618.X有效
发明人：丁华龙 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2019-05-13 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本发明提供了一种显示面板的母板曝光结构，涉及显示面板制程领域，所述显示面板曝光结构包括多个曝光区，所述多个曝光区沿第一方向并排设置，每个所述曝光区沿所述第一方向的尺寸为d1，相邻两个所述曝光区之间的间距为d2，用于对所述显示面板母板进行曝光的掩膜板在所述第一方向上的尺寸为d，用于对所述显示面板母板及所述掩膜板进行定位的定位装置在所述显示面板母板上的投影区域为第一区域，所述第一区域在所述第一方向上的尺寸为d3，其中，所述d1、d2、d3和d满足下列关系式：d1+2*d2≤d，d2≥d3；通过对所述曝光区的尺寸及所述曝光区在所述显示面板母板上的布局进行如上安排配置，可以简化曝光制程的工序，提高生产效率。
显示面板母板曝光结构

[发明专利]曝光制程、像素结构的制造方法及其使用的半调式光掩模-CN200710142320.0有效
发明人：洪国峰;张原豪 -专利权人：中华映管股份有限公司
申请日： 2007-08-13 - 公布日： 2009-02-18 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种半调式光掩模，适用于一曝光制程中，而形成尺寸均匀的多个光阻图案。此半调式光掩模包括透明基板、以及多个光掩模图案。因此，即使在大尺寸基板上的不同区域存在曝光精度不相同的情形下，仍可利用渐进补偿方式制作尺寸均匀的光阻图案。另外，使用此半调式光掩模的曝光制程与像素结构的制造方法也被提出。
曝光像素结构制造方法及其使用调式光掩模

[发明专利]一种提高刻蚀深度精确度的方法-CN200710044059.0无效
发明人：牟睿;石小兵 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-07-20 - 公布日： 2009-01-21 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种提高刻蚀深度精确度的方法，属于半导体工艺制程领域，包括如下步骤：步骤1，将产品根据曝光率分类；步骤2，根据产品的曝光率分类，套用不同的刻蚀程式。本发明保证了产品的曝光率，提高了芯片的性能，提高了生产效率，节约了人力和物力。
一种提高刻蚀深度精确度方法

[发明专利]调平晶圆的方法及图案转印的方法-CN201911280560.6在审
发明人：田笵焕 -专利权人：夏泰鑫半导体（青岛）有限公司
申请日： 2019-12-13 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种在曝光制程中调平晶圆的方法。晶圆包括多个区域。将晶圆装载到曝光系统上。曝光系统包括控制单元和调平模块。曝光系统的控制单元获得标线片的布局信息。曝光系统的控制单元根据标线片的布局信息为晶圆上的多个区域分配关键区域和非关键区域。本发明还提供一种图案转印的方法。
调平晶圆方法图案

[实用新型]一种多功能卷对卷设备结构-CN201922394238.8有效
发明人：刘海燕;黄会华;夏文静;杜勇;罗顺喜;陈家菡;林上斌;高启仁 -专利权人：成都捷翼电子科技有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2020-09-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多功能卷对卷设备结构，涉及制程设备领域。适用于在一柔性基材上进行化学反应，包括入料端和出料端，所述入料端和出料端上均设置有滚轴，且其下方设有传送轴，可将铺设于传送轴上的柔性基材由入料端向出料端运送；还包括设置于入料端和出料端之间的先后顺序不限的基础制程段和二次处理段，其中，柔性基材在基础制程段处理完毕后，进入烘干段进行脱水处理；所述基础制程段包括依次设置的化学反应段和水洗段。此设备添加了二次处理段，使得柔性基材在此设备里同时完成主制程和紫外固化等二次处理，而不额外增加紫外曝光工序，也不额外使用曝光机，从而简化制程工艺、节约生产成本、提高生产效率。
一种多功能设备结构

[发明专利]晶圆异常预警方法-CN202211021861.9在审
发明人：罗莹莹;吴冲;陈燕华;张亮;江杨 -专利权人：厦门士兰集科微电子有限公司
申请日： 2022-08-24 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆异常预警方法，由于曝光制程站点出现异常时，晶圆上的多个曝光区域的同一位置上通常会出现重复异常点，本发明首先获取在曝光测试站点需要进行异常分析的晶圆测试图，然后将所述晶圆测试图划分为若干子测试图，每个所述子测试图均对应晶圆上的一个曝光区域，之后获取同一位置上具有重复异常点的所述子测试图的最大数量与所述子测试图的总数量之间的占比，基于所述占比可以判定是否需要进行晶圆异常预警，如此一来，一旦曝光制程站点出现异常便可以及时
异常预警方法

[发明专利]一种曝边机-CN201810686676.9有效
发明人：王威 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2018-06-28 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种曝边机，该曝边机包括：送风机构和曝光腔室；曝光腔室的顶壁设置有进气口，送风机构用于通过进气口向曝光腔室内输送气体；曝光腔室的底壁设置有第一排放口，以使得曝光腔室内的残留物通过第一排放口排出曝光腔室通过上述方式，本申请可以为曝光制程提供良好的环境，减少曝光过程产生的PR残留，进而提高显示面板的良率。
一种曝边机

[实用新型]光电印刷电路板自动化制程设备-CN201720924308.4有效
发明人：柯木真;李浩民;徐巧丹;刘涛;卢海航 -专利权人：百强电子(深圳)有限公司
申请日： 2017-07-27 - 公布日： 2018-05-22 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光电印刷电路板自动化制程设备，该光电印刷电路板自动化制程设备，包括：线路印刷自动化制程设备、防焊印刷自动化制程设备、文字印刷自动化制程设备及电性测试自动化制程设备。本实用新型主要是利用线路印刷自动化制程设备的线路曝光机来将制程中所需的制程设备定位信息设置于铜箔基板，并且由定位钻孔机依据制程设备定位信息在铜箔基板上来钻设对应的定位孔，以便制程设备可以依据定位孔来进行铜箔基板的自动定位设置
光电印刷电路板自动化设备

[发明专利]光罩资源处理方法及系统、装置、设备和介质-CN202310632989.7在审
发明人：范武文;汪玉明 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G06Q10/0631 文献下载
摘要：该方法包括：响应于光罩调度指令，获取具有光罩盒的多个曝光制程机台，光罩调度指令基于光罩的光罩调度任务生成；确定多个曝光制程机台对应的空光罩盒总量；在空光罩盒总量大于零的情况下，从多个曝光制程机台中选取目标光罩盒
资源处理方法系统装置设备介质

[发明专利]数码照像机-CN03153965.3无效
发明人：榎本茂男 -专利权人：宾得株式会社
申请日： 2003-08-22 - 公布日： 2004-04-07 - 主分类号： H04N5/225 文献下载
摘要：电荷累积时间控制程序存储在系统控制电路的ROM中以便确定最佳曝光参数，根据所述最佳曝光参数实现摄影。电荷累积时间控制程序具有示出电荷累积时间与光圈数值和/或者ISO速度之间关系的程序图。
数码照像机

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