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[发明专利]非发光可变透射设备及其形成方法-CN201880058163.1有效
发明人：塞巴斯蒂安·马里厄斯·萨拉奇;让-克里斯托弗·吉龙;帕斯卡尔·罗伊特勒;肖恩·墨菲;彼得·博策克 -专利权人： SAGE电致变色显示有限公司
申请日： 2018-09-07 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G02F1/155 文献下载
摘要：一种非发光可变透射设备，所述非发光可变透射设备可包括：活动叠堆；透明导电层，所述透明导电层覆盖所述活动叠堆；抗反射层，所述抗反射层覆盖所述透明导电层并且限定孔；以及汇流条，所述汇流条包括延伸至所述孔中并且接触所述透明导电层的导电带适当地选择汇流条的材料和设计可使电连接至所述透明导电层，而无需切割下方透明导电层。一种形成所述非发光可变透射设备的方法，所述方法可包括：将所述抗反射层图案化，以限定延伸至所述透明导电层的所述孔。改善图案化的控制允许所述抗反射层相对较薄，并且不移除过多的所述下方透明导电层。
发光可变透射设备及其形成方法

[发明专利]带有导电涂层的透明玻璃-CN201280066218.6有效
发明人： K.菲舍尔;S.彦齐克;V.莫罗;M.内安德;C.施米茨 -专利权人：法国圣戈班玻璃厂
申请日： 2012-10-04 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： H05B3/86 文献下载
摘要：本发明涉及一种透明玻璃，其包含至少一个透明基材(1)和在所述透明基材(1)的至少一个表面上的至少一个导电涂层(2)，其中所述导电涂层(2)具有至少两个叠加设置的功能层(3)，和每个功能层(3)包含至少一个抗反射层(4)、在所述抗反射层(4)的上方的第一匹配层(6)和在所述第一匹配层(6)的上方的导电层(7)，和至少一个设置在两个导电层(7)之间的抗反射层(4)包含至少一个折射率小于2.1的介电材料层(9)和一个折射率大于或等于2.1的光学高折射材料层(10)。
带有导电涂层透明玻璃

[实用新型]一种透明隔热降温复合涂层-CN201320544471.X有效
发明人：邓民;王颖 -专利权人：常熟市迪恩精密材料有限公司
申请日： 2013-09-04 - 公布日： 2014-04-23 - 主分类号： B32B33/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种透明隔热降温复合涂层，属于复合隔热材料技术领域。该透明隔热降温复合涂层包括热反射层、热辐射层和抗紫外隔热层，热辐射层设置在热反射层和抗紫外隔热层之间，其中，热反射层设置在热辐射层的外表面，抗紫外隔热层的一个表明设置在热辐射层的内表面，抗紫外隔热层的另一个表面设置在被刷物体上该复合涂层的热反射、热辐射和隔热三大功效保证了被涂刷物体降温，确保了被涂刷物体内部空间能保持持久恒温的状态，这对节约能源、保护环境具有重要意义。
一种透明隔热降温复合涂层

[发明专利]半导体器件中金属电容的制备方法-CN200910057407.7有效
发明人：肖胜安 -专利权人：上海华虹NEC电子有限公司
申请日： 2009-06-11 - 公布日： 2010-12-22 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体器件中金属电容的制备方法，该金属电容的制备集成在半导体器件的后道工艺中，在按照常规流程完成所述金属电容的接触通孔制备之后，包括如下步骤：1)在整个硅片上涂抗反射材料以填充接触通孔，接着反刻抗反射材料至在接触通孔底部剩余一预定厚度的抗反射材料；2)采用光刻工艺，在层间膜上接触通孔之上定义出直径大于接触通孔的接触孔，之后刻蚀暴露出的层间膜至抗反射材料，形成接触孔；3)在整个硅片上淀积顶层金属，使淀积完成后的顶层金属完全填充接触孔和接触通孔，并在层间膜上具有预定的厚度，最后利用光刻和刻蚀工艺使所述顶层金属图形化。
半导体器件金属电容制备方法

[发明专利]制造至少一种拉伸应变的平面光电二极管的方法-CN202011051395.X有效
发明人：阿卜杜卡迪尔·阿利亚内;让-路易斯·乌夫里耶-比费 -专利权人：原子能和替代能源委员会
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L31/101 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于制造至少拉伸应变的平面光电二极管1的方法，包括：制造由半导体层53、55和抗反射层20形成的堆叠，该半导体层由第一材料制成；制造外围沟槽30，该外围沟槽通向抗反射层20的由第二材料制成的种子子层22；在外围沟槽30中外延由第二材料制成的外围部分31；以及返回至室温，然后由于两种材料之间的热膨胀系数的差异，检测部分10被拉伸应变。
制造至少一种拉伸应变平面光电二极管方法

