[发明专利]光致抗蚀用化合物、光致抗蚀液及使用其的蚀刻方法无效

专利信息
申请号: 200880007061.3 申请日: 2008-03-05
公开(公告)号: CN101675117A 公开(公告)日: 2010-03-17
发明(设计)人: 渡边哲也;宇佐美由久 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C09B23/00 分类号: C09B23/00;C09B29/48;C09B45/14;C09B45/18;C09B45/20;C09B45/48;C09B47/12;C09B47/18;C09B47/20;G03F7/004
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱 丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及从具有氧杂菁色素骨架的化合物,具有花青色素、苯乙烯基色素、部花青色素骨架的化合物,具有酞菁色素骨架的化合物,偶氮化合物,以及偶氮化合物与金属离子的络合物选择的光致抗蚀用化合物。另外,本发明提供了使用含有至少一种上述光致抗蚀用化合物的光致抗蚀液,以及使用上述光致抗蚀液的被加工表面的蚀刻方法。
搜索关键词: 光致抗蚀用 化合物 光致抗蚀液 使用 蚀刻 方法
【主权项】:
1.一种光致抗蚀用化合物,其选自具有氧杂菁色素骨架的化合物,具有花青色素、苯乙烯基色素、部花青色素骨架的化合物,具有酞菁色素骨架的化合物,偶氮化合物,以及偶氮化合物与金属离子的络合物。
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