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[发明专利]平面抛光设备-CN201610842612.4在审
发明人：罗迎红 -专利权人：罗迎红
申请日： 2016-09-21 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种平面抛光设备，其特征在于，它包括机架及其上设置的粗抛装置、精抛装置和输送装置，粗抛装置、精抛装置分别设置在输送装置的上方，粗抛装置包括设置在机架上的粗抛升降导向机构，升降架包括活动设置在粗抛升降导向机构上的升降架
平面抛光设备

[实用新型]平面抛光设备-CN202222099143.5有效
发明人：罗崇文 -专利权人：东莞市艾瑞精密机械科技有限公司
申请日： 2022-08-10 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种平面抛光设备，包括有机架、抛光盘、转动座、压料杆、夹料头以及拉簧。通过设置有抛光盘、转动座、压料杆以及夹料头，并配合抛光盘可来回转动地设置在机架上并向上露出机架上表面，转动座可绕自身轴线来回转动地设置在连接杆上；该压料杆的一端可上下来回翻转地设置在转动座上并随着转动座来回转动，使得可通过将待抛光产品夹持在夹料头上，然后通过下压并转动压料杆，使得待抛光产品与转动的抛光盘接触，从而完成抛光加工，整体结构更加简单，适合小型产品以及对抛光要求较低的产品进行抛光，相较于大型的抛光设备，使用成本也更低，另外相较于人工的抛光方式，劳动强度和人工成本大大降低，同时抛光效率也会更高。
平面抛光设备

[发明专利]自动化球面抛光设备抛光平面的方法-CN202310523301.1在审
发明人：周立博 -专利权人：北京创思工贸有限公司
申请日： 2023-05-10 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明涉及抛光领域，提供一种自动化球面抛光设备抛光平面的方法，其中，自动化球面抛光设备抛光平面的方法，包括：对光学零件的平面进行一级抛光，使平面的光圈为凹圈；对平面进行二级抛光，使平面的光圈缩小至第一预设值；对平面进行三级抛光，使平面的光圈缩小至第二预设值，并控制面型误差为第三预设值。用以解决现有技术中抛光效率低且价格高的缺陷，本发明提供的自动化球面抛光设备抛光平面的方法，通过采用自动化球面抛光设备对光学零件的平面依次进行一级抛光、二级抛光和三级抛光，达到逐步对光学零件平面的光圈进行缩小，最后达到符合要求的光圈值和面型误差值，提高平面的抛光效率。
自动化球面抛光设备平面方法

[发明专利]定盘、抛光设备和抛光方法-CN202211707091.3在审
发明人：贺云鹏;王贺 -专利权人：西安奕斯伟材料科技有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B24B41/047 文献下载
摘要：本公开涉及定盘、抛光设备和抛光方法，该定盘用于抛光设备，定盘包括用于在其上附接用以对硅片进行抛光的抛光垫的定盘平面，定盘平面包括可升降部分，可升降部分能够相对于定盘平面升起及下降，以使得在硅片的抛光过程中抛光垫的与硅片的边缘对应的第一部分能够在与定盘平面垂直的方向上低于抛光垫的与硅片的中央区域对应的第二部分通过本公开的定盘、抛光设备和抛光方法，实现了对硅片表面平坦度的改善。
抛光设备方法

[发明专利]定盘、抛光设备和抛光方法-CN202211707177.6在审
发明人：贺云鹏;王贺 -专利权人：西安奕斯伟材料科技有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： B24B41/047 文献下载
摘要：本公开涉及定盘、抛光设备和抛光方法，该定盘用于抛光设备并且包括用于在其上附接用以对硅片进行抛光的抛光垫的定盘平面，定盘平面包括凹槽，凹槽在其内部设置有气道，气道能够在凹槽内提供气压，使得在硅片的抛光过程中，附接在定盘平面上的抛光垫的与硅片的边缘对应的第一部分能够在与定盘平面垂直的方向上低于抛光垫的与硅片的中央区域对应的第二部分。通过本公开的定盘、抛光设备和抛光方法，实现了对硅片表面平坦度的改善。
抛光设备方法

