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[发明专利]有机EL设备的制造方法及薄膜密封结构形成装置-CN202210524843.6在审
发明人：鸣泷阳三;岸本克彦 -专利权人：堺显示器制品株式会社
申请日： 2017-06-13 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：有机EL设备的制造方法包括在基板上形成驱动电路层的工序；在驱动电路基板上形成无机保护层的工序；在无机保护层上形成有机平坦化层的工序；在有机平坦化层上形成有机EL元件层的工序在形成有机平坦化层之后、形成有机EL元件层的工序之前，不包括将有机平坦化层加热至200℃以上的工序。
有机 el 设备制造方法薄膜密封结构形成装置

[发明专利]OLED显示面板及其制作方法-CN202011077969.0在审
发明人：张乐陶 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-10-10 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：一种OLED显示面板及其制作方法，所述OLED显示面板沿第一方向依次层叠设置有：衬底基板以及沉积在所述衬底基板一侧的多个膜层；其中，平坦层包括：第一平坦层，用于初步平坦化阵列基板；第二平坦层，用于进一步平坦化所述阵列基板；所述第一平坦层与所述第二平坦层的材料相异；有益效果为：首先，本申请提供的OLED显示面板，在不增加平坦层总厚度的情况下，设置两层不同材料的平坦化层，以充分提高所述平坦层的平坦性；然后，本申请提供的OLED
oled 显示面板及其制作方法

[发明专利]阵列基板及其制备方法和显示装置-CN201910222391.4有效
发明人：程磊磊;苏同上;王庆贺;李广耀;宋威;刘宁;张扬;黄勇潮 -专利权人：合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-03-22 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：该阵列基板包括第一电极层，第一电极层可以包括氧化铟锡层与平坦化层，氧化铟锡层设置在一基板之上，包括颗粒状氧化铟锡；平坦化层设于氧化铟锡层远离基板的一侧，且平坦化层填充至少部分所述颗粒状氧化铟锡之间的间隙，平坦化层能够导电。对阵列基板中第一电极层中的氧化铟锡进行颗粒化处理形成颗粒化氧化铟锡，形成微腔，在颗粒状氧化铟锡远离基板的一侧设置有能够导电的平坦化层，平坦化层与氧化铟锡层构成第一电极层，利用微腔效应解决了现有技术中有机发光层与第一电极层之间的光波导效应
阵列及其制备方法显示装置

[发明专利]显示面板及制作方法-CN201811550109.7有效
发明人：王傲 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-12-18 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：包括：阵列基板、平坦化层、像素定义层、有机发光器件以及设置在所述平坦化层与所述像素定义层之间用以阻隔水氧的无机层。其中，所述薄膜晶体管的第一层间介质层、所述平坦化层以及所述无机层组成所述阵列基板的封装结构。本申请通过在平坦化层和像素定义层之间新增一道用于阻隔水氧的无机层，使得第一层间介质层、平坦化层以及无机层组成位于所述发光层底部的封装结构，能够避免水氧通过发光层的底部入侵有机发光器件，进而提升了有机发光器件的使用寿命
显示面板制作方法

[发明专利]一种显示面板、其制备方法以及显示装置-CN202010127407.6有效
发明人：徐乾坤;张晓星 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-02-28 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：所述显示面板包括衬底层、位于所述衬底层上的薄膜晶体管层、位于所述薄膜晶体管层上且阵列分布的平坦化区块、位于所述平坦化区块的间隙内的像素定义层。由于相邻的平坦化区块之间具有一定的间隙，从而使得平坦化区块可达到较高的平坦度。
一种显示面板制备方法以及显示装置

[发明专利]显示基板、显示装置以及制作显示基板的方法-CN201910542427.7在审
发明人：王国英;宋振 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2019-09-06 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：显示基板包括平坦化层；位于平坦化层上的像素定义层，其中像素定义层包括开口和挡墙；位于平坦化层上和开口之内的第一电极；位于开口之内且与第一电极电连接的发光部；位于像素定义层的挡墙上的辅助电极；位于第一电极与辅助电极之间的绝缘部该制作显示基板的方法包括：形成平坦化层；在平坦化层上形成像素定义层，其中像素定义层包括开口和挡墙；同时在像素定义层的挡墙上形成辅助电极并在平坦化层的对应于开口的部分上形成第一电极；在辅助电极和第一电极之间形成绝缘部
像素定义层第一电极辅助电极平坦化层显示基板发光部开口第二电极显示装置绝缘部挡墙制作电连接覆盖

[发明专利]半导体装置及其制备方法-CN202210797966.7在审
发明人：钟艾东 -专利权人：东莞市中器集成电路有限公司;东莞市中镓半导体科技有限公司
申请日： 2022-07-06 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： H01L23/528 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体装置及其制备方法，半导体装置包括：半导体器件结构；钝化层；第一平坦化层，覆盖于钝化层上，第一平坦化层和钝化层在半导体器件结构的电极上方具有镂空窗口；金属互联层，位于第一平坦化层的上表面，并通过镂空窗口与半导体器件结构的电极相连；导热体，位于金属互联层之上并与金属互联层接触，导热体包括主柱体及连接体；第二平坦化层，导热体穿透第二平坦化层而显露于第二平坦化层之上。
半导体装置及其制备方法

