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[发明专利]掩膜板、掩膜板结构和掩膜板制作方法-CN202010588550.5有效
发明人：郭登俊;周俊吉;杨博文;张文畅;马超;伍青峰;罗小龙;杜志林;石应东;易烁文;吕文旭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开是关于一种掩膜板、掩膜板结构和掩膜板制作方法，属于蒸镀领域。掩膜板包括掩膜板主体和掩膜条。掩膜板主体包括多个凹槽，多个凹槽间隔分布在掩膜板主体的第一表面，凹槽内布置有镂空结构；掩膜条位于掩膜板主体上，掩膜条的图形区域位于凹槽在第一表面的正投影内。在基板与掩膜条贴合的过程中，基板对掩膜条产生朝向掩膜板主体的力，使掩膜条的中间部分向凹槽内移动，使得掩膜条的中间部分与基板之间无摩擦力。在基板下放过程中，减小了掩膜条的图形区域的移动，减小了掩膜条的弯曲程度，提高了蒸镀形成的像素区域的精度。
掩膜板板结制作方法

[发明专利]掩膜装置及其制备方法-CN202011621127.7在审
发明人：李松举;孙贤文;付东 -专利权人：广东聚华印刷显示技术有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜装置及其制备方法。本发明的掩膜装置包括掩膜框架以及掩膜主体；所述掩膜框架具有掩膜表面以及掩膜底面，所述掩膜框架的内壁具有用于承托所述掩膜主体的凹台结构，所述掩膜主体具有镂空的镀膜区域，所述掩膜主体具有第一表面以及第二表面，所述第二表面具有引流缓冲槽，所述第二表面具有第二覆膜，所述掩膜主体配合于所述凹台结构并与所述掩膜框架连接，所述第二表面与所述凹台结构接触配合，所述第一表面与所述掩膜表面朝向一致，所述第一表面和/或所述掩膜表面上具有第一覆膜本发明的掩膜装置能够极大程度上减少反应物沉积在衬底，掩膜能力高，降低原子层沉积技术中的阴影效应。
装置及其制备方法

[发明专利]一种新型掩膜及蒸镀装置-CN201711416387.9在审
发明人：宋沛;张国辉;陈旭;董艳波;胡永岚 -专利权人：固安翌光科技有限公司
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2018-06-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种新型掩膜，包括：掩膜主体和与掩膜主体一体式设计且包围所述掩膜主体的掩膜架，所述掩膜主体上形成有指定图案；所述掩膜架上分布有安装孔且所述安装孔内设有支撑结构。相较于现有技术而言，本申请提供的技术方案并没有对掩膜主体进行改动，不会对蒸镀的图形产生影响，基于本技术方案进一步的改进，支撑结构的高度可调节，不因掩膜或者基板侧平整度问题导致基板产生破片或者裂纹，同样也能够最大限度地减少对掩膜的污染
掩膜主体掩膜支撑结构安装孔掩膜架基板高度可调节一体式设计图形产生蒸镀装置平整度破片蒸镀申请图案包围污染改进

[实用新型]掩膜板-CN201820714454.9有效
发明人：王梦凡;王国兵;苏倩;李金库;康梦华;叶訢 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种掩膜板，所述掩膜板包括：掩膜板主体；设置于所述掩膜板主体上的至少一个子掩膜板，所述子掩膜板包括蒸镀区和遮挡部，在所述子掩膜板的厚度方向上，所述遮挡部开设有至少一个凹槽，所述凹槽的深度小于所述掩膜板主体的厚度由于在遮挡部开设有凹槽，且单个凹槽的深度小于掩膜板主体的厚度(凹槽沿厚度方向并非贯穿掩膜板主体)，既保证了遮挡部不会存在像素蒸镀到基板上，又减少了遮挡部的厚度，从而使遮挡部的重量减小，使遮挡部的重量与蒸镀区的重量差距小，降低了遮挡部的应力集中，从而使掩膜板主体在张网过程中受力均匀，进一步降低了掩膜板主体在张网过程中的褶皱现象。
掩膜板遮挡蒸镀张网受力均匀应力集中重量减小褶皱现象基板像素掩膜贯穿保证

[发明专利]掩膜板及掩膜组件-CN201711054173.1有效
发明人：戚海平 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-10-31 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜板，属于显示技术领域。所述掩膜板包括：掩膜板主体，所述掩膜板主体上设置有镂空区域，所述掩膜板主体的边缘向外延伸有n个凸起，n≥3。本发明解决了在焊接掩膜板与掩膜框架的过程中，掩膜板会在由焊接产生的应力的作用下发生形变，进而导致掩模板中的镂空区域也会发生形变的问题。本发明用于制造掩膜组件。
掩膜板组件

