专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]垂直发射激光阵列-CN202122220410.5有效
  • 李浩 - 无锡神州高芯科技有限公司
  • 2021-09-14 - 2022-01-04 - H01S5/183
  • 本实用新型公开了一种垂直发射激光阵列,属于垂直发射激光技术领域。解决了现有技术存在的功率转换效率、输出功率和出光均匀性较差的技术问题。该垂直发射激光阵列,包括半导体层及形成于一个半导体层上的若干阵列单元,每个阵列单元均存在氧化沟槽、台面、环以及出光面,出光面存在有电极,台面中设有氧化层,氧化层内存在出光孔,阵列单元中至少部分阵列单元的氧化沟槽、台面、环、电极四者中的任意一者或多者的形状为不规则形状以使出光孔的形成不规则形状,至少一部分阵列单元中不同的阵列单元的出光孔的形状彼此不同。本实用新型用于提高垂直发射激光阵列的功率转换效率、输出功率和出光均匀性。
  • 垂直发射激光器阵列
  • [发明专利]高均匀结温分布的垂直发射激光阵列-CN202011554812.2有效
  • 金冬月;潘永安;张万荣;杨绍萌;贾晓雪;周钰鑫;雷鑫;杨滢齐 - 北京工业大学
  • 2020-12-24 - 2022-03-29 - H01S5/042
  • 本发明提供高均匀结温分布的垂直发射激光阵列,包括:多个垂直发射激光单元;对于任意两个垂直发射激光单元,第一垂直发射激光单元的注入电流大于第二垂直发射激光单元的注入电流;其中,任意两个垂直发射激光单元中,第一垂直发射激光单元与垂直发射激光阵列中心的距离,大于第二垂直发射激光单元与垂直发射激光阵列中心的距离。本发明实施例提供的高均匀结温分布的垂直发射激光阵列,可在不改变各个垂直发射激光单元原有台面排布的基础上,实现在较大偏置范围内对垂直发射激光阵列中结温分布均匀性的有效改善,进而提高其输出光束质量
  • 均匀分布垂直发射激光器阵列
  • [发明专利]出光功率均匀的垂直发射激光阵列及其制造方法-CN202011329497.3有效
  • 金冬月;杨绍萌;张万荣;那伟聪;吴玲;杨滢齐 - 北京工业大学
  • 2020-11-24 - 2022-02-11 - H01S5/068
  • 本发明实施例提供一种出光功率均匀的垂直发射激光阵列及其制造方法,该阵列包括:多个垂直发射激光单元;对于任意两个垂直发射激光单元,第一垂直发射激光单元的电阻大于第二垂直发射激光单元的电阻;其中,任意两个垂直发射激光单元中,第一垂直发射激光单元与垂直发射激光阵列中心的距离,小于第二垂直发射激光单元与垂直发射激光阵列中心的距离。本发明实施例提供的出光功率均匀的垂直发射激光阵列及其制造方法,在垂直发射激光单元高度集成、不增大阵列的面积和不改变台面排布设计的基础上,能有效改善阵列的结温分布不均,并且能提高出光功率的均匀性和稳定性
  • 功率均匀垂直发射激光器阵列及其制造方法
  • [实用新型]激光照明装置-CN201420504450.X有效
  • 咸洋 - 咸洋
  • 2014-09-03 - 2015-01-07 - F21S2/00
  • 本实用新型公开了一类激光照明装置,包括垂直发射激光阵列散热单元和电控单元,以及在垂直发射激光阵列光轴方向上放置的透光介质。散热单元除固定垂直发射激光阵列的作用外,可以保证垂直发射激光阵列正常工作时的有效散热。所述电控单元可以控制垂直发射激光阵列的开关及激光发光功率。垂直发射激光阵列光轴方向上的透光介质,可以改变激光发射的角度,满足不同照明角度的需要。该实用新型解决了现有激光照明技术中半导体激光光斑需要先进行匀化整形处理,导致光功率损耗,以及垂直发射激光照明装置照明角度单一的问题。
  • 激光照明装置
  • [发明专利]倒装芯片底发射垂直发射激光封装及其制作方法-CN201911383033.8在审
  • 鲍益勤 - 欧比克半导体公司
  • 2019-12-27 - 2020-06-30 - H01S5/183
  • 本发明公开了一种倒装芯片底发射垂直发射激光封装及其制作方法,其包含:形成一垂直发射激光阵列;对垂直发射激光阵列涂布一介电层,介电层填满柱体之间的沟槽,形成垂直发射激光阵列并覆盖柱体;对垂直发射激光阵列进行平面化,以移除覆盖柱体的介电层,使得柱体一顶表面曝露出一金属层;于柱体一顶表面上的金属层涂布一金属涂层,金属涂层定义垂直发射激光阵列的一接触图案;以及,在金属涂层上涂布焊料以将垂直发射激光阵列倒装到一基板封装上本发明可以消除连接线及连接垫的需求,以减少倒装芯片垂直发射激光的面积,以及简化后续的光刻及金属相关制程。
  • 倒装芯片发射垂直激光器封装及其制作方法
  • [发明专利]垂直发射激光阵列结构及其制备方法-CN202111642224.9在审
  • 关宝璐;闻燕;张晓昱;王宏卓;叶文轩 - 北京工业大学
  • 2021-12-29 - 2022-04-26 - H01S5/062
  • 本发明涉及半导体激光技术领域,提供一种垂直发射激光阵列结构及其制备方法,垂直发射激光阵列结构由上至下依次包括偏振选择结构、液晶模块和垂直发射激光本体,偏振选择结构能够进行单偏振和偏振调控输出,以获得高正交偏振抑制比的偏振开关功能;液晶模块包括与垂直发射激光本体相对设置的玻璃基板,以及位于所述玻璃基板和所述垂直发射激光本体之间的衬垫,以及由所述玻璃基板、所述垂直发射激光本体和所述衬垫组成的液晶室,液晶填充在所述液晶室内;垂直发射激光本体用于发射线偏振光。本发明能够解决现有技术中激光阵列偏振特性差、偏振调控效率低等缺陷,实现光偏振稳定且开关可调。
  • 垂直发射激光器阵列结构及其制备方法
  • [实用新型]一种光源模组、结构化光生成器以及深度相机-CN202220533827.9有效
  • 朱瑞;朱健;郝成龙;谭凤泽 - 深圳迈塔兰斯科技有限公司
  • 2022-03-11 - 2022-07-05 - G02B27/09
  • 本实用新型提供了一种光源模组、结构化光生成器以及深度相机,其中,该光源模组包括:垂直发射激光阵列以及超透镜阵列垂直发射激光阵列包括多个垂直发射激光单元,垂直发射激光单元用于发射高斯光束;超透镜阵列包括多个与垂直发射激光单元一一对应的超透镜单元,超透镜阵列设置于垂直发射激光阵列的出光侧,且超透镜单元用于将高斯光束整形为平顶光束。通过本实用新型实施例提供的光源模组、结构化光生成器及深度相机,使用超透镜阵列作为调整高斯光束的工具的光源模组,不仅能很好地实现将高斯光束调整为平顶光束解决像素过曝问题,还具备了质量轻、整体厚度薄、系统简单
  • 一种光源模组结构生成器以及深度相机

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