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[发明专利]一种投影机的投光系统-CN200510077669.1无效
发明人：吴景淼 -专利权人：普立尔科技股份有限公司
申请日： 2005-06-22 - 公布日： 2006-12-27 - 主分类号： G03B21/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种投影机的投光系统，其包括：椭球灯模块、镜片模块及均光模块。其中，该镜片模块设置于该椭球灯模块与该均光模块之间，用于接收从该灯罩所反射出的光信号，并投射出无杂光的光信号至该均光模块，其中该镜片模块的表面具有抗杂光层，且该镜片模块相对于一轴心线成一预定的角度，用以通过该抗杂光层，反射过滤(filter)该光信号中的杂光。因此，通过用该镜片模块取代现有技术的平面玻璃，并在该镜片模块的表面镀上该抗杂光层，不仅能缩短现有的椭球灯模块与均光模块的距离，更能增加光源入射投影系统的光效率。
一种投影机系统

[发明专利]抗杂光串扰的多路激光器-CN201711444336.7在审
发明人：赵泽雄;刘权;毕延文 -专利权人：苏州伽蓝致远电子科技股份有限公司
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2018-04-13 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种抗杂光串扰的多路激光器，其包括多个激光器和一个抗杂光组件，抗杂光组件包括一个偏振分束器，偏振分束器远离激光器的一端设置一个将激光器入射的线偏振光转换为圆偏振光且将反射的圆偏振光转换为线偏振光的波片；偏振分束器内设置一个将来自激光器的线偏振光全透射、且将来自波片的线偏振光全反射的反射面。本发明采用利用一个1/4波片，将入射为线偏振光的光信号转换成圆偏振光、反射的圆偏振光转换为线偏振光，该线偏振光被偏振分束器的反射面全反射，从而大大减少杂光返回到激光器的现象，实现抗杂光串扰。
抗杂光串扰激光器

[实用新型]抗杂光串扰的多路激光器-CN201721861095.1有效
发明人：赵泽雄;刘权;毕延文 -专利权人：苏州伽蓝致远电子科技股份有限公司
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2018-09-11 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抗杂光串扰的多路激光器，其包括多个激光器和一个抗杂光组件，抗杂光组件包括一个偏振分束器，偏振分束器远离激光器的一端设置一个将激光器入射的线偏振光转换为圆偏振光且将反射的圆偏振光转换为线偏振光的波片；偏振分束器内设置一个将来自激光器的线偏振光全透射、且将来自波片的线偏振光全反射的反射面。本实用新型采用利用一个1/4波片，将入射为线偏振光的光信号转换成圆偏振光、反射的圆偏振光转换为线偏振光，该线偏振光被偏振分束器的反射面全反射，从而大大减少杂光返回到激光器的现象，实现抗杂光串扰。
线偏振光激光器杂光偏振分束器圆偏振光波片串扰本实用新型多路入射反射转换反射面全反射成圆偏振光光信号转换一端设置组件包括反射面全反射全透射返回

[发明专利]杂化光致抗蚀剂组合物和使用它的图案形成方法-CN201280055029.9有效
发明人：陈光荣;黄武松;刘森;S·J·霍姆斯;G·博雷塔 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2012-11-02 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及改进分辨率的杂化光致抗蚀剂组合物和使用该光致抗蚀剂组合物的图案形成方法。所述光致抗蚀剂组合物包括辐射敏感性酸产生剂、交联剂和具有疏水性单体单元和含羟基的亲水性单体单元的聚合物。所述光致抗蚀剂能够对单一曝光产生杂化响应。所述图案形成方法利用所述杂化响应以在所述光致抗蚀剂层中形成图案化的结构。本发明的光致抗蚀剂组合物和图案形成方法可用于印刷具有精确图像控制的小特征，尤其是小尺寸的空间。
杂化光致抗蚀剂组合使用图案形成方法

[发明专利]含氧杂环丁烷的化合物、光致抗蚀剂组合物、制备图案的方法、以及喷墨打印头-CN200710126352.1有效
发明人：金奎植;金镇伯;河龙雄;朴炳夏;朴志英;金秀玟 -专利权人：三星电子株式会社;韩国科学技术院
申请日： 2007-06-29 - 公布日： 2008-06-04 - 主分类号： C07D305/06 文献下载
摘要：本发明披露了含氧杂环丁烷的化合物，包括该化合物的光致抗蚀剂组合物，使用该光致抗蚀剂组合物制备图案的方法，以及喷墨打印头，该喷墨打印头包括所述含氧杂环丁烷的化合物的聚合产物。
含氧杂环丁烷化合物光致抗蚀剂组合制备图案方法以及喷墨打印头