[发明专利]一种金属掩膜、金属掩膜版及其制造方法-CN201810276313.8在审
发明人：张健;黄俊杰;林治明;王震 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2018-03-30 - 公布日： 2018-08-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开一种金属掩膜、金属掩膜版及其制造方法，涉及蒸镀技术领域，用于提高显示面板的良率。所述金属掩膜包括掩膜主体部和位于掩膜主体部的相对两侧的两个连接部，连接部包括位于掩膜主体部上的本体部和位于本体部上且背向掩膜主体部延伸的单级台阶部，单级台阶部包括平行于金属掩膜的台阶面。多个金属掩膜构成金属掩膜版时，相邻的两个金属掩膜之间可以通过连接部实现重叠连接，相邻的两个金属掩膜之间不存在间隙，因而无需设置遮蔽条来遮蔽相邻的两个金属掩膜之间的间隙，金属掩膜不会因为遮蔽条的变形而受到挤压，改善金属掩膜的平展度，提高显示面板的良率。本发明用于形成膜层。
金属掩膜掩膜主体遮蔽显示面板台阶部单级良率相对两侧重叠连接平展度台阶面膜层蒸镀平行制造变形挤压延伸

[发明专利]一种掩膜框架、掩膜板及其制作方法-CN201410540132.3有效
发明人：吴海东;金泰逵;白娟娟;马群 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2014-10-13 - 公布日： 2015-01-21 - 主分类号： G03F1/64 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜框架、掩膜板及其制作方法，涉及掩膜板技术领域，解决了现有的掩膜条在掩膜板的不同位置处拉伸力不均的问题。一种掩膜框架，包括框架主体、弹性装置以及位于框架主体相对的两侧的两个固定部，每个所述固定部通过所述弹性装置与所述框架主体连接固定。本发明适用于掩膜板以及掩膜板的制造。
一种框架掩膜板及其制作方法

[发明专利]一种掩膜版、基板、显示面板和显示装置-CN201610587380.2有效
发明人：林治明;王震;黄俊杰;张健;唐富强;高月娇 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2016-07-22 - 公布日： 2018-08-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜版、基板、显示面板和显示装置，用以避免对位掩膜版的频繁对位，且增加对位掩膜版的稳定性，提高产能。所述掩膜版，包括掩膜版框架和对位掩膜版主体，所述掩膜版框架上设置有多个第一对位标记，所述对位掩膜版主体具有与所述第一对位标记相对应的第二对位标记，所述对位掩膜版主体通过位于所述第二对位标记两侧的焊接区域与所述掩膜版框架固定
一种掩膜版基板显示面板显示装置

[发明专利]一种通过激光制作对位标记的金属掩膜版-CN202011401779.X在审
发明人：钱超;杨柯 -专利权人：常州高光半导体材料有限公司
申请日： 2020-12-02 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种通过激光制作对位标记的金属掩膜版，包括掩膜版主体，掩膜版主体通过张网的方式将四角的对位孔与图形区的位置拉到指定位置后，与金属掩膜框拼合形成金属掩膜版；支撑掩膜版主体，寻找图形位置并对掩膜版主体上的图形位置进行多次校验；对准掩膜版主体图形位置并平放并固定连接在框架台体上；所述掩膜版主体利用激光制作出多个对位标记，本发明制作的掩膜版对位孔的真圆度较好，能控制在99％左右，而且不受传统蚀刻液的残留影响，激光打标后的平均对位次数可以小于一次
一种通过激光制作对位标记金属掩膜版

[发明专利]一种掩膜板、显示基板、显示装置-CN202211093931.1在审
发明人：桑金龙;齐超;罗宁;王博;潘文虎;刘宇熙 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-09-08 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种掩膜板、显示基板、显示装置。掩膜板包括掩膜板主体，掩膜板主体上设有多个掩膜开口，至少一个掩膜开口中设有遮挡结构和连接结构；遮挡结构，与显示基板上的挖孔区对应设置，用于在蒸镀工序中遮挡显示基板上挖孔区的周边位置；连接结构，与掩膜板主体和对应的遮挡结构连接，用于将对应的遮挡结构固定于掩膜板主体。本公开实施例提供的掩膜板、显示基板、显示装置，在很大程度上可以避免显示面板出现GDSH不良。
一种掩膜板显示显示装置