[实用新型]具有电触觉反馈功能的盖板及电子装置-CN201720089560.8有效
发明人：钭忠尚 -专利权人：南昌欧菲显示科技有限公司
申请日： 2017-01-23 - 公布日： 2017-09-12 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：盖板包括基体、设置在基体上的电触觉反馈层、设置在电触觉反馈层上的抗反射层及设置在抗反射层上的防指纹层。电触觉反馈层为导电层，反馈电路给电触觉反馈层提供电压并使电触觉反馈层与按压体形成电容，电容的电量变化使按压体产生震荡电场并产生触觉。抗反射层由增透材料组成，用于减少光线反射。防指纹层用于减少油污粘附在盖板上。当电子装置的显示面板产生的光线穿过盖板时，抗反射层能够减少光线的反射。且盖板的表面设置的防指纹层，有利于减少油污、水汽等粘附在盖板上。
具有触觉反馈功能盖板电子装置

[发明专利]抗反射层的形成方法及其用于制造双镶嵌结构的方法-CN200610147811.X有效
发明人：杨光宇 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2006-12-22 - 公布日： 2008-06-25 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种抗反射层的形成方法，包括：提供一半导体基底；向所述半导体基底喷出抗反射材料，并使所述半导体基底以第一速率旋转；使所述半导体基底以大于所述第一速率的第二速率旋转；使所述半导体基底以小于所述第二速率的第三速率旋转；使所述半导体基底以大于所述第三速率且小于第二速率的第四速率旋转；停止向所述半导体基底喷出抗反射材料；使所述半导体基底以大于所述第四速率且小于第二速率的第五速率旋转。本发明方法形成的抗反射层的表面具有较好的平坦度。
反射层形成方法及其用于制造镶嵌结构

[发明专利]用于吸收太阳能的光学作用多层系统-CN201080051119.1有效
发明人： R·达斯巴赫 -专利权人：阿尔姆科-蒂诺克斯有限责任公司
申请日： 2010-11-05 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： F24J2/48 文献下载
摘要：用作选择性太阳能吸收材料的具有载体层(1)的复合材料，其中在所述载体层的面(B)上至少具有以下的层：反射层(3)、吸收层(5)、介电和/或氧化物抗反射层(7)，其中在所述吸收层与所述反射层之间存在由第IV、V或VI副族的一种金属或两种或更多种金属的混合物的氮化物、碳化物或碳氮化物组成的层(4)，而在所述吸收层与所述抗反射层之间存在由具有化学计量比组成的金属化合物组成的光学活性层(6)。在所述载体层的一个面(A)上具有光学作用层(8)，所述光学作用层在200与2500nm之间的波长范围内的特定波长λ的情况下在以特定的入射角射入时使未经涂覆的载体材料的反射率减小至少5％，并且在2.5μm与50μm之间的波长范围内使未经涂覆的载体材料的反射率减小不超过5％。
用于吸收太阳能光学作用多层系统

[发明专利]使用抗反射膜以降低光串扰的固态成像器和形成方法-CN200680038501.2有效
发明人：李久滔 -专利权人：美光科技公司
申请日： 2006-08-24 - 公布日： 2008-10-22 - 主分类号： H04N5/335 文献下载
摘要：用抗反射膜涂布成像装置中的传导线以降低由从所述传导线反射的光造成的串扰。界面在所述抗反射膜与所述传导线表面的表面之间产生。第二界面存在于所述抗反射膜与上覆绝缘层之间。所述抗反射膜是由具有复折射率的材料形成的，使得反射率在所述两个界面中的每一者处降低。所述抗反射膜还可具有光吸收性，以提供光反射和由此引起的串扰的进一步降低。
使用反射降低光串扰固态成像形成方法

[发明专利]半导体结构及其形成方法-CN201611110258.2有效
发明人：赵简;赵杰 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2016-12-02 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： H01L21/8238 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体结构及其形成方法，其中方法包括：提供衬底，衬底包括第一区域和第二区域；在所述第一区域衬底和第二区域衬底上形成介质层，所述第一区域介质层中具有第一开口，所述第二区域介质层中具有第二开口；在所述第一开口和第二开口底部的衬底上形成初始功函数层；在所述第二区域的初始功函数层上形成抗反射涂层和位于所述抗反射涂层上的保护层；以所述抗反射涂层和所述保护层为掩膜刻蚀所述初始功函数层，去除所述第二区域的初始功函数层，形成功函数层；去除所述第二区域的初始功函数层之后，去除所述保护层和抗反射涂层。所述形成方法能够增加所述抗反射涂层的去除效率，减少残余的抗反射涂层材料对所形成半导体结构的影响。
半导体结构及其形成方法