[发明专利]光电编码器-CN201810460966.1在审
发明人：水谷都 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2018-05-15 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： G01D5/36 文献下载
摘要：提供了一种光电编码器，其可以通过减少杂散光而在保持可靠性的同时实现更高的精度。编码器(1)是光电编码器，其包括发射平行光的光源装置(2)、具有沿着测量方向设置的标度(C)的标尺(3)以及接收从光源装置(2)发射并透过标尺(3)的光的光接收单元(4)。编码器(1)包括防止由在标尺(3)上反射而产生的杂散光进入光接收单元(4)的抗反射构件(30)。因为编码器(1)包括抗反射构件(30)，所以编码器(1)可以通过减少进入光接收单元(4)的杂散光而在保持可靠性的同时实现更高的精度。
编码器光电编码器光接收单元杂散光标尺抗反射构件光源装置方向设置发射平行光标度反射测量

[实用新型]一种抗杂光干扰紫外光度计-CN202122032584.9有效
发明人：范文涛 -专利权人：巴彦淖尔市嘉泰职业卫生技术服务有限公司
申请日： 2021-08-26 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： G01J1/42 文献下载
摘要：本实用新型属于紫外光度计技术领域，尤其为一种抗杂光干扰紫外光度计，包括机体，机体前面左侧开有贯穿其上面的安装槽，安装槽内部后面上端铰接有外盖，外盖靠内的一面左右端均固定有与安装槽内壁后面和下面之间连接的遮光布，遮光布可随着外盖上下翻转而展开或折叠，遮光布用于遮挡杂光，挡光板，挡光板设有两块分别连接于安装槽前端左右两侧，挡光板用于进一步遮挡杂光，安放座，安装槽内壁后面开有检测槽；本实用新型通过前板较好的对杂光进行遮挡，再通过外盖对杂光进行进一步遮挡，通过挡光板对外盖左右两侧的杂光进行遮挡，对杂光进行遮挡的效果较好，避免杂光进入检测槽内影响检测结果。
一种抗杂光干扰紫外光度计

[发明专利]制造半导体器件的光致抗蚀剂组合物和方法-CN202110331803.5在审
发明人：赖韦翰;杨立柏;张尚文;张庆裕;林子扬;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-03-29 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本公开涉及制造半导体器件的光致抗蚀剂组合物和方法。制造半导体器件包括形成光致抗蚀剂层。将光致抗蚀剂层选择性暴露到光化辐射并显影以形成图案。光致抗蚀剂组合物包含：含碘敏化剂、光活性化合物和聚合物。含碘敏化剂包括铵、鏻或杂环铵碘化物，
制造半导体器件光致抗蚀剂组合方法

[发明专利]星敏感器抗杂散光测试用的光学结构工装及测试方法-CN201610790374.7有效
发明人：杜伟峰;孙少勇;杨宵;史晓;王燕清 -专利权人：上海航天控制技术研究所
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： G01C25/00 文献下载
摘要：本发明提供一种星敏感器抗杂散光测试用的光学结构工装及测试方法，设置内部有高吸收率平面涂层及消光锥的拦光桶，在拦光桶中安装数显可变光阑和消杂散光光阑，将工装的输出光方向设为通光口径或替换安装太阳能电池片和高精度的光学反射镜本发明中通过调节拦光桶内数显可变光阑的口径大小以控制输出光斑的面积，可以避免除照射星敏感器遮光罩之外的光斑照射到测试背景空间，同时利用消杂光光阑减少了由于衍射现象所引起的杂散光，从而在杂散光测试过程中减少了背景环境光干扰
敏感器抗杂散光测试光学结构工装方法

[实用新型]一种大角度抗直射强光的可调焦可见光物镜-CN202122465418.8有效
发明人：黄泽菁;李继泉;黄天智;胡春松;姜立伟;龙炎;王建;张凯荣;谭祖安;周厚友;胡婷;任松林;亢战勇;程谟涛 -专利权人：湖南华南光电（集团）有限责任公司
申请日： 2021-10-13 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： G02B23/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种大角度抗直射强光的可调焦可见光物镜，在其物镜内腔整体采用消光纹，具体的在物镜第一压圈、物镜第二压圈、物镜第三压圈、物镜筒内壁、调焦筒内壁均有设置，消光纹的结构比一般物镜长，实现了物镜筒内全覆盖，消除杂散光效果更好；且在所有消光纹处均喷涂有消光层，不仅进一步提升消除杂散光效果，还能使光线直射角减小到15°时，不影响成像质量，实现了大角度抗直射强光的目的。
一种角度直射强光调焦可见光物镜

[实用新型]一种可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置-CN201721847422.8有效
发明人：刘桂雄;吴嘉健;张沛强;郭雪梅;曾昕;龙阳;陈长缨;王佳胜 -专利权人：华南理工大学;广州市光机电技术研究院;广州市仪器仪表学会;广州广电计量检测股份有限公司;暨南大学;广东省标准化研究院
申请日： 2017-12-26 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置，该装置包括：杂光光源模块、抗杂光性能分析模块、双轴联动运动控制模块、主半透半反镜、副半透半反镜、待测VLC装置夹具、衰减器及箱体；所述杂光光源模块包括杂光光源与杂光光源底座；所述杂光光源底座安装在箱体底部，用于放置杂光光源；所述双轴联动运动控制模块包括X轴步进电机、X轴丝杆导轨、X轴滑动平台、Y轴步进电机、Y轴丝杆导轨与Y轴滑动平台；所述主半透半反镜通过固定件固定在箱体的底部
杂光半透半反镜滑动平台运动控制模块本实用新型光源底座光源模块检测装置双轴联动可测量导轨光源性能分析模块机械移动装置夹具装置结构固定件衰减器检测替代

