专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]研磨-CN201110371305.X无效
  • 胡杰;曹锡明;黄云飞 - 南通瑞尔实业有限公司
  • 2011-11-21 - 2012-04-04 - B24B37/00
  • 本发明公开了一种研磨,包括研磨构、与所述研磨构相连的传动机构,所述传动机构下面连有驱动机构,所述研磨构包括上抛光片和下抛光片,所述上抛光片下面套有上研磨盘,所述下抛光片上面套有下研磨盘,所述上研磨盘和下研磨盘上均刻有印痕,所述上研磨盘和下研磨盘上的印痕均组成方格,所述传动机构包括支撑所述下抛光片的支撑杆和安装在所述支撑杆周围且与所述驱动机构相连的运行装置。本发明研磨使用寿命长、工作效率高、抛光精确度高。
  • 研磨机
  • [发明专利]一种用于眼镜片研磨抛光的加工流水线设备-CN202210363744.4有效
  • 王风华;张锐;田水红;叶全标 - 温州市瓯海眼镜有限公司
  • 2022-04-08 - 2023-06-23 - B24B13/06
  • 本发明涉及一种用于眼镜片研磨抛光的加工流水线设备,包括镜片粗料、传送带、研磨、打标机以及抛光,所述传送带依次穿过研磨、打标机以及抛光;所述研磨、打标机以及抛光均设有用于移动镜片粗料的机械手,所述研磨内设有研磨液桶以及研磨头,所述研磨液桶内设有芯轴,该芯轴自顶至底依次连接设有螺旋叶片以及搅拌柱;研磨头连接设有液压伸缩转轴,所述芯轴以及液压伸缩转轴之间设有传动机构;实现了传送带运送镜片依次完成研磨、打标以及抛光研磨内液压伸缩转轴传动芯轴,根据研磨头转速自动调整芯轴转速,使研磨液的生成以及出液速度与研磨头的转速相匹,控制研磨液的浪费,提高研磨质量的同时避免温度过高。
  • 一种用于眼镜片研磨抛光加工流水线设备
  • [实用新型]再生晶圆低磨耗的均质化研磨系统-CN202022751346.9有效
  • 汪戬 - 中盛兴业科技发展有限公司
  • 2020-11-25 - 2021-08-20 - B24B37/10
  • 本实用新型提供一种再生晶圆低磨耗的均质化研磨系统,供以针对再生晶圆进行平坦化研磨,包含前段研磨,具有雾面磨光垫,供以将所述再生晶圆表面与所述雾面磨光垫进行旋转接触并执行雾面磨光;及后段研磨,设于所述前段研磨的一侧并具有亮面抛光垫,将雾面磨光后的所述再生晶圆传送至所述后段研磨,并再次与所述亮面抛光垫进行旋转接触并执行亮面抛光。或使用研磨台并电性连接驱动电源,所述研磨台具有雾面磨光模式及亮面抛光模式,所述雾面磨光模式执行于所述亮面抛光模式之前,供所述再生晶圆先执行雾面磨光,后执行亮面抛光。藉此达到大幅降低晶圆研磨耗损厚度即可去除刮痕的功效。
  • 再生晶圆低磨耗均质化研磨系统
  • [实用新型]研磨-CN201120464192.3有效
  • 胡杰;曹锡明;黄云飞 - 南通瑞尔实业有限公司
  • 2011-11-21 - 2012-09-26 - B24B37/00
  • 本实用新型公开了一种研磨,包括研磨构、与所述研磨构相连的传动机构,所述传动机构下面连有驱动机构,所述研磨构包括上抛光片和下抛光片,所述上抛光片下面套有上研磨盘,所述下抛光片上面套有下研磨盘,所述上研磨盘和下研磨盘上均刻有印痕,所述上研磨盘和下研磨盘上的印痕均组成方格,所述传动机构包括支撑所述下抛光片的支撑轴和安装在所述支撑轴周围且与所述驱动机构相连的运行装置。本实用新型研磨使用寿命长、工作效率高、抛光精确度高。
  • 研磨机
  • [实用新型]悬浮轨道研磨-CN201420275441.8有效
