专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]搜索方法、可读存储介质和电子设备-CN201910630478.5在审
  • 谢超;竺知茹;易小萌 - 上海赜睿信息科技有限公司
  • 2019-07-12 - 2021-01-12 - G06F16/58
  • 本发明实施例公开了一种搜索方法、可读存储介质和电子设备,所述方法基于中央处理器(CPU)和图形处理器(GPU)构成的异构计算机架构对数据进行搜索,实现了搜索时根据属性标签对数据进行筛选,且利用了图形处理器并行加速的优势,避免了在图形处理器中做数据处理时因数据规模庞大产生的性能瓶颈。同时构建了一个包括在中央处理器中数据筛选步骤和由中央处理器至图形处理器数据传输步骤的流水线,通过流水线内各部件并行的进行数据筛选,传输和计算搜索操作,有效的掩盖在中央处理器中对数据进行筛选及拷贝所产生的额外开销
  • 搜索方法可读存储介质电子设备
  • [发明专利]半导体结构及其制备方法-CN202110790812.0在审
  • 刘浩 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2021-07-13 - 2021-10-19 - H01L21/8242
  • 本发明涉及一种半导体结构及其制备方法,包括:提供基底,所述基底中形成有浅槽隔离结构,浅槽隔离结构于基底内隔离出若干个间隔排布的有源区;于基底上形成图形化掩膜结构;图形化掩膜结构包括自基底向上依次层叠的第一掩膜层及第二掩膜层;进行刻蚀工艺,以使第一掩膜层的侧壁内凹;基于图形化掩膜结构对基底进行图形化处理,以于基底内形成暴露出有源区的位线接触孔;于位线接触孔中形成位线接触结构。
  • 半导体结构及其制备方法
  • [发明专利]一种盲道识别导航系统及方法-CN202110823299.0在审
  • 贺涛 - 重庆蓝岸通讯技术有限公司
  • 2021-07-21 - 2021-11-12 - G01C21/00
  • 本发明公开了一种盲道识别导航系统,包括盲人鞋和导航设备,盲人鞋和导航设备通信连接;盲人鞋包括盲道图形存储模块、压力传感器组和信号处理模块;压力传感器组阵列分布在盲人鞋的鞋底;图形存储模块内存储有盲道图形特征;信号处理模块分别与图形存储模块和压力传感器组电连接,信号处理模块用于识别盲人鞋是否走在盲道上;导航设备包括地图存储模块、路线分析模块和提醒模块;地图存储模块用于存储地图数据;路线分析模块用于分析当前盲道是否为断路或死路
  • 一种盲道识别导航系统方法

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