专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]硫铵聚合分离焚烧装置-CN200520036982.6无效
  • 滕宪忠;凌人志;姜继茹;黄祥谦;樊奉瑭;孟兆海;张惠玲;于广彦;张彦;魏永芳;张清春;王利君;于秀英 - 大庆石油化工设计院
  • 2005-12-28 - 2007-02-07 - F23G7/04
  • 本实用新型公开了一种硫铵聚合分离焚烧装置,是与丙烯睛装置配套使用的、用于回收丙烯睛生产过程中产生的稀硫铵液中的硫铵装置。该装置主要包括结晶罐、聚合分离器、聚合混合器、结晶净化泵、排出管线、进料管线、抽真空管线、稀释水管线,聚合溶液由聚合分离器与混合器之间的溢流管进入聚合混合器;结晶罐的聚合悬浮液排出口管线上设置外部气相平衡线;在聚合分离器的上部设置斜隔板,底部设置隔板;稀释水由聚合分离器的上部进入聚合分离器,进料口设置在聚合分离器的底部。本实用新型解决了原装置不能保证聚合溶液从结晶器内部正常采出、分离的问题,可保证装置长周期、连续、清洁、稳定生产,降低了检修成本。
  • 聚合物分离焚烧装置
  • [发明专利]改善沟槽侧壁扇贝形貌的干法刻蚀工艺方法-CN201210346926.7有效
  • 吴智勇;林硕 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2012-09-17 - 2014-03-26 - H01L21/3065
  • 本发明公开了一种改善沟槽侧壁“扇贝”形貌的干法刻蚀工艺方法,步骤包括:1)涂胶,曝光,定义钨通道尺寸;2)高压下,预淀积聚合;3)预刻蚀聚合;4)在沟槽侧壁和底部淀积聚合;5)交迭进行聚合刻蚀和淀积;6)深沟槽各向异性干法刻蚀,彻底打开沟槽底部聚合,并刻蚀底部单晶硅,形成小单晶硅沟槽;7)循环进行步骤4)至6),直至达到要求的钨通道深度。本发明利用刻蚀和淀积交迭步骤来控制沟槽侧壁和底部聚合厚度,以保护沟槽侧壁的聚合,这样大大降低了沟槽侧壁“扇贝”形貌的幅度,保证了后续金属钨阻挡层淀积的可行性和金属钨sinker的实现。
  • 改善沟槽侧壁扇贝形貌刻蚀工艺方法
  • [实用新型]一种汽车应急启动电子设备聚合锂电源-CN201520477811.0有效
  • 周建 - 东莞壹凌电子科技有限公司
  • 2015-07-06 - 2015-11-18 - H01M2/02
  • 本实用新型公开了一种汽车应急启动电子设备聚合锂电源,包括电源壳体和聚合锂电池,所述电源壳体包括底部壳体和盖板,多个聚合锂电池插套在底部壳体中,相邻两个聚合锂电池之间夹持有隔热板,底部壳体的内侧壁上固定有弹性缓冲垫,弹性缓冲垫压靠在聚合锂电池的侧壁,盖板通过螺栓固定连接在底部壳体的上端面上,盖板的底面具有缓冲垫,缓冲垫压靠在聚合锂电池的顶面上,聚合锂电池的正极接触头和负极接触头插套在盖板上具有的插孔中,外盖板通过螺栓固定连接在盖板上它体积小,其内部的每个聚合锂电池相互隔开,使得使用中,相邻两个聚合锂电池不容易传热,防止爆炸。
  • 一种汽车应急启动电子设备聚合物电源
  • [发明专利]可微波容器-CN201710631834.6有效
  • H·J·巴里亚;M·T·小特里尔;罗建军 - 达特工业股份有限公司
  • 2017-07-28 - 2020-10-30 - A47J36/02
  • 包含锅以及锅盖的可微波容器,所述锅包括底部、连续壁、锅沿、第一加热层和第一聚合层;所述锅盖包括上表面、下表面和外侧边缘、第二聚合层、以及第二加热层,第一加热层附着于锅底部,第二加热层附着于锅盖,并且其中,第一聚合层附着于锅沿、第一加热层和锅底部,第二聚合层附着于锅盖和第二加热层;第一和第二加热层独立地包含:选自锰锌铁氧体、镍锌铁氧体、锶铁氧体或它们的混合的接受体粉末;和选自硅酮橡胶、液晶聚合、聚苯硫醚聚合或它们的混合聚合基质。
  • 微波容器
  • [发明专利]制作凸纹图像印刷版的方法-CN201680023043.9有效
  • R·W·维斯特;C·安德森 - 麦克德米德图像方案股份有限公司
  • 2016-04-08 - 2020-11-27 - G03F7/004