[实用新型]双平面抛光设备-CN201821628023.7有效
发明人：袁巨龙;邓乾发;王金虎;王加才;张万辉;陈芝向 -专利权人：杭州智谷精工有限公司
申请日： 2018-10-08 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：双平面抛光设备，包括上抛光盘、下抛光盘及行星轮保持架，上抛光垫通过连接剂与上抛光盘连接，下抛光垫通过连接剂与下抛光盘连接；所述上抛光盘上方通过连接杆连接有支撑板，所述支撑板上设有抛光液储蓄池，所述上抛光盘上设有抛光液出液孔；所述抛光液出液孔的上端安装有真空发生器，真空发生器内部的真空发生室与抛光液出流管一端相连通，所述抛光液出流管的另一端与抛光液储蓄池相连通，真空发生器内部的喷射嘴的进口处设有节流阀，节流阀通过管路与气源相连接本实用新型可以在加工过程中快速送液，有效地避免上抛光盘堵塞以及抛光液的沉积，同时可以快速清洗上下抛光盘机构，清洗速度快，效果好。
抛光盘抛光液真空发生器抛光设备出流管出液孔储蓄池节流阀连接剂抛光垫双平面支撑板行星轮保持架本实用新型连接杆连接真空发生室快速清洗进口处喷射嘴有效地上端气源送液沉积连通清洗堵塞

[外观设计]平面施工抛光设备-CN201930330391.7有效
发明人：冯正鑫;李春林;胡廷娈 -专利权人：遵义师范学院
申请日： 2019-06-25 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：平面施工抛光设备。;2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于平面施工中对底面或者墙面进行打磨抛光。;3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
平面施工抛光设备

[发明专利]钢琴油漆件平面抛光设备及其抛光方法-CN201811560468.0在审
发明人：陈日明;徐伟雄;徐洁瑞;林启东;黄耿志 -专利权人：广州珠江恺撒堡钢琴有限公司
申请日： 2018-12-20 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明涉及钢琴油漆件平面抛光设备，包括机架、工作台面、抛光单元、擦蜡精抛单元、喷蜡单元、控制系统；固定油漆件的工作台面安装在机架上，喷蜡单元安装在抛光单元内；抛光单元相对于工作台面平移，正对或离开工作台面；擦蜡精抛单元相对于工作台面平移，正对或离开工作台面；抛光单元包括多组可独立自转的抛光布轮，多组抛光布轮在同一水平面上环绕圆周设置，围绕着设置在圆周中心的转轴在水平面上转动。本发明还涉及钢琴油漆件平面抛光设备的抛光方法。本发明抛光质量高、加工效率高、自动化程度高，属于钢琴加工技术领域。
工作台面抛光单元平面抛光设备钢琴油漆件抛光平移抛光布轮精抛喷蜡正对加工技术领域单元安装加工效率控制系统同一水平圆周设置圆周中心油漆件转轴自转转动钢琴环绕自动化

[发明专利]抛光设备的抛光平面度控制方法、装置和抛光设备-CN201710774883.5有效
发明人：张敬业;路新春;沈攀;王同庆 -专利权人：清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
申请日： 2017-08-31 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光设备的抛光平面度控制方法、装置和抛光设备。该方法包括以下步骤：对抛光设备所加工的晶圆的多个施压区域分别施加对应的抛光压力以进行抛光处理；获取多个施压区域中每个施压区域的抛光厚度，并获取抛光时间；根据每个施压区域的抛光厚度和抛光时间计算每个施压区域的实际去除速率；根据每个施压区域的实际去除速率和对应的基准去除速率计算每个施压区域的去除速率漂移量；根据每个施压区域的去除速率漂移量调整抛光液的落点位置。根据本发明的抛光设备的抛光平面度控制方法，可以延长抛光垫的使用周期、提高抛光设备的使用效率、降低生产成本、提高晶圆的良品率，且简单有效、稳定性高。
抛光设备平面控制方法装置

[发明专利]一种超薄电子玻璃的精细抛光设备及精细抛光方法-CN201410833462.1在审
发明人：杨德宁 -专利权人：杨德宁
申请日： 2014-12-18 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： B24B7/06 文献下载
摘要：本发明提出了一种超薄电子玻璃的精细抛光设备，其包括用于抛光超薄电子玻璃的抛光机械、抛光液系统、传动带、动力系统、平面托板，所述抛光机械位于所述传动才的上方，所述动力系统带动传动带，所述平面托板位于所述传动带的下方并位于所述抛光机械的下方此外，还包括升降装置，该升降装置用于带动所述平面托板上下移动，所述传动带运动方向的尾部安装有吹气装置。本发明还提出了一种超薄电子玻璃的精细抛光方法，其采用该精细抛光设备对超薄电子玻璃进行抛光。
一种超薄电子玻璃精细抛光设备方法

[发明专利]一种平面零件全口径确定性抛光的摇臂式抛光装置和方法-CN202010202480.5有效
发明人：周平;耿志超;闫英;王林;王凯;郭东明 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2020-03-20 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种平面零件全口径确定性抛光的摇臂式抛光装置和方法，所述装置包括控制系统、基座、升降板、抛光模块和测量模块；抛光模块和测量模块均位于基座上；升降板位于抛光模块和测量模块之间；抛光模块包括摇臂机构、抛光垫表面修整机构、抛光垫面形测量装置和环形抛光工具盘机构；测量模块包括平面零件面形自动化测量装置和机械臂机构。本发明充分考虑了平面零件的具体面形，通过控制平面零件表面材料去除率分布函数，使平面零件表面材料去除率分布函数和平面零件面形成归一化后的镜像对称关系，实现平面零件的确定性抛光，保证了平面零件面形在抛光过程中的高效收敛本发明采用低成本的作业方式完成高精度的抛光过程，降低了设备成本。
一种平面零件口径确定性抛光摇臂装置方法