[发明专利]掩膜板-CN201810456673.6有效
发明人：李文星 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜板，掩模板包括：掩膜板主体；设置于掩膜板主体上的至少一子掩膜板，子掩膜板包括蒸镀区及第一遮挡区；其中，在子掩膜板的厚度方向上，蒸镀区贯穿开设有多个蒸镀孔，蒸镀孔的深度与掩膜板主体的厚度相等，第一遮挡区贯穿开设有至少一个变形孔，变形孔的深度与掩膜板主体的厚度相等，变形孔在掩膜板的张网方向上的尺寸大于蒸镀孔在掩膜板的张网方向上的尺寸，第二遮挡区开设有至少一个过渡槽，过渡槽的深度小于掩膜板主体的厚度上述掩膜板，第一遮挡区在掩膜板的张网方向上的抗拉强度小于弱于蒸镀区在张网方向上的抗拉强度，有效减少了蒸镀区的中间区域在张力作用下的变形量。
掩膜板

[发明专利]一种掩膜版、蒸镀系统及掩膜版的制备方法-CN201911151364.9在审
发明人：韩冰;张志远;李伟丽;刘明星 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供了一种掩膜版、蒸镀系统及掩膜版的制备方法，所述掩膜版包括：多个掩膜条，所述掩膜条上设置有至少一组有效蒸镀区以及位于所述有效蒸镀区周围的过渡区；其中，所述掩膜条由至少两个掩膜主体层叠设置形成，至少部分所述掩膜主体对应所述过渡区的位置设置有通孔，至少两个相邻所述掩膜主体上的所述通孔之间错位设置，以使蒸镀材料无法通过所述过渡区。通过上述方式，本申请能够对掩膜版过渡区内的通孔进行遮挡。
掩膜版掩膜主体过渡区掩膜条通孔蒸镀层叠设置错位设置蒸镀材料蒸镀系统制备申请遮挡

[发明专利]一种金属掩膜板焊接贴合器件及其焊接方法-CN201610852200.9有效
发明人：张健;黄俊杰;张德;刘德健;赵蓉 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2016-09-26 - 公布日： 2019-03-29 - 主分类号： B23K31/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属掩膜板焊接贴合器件及其焊接方法，涉及有机发光显示技术领域，解决了现有的金属掩膜的平坦度较低，导致金属掩膜板焊接过程中出现虚焊的技术问题。该金属掩膜板焊接贴合器件包括贴合器件主体，所述贴合器件主体的高度小于焊枪的焊接高度，所述贴合器件主体具有与金属掩膜的焊接区相对应的通孔，所述通孔的宽度大于所述焊枪的焊点直径，所述贴合器件主体用于贴合所述金属掩膜与金属掩膜承接框架本发明中的金属掩膜板焊接贴合器件应用于金属掩膜板的焊接。
贴合焊接金属掩膜板金属掩膜器件主体焊枪通孔有机发光显示焊点焊接过程器件应用焊接区平坦度虚焊承接

[发明专利]掩膜板及其制备方法、显示基板及显示装置-CN202010976329.7在审
发明人：王彦磊 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2020-09-16 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种掩膜板及其制备方法显示基板及显示装置，其中，掩膜板包括：掩膜板主体；位于所述掩膜板主体一侧表面的隔垫部，所述隔垫部的侧壁和所述隔垫部背向掩膜板主体的顶面之间平缓过渡。所述掩膜板能够避免在蒸镀过程中对显示基板的损伤，避免显示基板薄膜封装失效。
掩膜板及其制备方法显示显示装置

[发明专利]掩膜板、晶圆、蒸镀装置及蒸镀方法-CN201811188611.8在审
发明人：王晏酩;王辉;黄冠达;阚世雷;宋志明;唐志甫 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-10-12 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板、晶圆、蒸镀装置及蒸镀方法。所述掩膜板包括掩膜主体以及设置在所述掩膜主体上的若干个对位柱，每个所述对位柱用于插置在待工艺的晶圆上的对位套孔内，以使得所述掩膜主体与所述晶圆对位。本发明的掩膜板，其掩膜主体上设置有若干个对位柱。每个对位柱用于插置在待工艺的晶圆上的对位套孔内，以使得掩膜主体与晶圆对位。掩膜板的结构简单，并能够有效提高对位精度。该结构的掩膜板可以使得对位精度提高到±0.5μm，从而可以减少原料浪费，降低生产成本，减少对位偏移引起的不良和缺陷，提高产品良率，并且还能够减少重复对位次数，缩短对位时间，提高产能。
对位掩膜板晶圆掩膜主体对位柱蒸镀装置插置套孔蒸镀产品良率对位偏移产能重复

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