  • 一种有选择地将液体光聚合印刷坯料曝露于光化辐射以产生凸纹图像印刷版的方法。印刷坯料通过以下步骤制造:(i)将照相负片放置在底部玻璃台板上并在该负片上放置覆盖膜,(ii)在覆盖膜和负片之上设置液体光聚合层,以及(iii)在液体光聚合层上放置背衬片。该方法包括以下步骤:透过背衬片,用光条扫掠液体光聚合印刷坯料的整个上表面,以在选定区域中固化液体光聚合层,邻近背衬片而产生固化的聚合的岛状,并透过液体光聚合印刷坯料的底部对光聚合进行成像,以交联并固化液体光聚合的选定部分凸纹图像在固化的岛状上产生。
  • 制作图像印刷方法
  • [发明专利]一种印章及其制备方法与量子点转印方法-CN201711158219.4有效
  • 张滔;向超宇;李乐;辛征航;张东华 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2017-11-20 - 2020-09-22 - B41K1/02
  • 本发明公开一种印章及其制备方法与量子点转印方法,方法包括步骤:提供初始态的形状记忆聚合嵌入体,所述初始态的形状记忆聚合嵌入体的下端具有凸起;将所述下端具有凸起的初始态的形状记忆聚合嵌入体制成下端为平整表面的变形态的形状记忆聚合嵌入体;制备具有凹形坑的印章底部;将所述变形态的形状记忆聚合嵌入体嵌入所述印章底部的凹形坑中;在含形状记忆聚合嵌入体的印章底部上端制备印章基底,得到印章。本发明将形状记忆聚合嵌入印章底部中,利用低表面能的印章底部作为印章表面,制备印章。本发明能有效提高第二步转印过程的转印效率,提高图案完整性。所制备的印章可以重复使用。
  • 一种印章及其制备方法量子点转印
  • [发明专利]一种聚合微针的制备方法和聚合微针-CN202010078368.5在审
  • 吕方宇;何盛南 - 康迈丽德(深圳)生物科技有限公司
  • 2020-02-03 - 2020-06-19 - B29C39/02
  • 本申请公开了一种聚合微针的制备方法和聚合微针。本申请的制备方法包括,(1)聚合溶液制备步骤,包括在对聚合溶液进行搅拌分散时,真空减压去除气泡;(2)模具处理步骤,包括对聚合阵列微针模具进行10‑200W等离子体处理5s‑90s;(3)聚合微针制备步骤,包括将聚合溶液倒入等离子体处理的模具中,静置3‑10min,去除多余聚合溶液,固化成型,脱模,获得聚合微针。本申请的制备方法,在聚合溶液制备过程中进行气泡去除,避免了气泡影响聚合溶液质量,从而避免了由此导致的聚合微针质量问题;通过对模具进行等离子体处理,使得聚合溶液能够自动填充到模具的腔体底部,保障了聚合微针的质量
  • 一种聚合物制备方法
  • [发明专利]基因测序中DNA聚合酶的固定方法-CN202110336894.1在审
  • 不公告发明人 - 上海近观科技有限责任公司
  • 2021-03-29 - 2022-10-04 - C12N11/089
  • 本发明公开了一种基因测序中DNA聚合酶的固定方法,包括以下步骤:步骤一:提供一具有反应孔的反应层;反应层包括反应材料层和介质层,反应孔底部为介质层表面,反应孔侧壁为反应材料层表面;介质层材料为第一聚合或采用第四聚合对反应孔底部的介质层表面进行修饰;反应材料层材料为第二聚合或采用第三聚合对反应材料层表面进行修饰;步骤二:通过生物素‑亲和素系统将DNA聚合酶固定在反应孔底部;第一聚合和第四聚合与生物素上的化学活性基团发生反应;第二聚合和第三聚合与生物素上的化学活性基团不发生反应本发明公开的方法提高了DNA聚合酶的装载效率,同时降低了单分子实时测序技术中基因测序芯片以及系统的成本。
  • 基因测序中dna聚合固定方法
  • [发明专利]硅深刻蚀方法-CN201310746215.3有效
  • 蒋中伟 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2013-12-30 - 2019-02-19 - H01L21/02
  • 本发明公开了一种硅深刻蚀方法,包括以下步骤:采用各向同性刻蚀硅片,控制硅槽的顶部开口为预设的刻蚀形貌;通过聚合沉积,在硅槽的内壁形成聚合保护层;采用各向异性刻蚀硅槽的底部聚合保护层,将硅槽的底部聚合保护层刻蚀干净;采用各向异性刻蚀硅槽的底部,直至硅槽的深度为所需深度。其通过增加聚合沉积,在硅槽的内壁形成聚合保护层的工艺,在对硅槽的底部聚合保护层进行刻蚀过程中,有选择的保护了硅槽的顶部开口形貌,最终在对硅片刻蚀后,获得了圆滑的顶部,陡直的侧壁,以及顶部和底部光滑的硅槽形貌
  • 深刻方法

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