[实用新型]光学膜组件-CN201420474689.7有效
发明人：何宽鑫;云花;赵峰;曾龙;许毅中;徐国书;张春勇;林余钧 -专利权人：宸鸿科技（厦门）有限公司
申请日： 2014-08-21 - 公布日： 2015-01-14 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光学膜组件，包含一基板、一抗眩层、一第一抗反射层以及一第二抗反射层。抗眩层设置于基板上，且抗眩层具有一微粗糙结构，位于相反于基板的一侧。第一抗反射层设置于抗眩层的微粗糙结构上，且抗眩层位于基板以及第一抗反射层之间。第二抗反射层设置于第一抗反射层上，且第一抗反射层位于抗眩层以及第二抗反射层之间。其中，第一抗反射层的折射率相异于抗眩层的折射率。藉此，本实用新型可以提升光学膜组件的抗眩以及抗反射的功效，同时亦可具有高穿透效果。
光学组件

[发明专利]制造CMOS图像传感器的方法-CN200610171259.8无效
发明人：林费吴 -专利权人：东部电子股份有限公司
申请日： 2006-12-25 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： H01L21/822 文献下载
摘要：一种制造CMOS图像传感器的方法，其中在焊盘电极上还形成抗反射涂层，因而可避免焊盘电极被接续的光蚀刻处理的显影剂腐蚀，并且焊盘电极与外部驱动电路无缺陷地彼此连接。该方法包括步骤：设置分成像素阵列单元和逻辑电路单元的半导体衬底，在半导体衬底上形成互连，在包括所述互连的整个表面上形成层间绝缘层，将金属材料和抗反射涂层沉积在层间绝缘层上，并且将所述沉积的金属材料和抗反射涂层图案化以形成焊盘电极，在包括该焊盘电极的整个表面上形成保护层，选择性除去焊盘电极上的保护层形成通孔，在保护层上形成滤色层，形成覆盖滤色层的平坦化层，在平坦化层上形成与滤色层对应的多个微透镜，以及除去通过通孔露出的焊盘电极上的抗反射涂层
制造 cmos 图像传感器方法

[发明专利]一种触控显示模组及其制作方法-CN201610729611.9在审
发明人：万娅鹏;何再钱;杨剑锋;廖跃;肖尹 -专利权人：深圳市比亚迪电子部品件有限公司
申请日： 2016-08-26 - 公布日： 2017-01-04 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明提供了一种触控显示模组，包括贴合在盖板一侧的光学透明胶层和贴合在液晶显示层一侧的泡棉胶，其特征在于，在光学透明胶层和泡棉胶之间设置有防眩及抗反射的触控功能层，将防眩与抗反射功能与触控功能集合于一层，既不会增加产品的厚度，又不采用LENS单片制作带有防眩及抗反射功能的盖板，成本低、效率高。本发明还提供了上述触控显示模组的制作方法，包括：选取防眩及抗反射的薄膜作为基板；将透明导电材料与所述基板贴合，再依次进行一次曝光、撕膜、二次曝光、显影及本固，形成防眩及抗反射的触控功能层。
一种显示模组及其制作方法

[实用新型]温室大棚保温被-CN201220444792.8有效
发明人：吴松;曲维民;李娇;刘继刚;李坤;陈立振;徐俊贤 -专利权人：北京京鹏润和农业科技有限公司
申请日： 2012-09-04 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： A01G9/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种温室大棚保温被，包括防水抗拉层，铝箔反射层，缝合在防水抗拉层和铝箔反射层之间的保温层，保温被各层通过绗缝机缝合在一起。该型保温被抗拉性能好、使用寿命长，同时具有质轻，防水，易于卷铺，保温性能好等优点，是一种独具特色的温室大棚保温覆盖材料。
温室大棚保温

[发明专利]半导体器件及其制造方法-CN201811003088.7有效
发明人：蔡嘉庆;邱意为;张宏睿;许立德 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-08-30 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：在衬底上方形成多孔介电层，在多孔介电层上方形成抗反射层；在抗反射层上方形成第一硬掩模。使用抗反射层和第一硬掩模作为掩模材料，在多孔介电层内形成通孔开口和沟槽开口。
半导体器件及其制造方法

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