[发明专利]超平滑层紫外线光刻镜及坯料与其制造及光刻系统-CN201480010996.2有效
发明人：苏梅德拉·N·巴曼;卡拉·比斯利;阿布海杰特·巴苏·马利克;拉尔夫·霍夫曼;妮琴·K·英吉 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-03-13 - 公布日： 2018-05-15 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种极紫外线镜或坯料生产系统包括：第一沉积系统，用于在半导体基板之上沉积平坦化层；第二沉积系统，用于在该平坦化层之上沉积超平滑层，该超平滑层具有经重组的分子；以及第三沉积系统，用于在该超平滑层之上沉积多层堆叠物该极紫外线坯料包括：基板；该基板之上的平坦化层；该平坦化层之上的超平滑层，该超平滑层具有经重组的分子；多层堆叠物；以及该多层堆叠物之上的覆盖层。一种极紫外线光刻系统包括：极紫外线光源；镜，用于导引来自该极紫外线光源的光；中间掩模台，用于置放带有平坦化层和在该平坦化层之上的超平滑层的极紫外线掩模坯料；以及晶片台，用于置放晶片。
平滑紫外线光刻坯料与其制造系统

[实用新型]半导体装置-CN202221745294.7有效
发明人：钟艾东 -专利权人：东莞市中器集成电路有限公司;东莞市中镓半导体科技有限公司
申请日： 2022-07-06 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： H01L23/528 文献下载
摘要：本实用新型提供一种半导体装置，半导体装置包括：半导体器件结构；钝化层；第一平坦化层，覆盖于钝化层上，第一平坦化层和钝化层在半导体器件结构的电极上方具有镂空窗口；金属互联层，位于第一平坦化层的上表面，并通过镂空窗口与半导体器件结构的电极相连；导热体，位于金属互联层之上并与金属互联层接触，导热体包括主柱体及连接体；第二平坦化层，导热体穿透第二平坦化层而显露于第二平坦化层之上。
半导体装置

[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置-CN202210439394.5在审
发明人：徐攀 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-11-14 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：该显示基板包括：背板；在背板一侧的晶体管层；在晶体管层的远离背板一侧的第一平坦化层；在第一平坦化层的远离晶体管层一侧的辅助阴极层；在辅助阴极层的远离第一平坦化层一侧的第二平坦化层；以及在第二平坦化层的远离辅助阴极层一侧的发光元件层发光元件层包括主阴极层。主阴极层与辅助阴极层电连接。在本公开中，辅助阴极层被设置在背板一侧，可以减小在制造过程中对发光元件的损伤。
显示及其制造方法显示装置

[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置-CN201911111276.6有效
发明人：徐攀 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-11-14 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H10K50/824 文献下载
摘要：该显示基板包括：背板；在背板一侧的晶体管层；在晶体管层的远离背板一侧的第一平坦化层；在第一平坦化层的远离晶体管层一侧的辅助阴极层；在辅助阴极层的远离第一平坦化层一侧的第二平坦化层；以及在第二平坦化层的远离辅助阴极层一侧的发光元件层发光元件层包括主阴极层。主阴极层与辅助阴极层电连接。在本公开中，辅助阴极层被设置在背板一侧，可以减小在制造过程中对发光元件的损伤。
显示及其制造方法显示装置

[发明专利]半导体装置及其制造方法-CN200680050353.6有效
发明人：福岛康守;高藤裕;竹井美智子;富安一秀 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2006-10-13 - 公布日： 2009-01-21 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：进行在形成有元件隔离区域的第二区域的至少一部分平坦区域以相等的厚度形成第一平坦化膜的第一平坦化膜形成工序、在第一平坦化膜之间形成具有与第一平坦化膜的表面相接的平坦表面的第二平坦化膜的第二平坦化膜形成工序、通过第一平坦化膜或第二平坦化膜将剥离用物质离子注入到基体层中来形成剥离层的剥离层形成工序、以及沿着剥离层将基体层的一部分分离的分离工序。
半导体装置及其制造方法

[发明专利]化学机械平坦化的方法-CN202010419282.4在审
发明人：粘博钦;黄罡;洪伟伦 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：一种化学机械平坦化的方法，包括在基板上方形成膜层，增加膜层的表面粗糙度，以及在增加表面粗糙度之后，使用第一化学机械平坦化制程将膜层平坦化。
化学机械平坦方法

[发明专利]一种发光二极管、显示面板、显示装置及制备方法-CN202210072135.3有效
发明人：谢峰;岳大川 -专利权人：季华实验室
申请日： 2022-01-21 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： H01L33/44 文献下载
摘要：发光二极管包括发光元件、平坦化层、光路调节层和透镜层；平坦化层位于发光元件和透镜层之间；光路调节层设置在平坦化层内；光路调节层包括第一光路调节层和第二光路调节层，第一光路调节层和第二光路调节层在平坦化层内形成V型结构；第一光路调节层所在平面和第二光路调节层所在平面均与发光元件所在平面具有预设夹角；第一光路调节层以及所第二光路调节层的折射率大于平坦化层的折射率。本公开通过在平坦化层内设置光路调节层，光路调节层可以调整光线出射的方向，实现光线准直的效果。
一种发光二极管显示面板显示装置制备方法

[发明专利]显示基板及其制作方法和显示装置-CN202180001259.6在审
发明人：石博;于池;黄炜赟;龙跃;蔡建畅 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：显示基板包括：衬底基板；第一导电元件，位于所述衬底基板上；第一平坦化层，位于所述第一导电元件上；第二导电元件，位于所述第一平坦化层上，并通过贯穿所述第一平坦化层的第一过孔与所述第一导电元件相连；第二平坦化层，位于所述第二导电元件上；以及导电线，位于所述第二平坦化层上；所述第二导电元件在所述第一过孔处凹陷，所述第二平坦化层具有不透光部，所述第一过孔在所述衬底基板上的正投影落入所述不透光部在所述衬底基板上的正投影内
显示及其制作方法显示装置