[发明专利]一种全口径低缺陷平面工件的加工设备及方法-CN201911326584.0在审
发明人：谢磊;何祥;黄金勇;高胥华;郑俊锋;姜创;王刚;蔡超;赵恒;胡庆 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种全口径低缺陷平面工件的加工设备，包括：表面设有用以供工件抛光加工的抛光模层的转台；用以带动工件自转实现抛光并能够使工件沿着抛光模层的表面摆动以防止工件表面产生环形痕迹的偏摆式平面抛光装置；用以过滤抛光液并能够向抛光模层的表面输送预设温度的抛光液的抛光液循环过滤装置；设于转台的外部、用以当工件抛光时控制空气的洁净度和湿度以提高工件表面质量的空气控制装置。本发明还公开了一种应用于上述全口径低缺陷平面工件的加工设备的加工方法。上述全口径低缺陷平面工件的加工设备可以解决由于工件加工精度和表面质量不能同时达标所造成的反复加工，从而可以提高工件全口径加工质量及加工效率。
一种口径缺陷平面工件加工设备方法

[发明专利]一种用于双面电化学机械抛光平面构件的设备及方法-CN201810602821.0有效
发明人：康仁科;朱祥龙;郭江;董志刚;金洙吉;吴頔 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2018-06-08 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：本发明属于电化学机械抛光领域，涉及一种用于双面电化学机械抛光平面构件的设备及方法，可应用于导电材料平面构件的低应力、高效抛光。本发明的设备包括双面研磨装置、电化学机械抛光垫、导电夹持装置、电源供应部、电解液供应部。利用游星片连接电源正极和平面构件，通过上下阴极层和抛光垫中的电解液将电源的负极与导电平面构件相连，从而构成回路实现双面电化学机械抛光。本发明可以用于导电平面构件的双面平坦化，具有材料去除率更高、电路稳定、排液顺畅、反应稳定、结构简单、装配方便、修形能力提高等优点。
电化学机械抛光导电平面平面构件电解液导电材料平面导电夹持装置双面研磨装置正极材料去除率电源供应部和平面构件电路稳定连接电源修形能力装配方便负极抛光低应力供应部抛光垫平坦化阴极层游星片排液电源应用

[实用新型]一种顶针表面抛光设备-CN202221581151.7有效
发明人：江建萍;王武 -专利权人：江西中匠精密机械有限公司
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种抛光设备，尤其涉及一种顶针表面抛光设备。本实用新型提供一种不需要手动对顶针进行抛光，且能够减少顶针内平面受到的磨损的顶针表面抛光设备。本实用新型提供了这样一种顶针表面抛光设备，包括有外壳、滑动板、固定架、电机、转轴和打磨块等；外壳外左右两侧均开有滑槽，两个滑槽之间滑动式连接有滑动板，滑动板顶部连接有固定架，固定架上安装有电机，电机的输出轴上通过联轴器连接有转轴通过电机运作使得打磨块转动对顶针内平面进行打磨，从而不需要人工使用工具对顶针内平面进行抛光，同时在打磨块的作用下，进而能够防止顶针内平面受到磨损。
一种顶针表面抛光设备

[发明专利]去毛刺倒角抛光平面打磨大型设备-CN202011209422.1在审
发明人：郭飚;贾永安 -专利权人：宁波三葵研磨材料有限公司
申请日： 2020-11-03 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： B24B5/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种去毛刺倒角抛光平面打磨大型设备，包括：输送带组件，用于输送工件。机架，横跨于所述输送带组件的上方。去毛刺倒角抛光打磨装置，活动安装于所述机架，所述去毛刺倒角抛光打磨装置包括平面砂轮，所述平面砂轮包括平面状的打磨面。至少一组平面打磨装置，滑动连接于机架并与去毛刺倒角抛光打磨装置间隔设置，所述平面打磨装置相对于去毛刺倒角抛光打磨装置处于输送带组件的输出方向，所述平面打磨装置包括磨砂轮。去毛刺倒角抛光打磨装置和至少一组平面打磨装置向输送带组件方向移动并打磨工件，工件随着输送带组件移动使得整体被去毛刺倒角抛光打磨装置和至少一组平面打磨装置所连续磨削，磨削强度可调控、范围广且稳定性好。
毛刺倒角抛光平面打磨大型设备

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