[发明专利]一种含氟硫杂蒽酮类大分子光引发剂及其制备方法-CN201810234171.9在审
发明人：杨金梁;尹祥祥;聂俊 -专利权人：北京化工大学常州先进材料研究院
申请日： 2018-03-21 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： C07D335/16 文献下载
摘要：一种含氟硫杂蒽酮类大分子光引发剂及其制备方法，通过合成反应将小分子的硫杂蒽酮通过羧基开环氧反应合成大分子的光引发剂，大大降低小分子光引发剂体系的迁移带来的毒性、黄变和难闻的气味等问题,同时将氟元素引入大分子光引发剂中使得引发剂涂抹后具有向表面迁移的能力，增加了表面引发剂的浓度，使得引发剂具有一定抗氧气阻聚的能力，使得在使用过程中不用额外加入抗氧阻聚的阻聚，降低成本施工更加方便。本发明提供了这种含氟硫杂蒽酮类大分子光引发剂及其制备方法，反应过程简单，反应条件温和，后处理简单并且容易纯化。
大分子光引发剂硫杂蒽酮含氟阻聚制备引发剂感光高分子材料小分子光引发剂表面引发剂合成大分子后处理表面迁移反应条件光引发剂合成反应氟元素小分子氧反应黄变开环羧基涂抹氧气迁移引入施工

[发明专利]一种适用于同轴式微纳遥感相机的超轻型消杂光组件-CN201910921264.3在审
发明人：朱英博;张雷;邵梦琪;贾学志 -专利权人：长光卫星技术有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： G03B11/04 文献下载
摘要：一种适用于同轴式微纳遥感相机的超轻型消杂光组件涉及空间光学遥感领域，超轻型消杂光组件具有质量轻、结构简洁和较高的消杂光效果等特点，并且力学性能优异，可以同时满足微纳相机对质量与消杂光的双重要求。该消杂光组件包括：主镜遮光罩、次镜遮光罩和主承力结构；所述主镜遮光罩和次镜遮光罩分别通过主承力结构固定安装。本发明超轻型消杂光组件，采用同轴式结构形式，结构简洁，并且主镜遮光罩、次镜遮光罩均使用碳纤维/环氧复合材料，具有密度小、高比刚度、高比强度、加工工艺好，尺寸稳定性好，抗疲劳性能好，抗振性能好等优点，从而满足微纳卫星质量和力学特性要求
消杂光遮光罩超轻型次镜主镜主承力结构环氧复合材料空间光学遥感抗疲劳性能同轴式结构抗振性能力学特性力学性能双重要求微纳卫星遥感相机组件包括比刚度碳纤维同轴相机

[实用新型]一种可见光通信设备抗杂光性能的分析装置-CN201721849665.5有效
发明人：郭雪梅;刘桂雄;吴嘉健;陈长缨;曾昕;龙阳;张沛强;王佳胜 -专利权人：广州市仪器仪表学会;华南理工大学;暨南大学;广州广电计量检测股份有限公司;广州市光机电技术研究院;广东省标准化研究院
申请日： 2017-12-26 - 公布日： 2018-07-06 - 主分类号： H04B10/073 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可见光通信设备抗杂光性能的分析装置，所述装置包括VLC光源底座、透光板底座、透光板、衰减片更换机构、衰减片底座、光学透镜、滑动机构、导轨、照度计、杂光光源模块、照度计滑动底座、平面镜；所述VLC光源底座、滑动机构、杂光光源模块和照度计滑动底座分别设置在导轨上，并通过导轨滑动；所述透光板底座放置在杂光光源模块与VLC光源底座的一侧；所述透光板、平面镜、衰减片更换机构、和光学透镜分别安装在滑动机构的上端本实用新型提供的装置能够分析VLC设备抗杂光性能，结构合理、实用性强、灵活性好，有效提高机械移动精度。
杂光滑动机构透光板光源底座光源模块衰减片照度计导轨本实用新型可见光通信分析装置更换机构光学透镜滑动底座平面镜底座连接固定件底座放置机械移动连接固定滑动上端分析

[发明专利]光致抗蚀用化合物、光致抗蚀液及使用其的蚀刻方法-CN200880007061.3无效
发明人：渡边哲也;宇佐美由久 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2008-03-05 - 公布日： 2010-03-17 - 主分类号： C09B23/00 文献下载
摘要：本发明涉及从具有氧杂菁色素骨架的化合物，具有花青色素、苯乙烯基色素、部花青色素骨架的化合物，具有酞菁色素骨架的化合物，偶氮化合物，以及偶氮化合物与金属离子的络合物选择的光致抗蚀用化合物。另外，本发明提供了使用含有至少一种上述光致抗蚀用化合物的光致抗蚀液，以及使用上述光致抗蚀液的被加工表面的蚀刻方法。
光致抗蚀用化合物光致抗蚀液使用蚀刻方法

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