  • 胡阿敏;陈爱国;张亚明;李广 - 上海索鲁馨自动化有限公司
  • 2014-05-28 - 2014-10-08 - B24B37/11
  • 本实用新型涉及一种悬浮轨道研磨,包括连接法兰座、研磨导向套、浮动气缸、气缸连接圈、气动研磨本体、研磨固定压块、研磨壳体,连接法兰座一端为法兰盘,另一端为气缸固定座;所述气缸安装在气缸固定座中,气缸与气缸固定座之间安装有研磨导向套,所述气缸连接圈与气缸伸缩臂通过螺母连接,所述研磨壳体内设有研磨本体,研磨本体与研磨壳体内腔相匹配。本实用新型结构紧凑,设计合理,能够针对被抛光物体的表面为平面上的刻字、或者具有斜度、弧度的特殊结构进行自动的气动压力补偿,提高抛光研磨效果。
  • 悬浮轨道研磨机
  • [发明专利]一种双面抛光-CN201310433877.5无效
  • 赵立平 - 赵立平
  • 2013-09-12 - 2015-03-25 - B24B37/11
  • 本发明公开了一种双面抛光,包括机架、位于所述机架上的研磨构和控制机构,所述控制机构与所述研磨构电连接,所述研磨构与磨削液输送装置和磨削液回流装置相连,所述研磨构包括上研磨盘和下研磨盘,所述上研磨盘和下研磨盘相对的面上均设有研磨纸,本发明所公开的双面研磨研磨盘的损伤小,抛光的产品质量好,重现性高。
  • 一种双面抛光机
  • [实用新型]一种双面抛光-CN201220388582.1有效
  • 许峰 - 苏州市博飞光学有限公司
  • 2012-08-07 - 2013-03-06 - B24B29/00
  • 本实用新型公开了一种双面抛光,包括机架、位于所述机架上的研磨构和控制机构,所述控制机构与所述研磨构电连接,所述研磨构与磨削液输送装置和磨削液回流装置相连,所述研磨构包括上研磨盘和下研磨盘,所述上研磨盘和下研磨盘相对的面上均设有研磨纸,本实用新型所公开的双面研磨研磨盘的损伤小,抛光的产品质量好,重现性高。
  • 一种双面抛光机
  • [实用新型]一种研磨的防尘机构-CN202222423413.3有效
  • 夏应杰 - 重庆祥众再生资源有限公司
  • 2022-09-14 - 2023-03-10 - B02C23/00
  • 本实用新型涉及研磨技术领域,具体涉及一种研磨的防尘机构;包括底板、研磨本体和防护装置,研磨本体与底板固定连接,防护装置包括前护板、左护板、右护板、顶板、滑动板、导向组件和定位组件,在工件抛光研磨时,前护板、左护板、右护板、顶板及滑动板可进行工作腔的全封闭,同时,可通过滑动板上的观察窗进行尺寸观察,从而实现在人工工件抛光研磨时,在便于操作者操作和尺寸观察的前提下,能有效对抛光研磨时的粉尘或研磨颗粒进行防护处理
  • 一种研磨机防尘机构
  • [实用新型]一种采用双动压轴承的单面研磨抛光-CN202220980334.X有效
  • 贺德荣 - 东莞市中研机械设备有限公司
  • 2022-04-26 - 2022-08-16 - B24B37/10
  • 本实用新型涉及电子及半导体抛光加工技术领域的一种采用双动压轴承的单面研磨抛光,包括机箱、硅片研磨构和硅片吸附固定机构,硅片研磨构由硅片固定盘、研磨底座、研磨杆和研磨驱动组件构成,采用刚性更强,承载力度更大的双动压轴承作为硅片研磨构的转体,提高了单面研磨抛光的受力承载能力,同时在双动压轴承的内部采用双沟槽的结构,使双动压轴承在高速转动时,进一步保证了单面研磨抛光对硅片研磨抛光的精准度,同时其结构简单,适合大范围推广。
  • 一种采用压轴单面研磨抛光机

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