专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种雾滴采集布方法及装置-CN202011376745.X有效
  • 兰玉彬;常坤;刘圣搏;陈盛德;展义龙;邱幸妍;林泽山;钟万强 - 华南农业大学
  • 2020-11-30 - 2022-07-05 - G01N1/20
  • 本发明公开一种雾滴采集布方法及装置,该装置包括支撑柱和布模块;所述支撑柱至少设有三个;所述布模块包括主布模块、副布模块以及辅助布模块,所述主布模块包括两个激光发射器,两个激光发射器的发射方向相互垂直;所述副布模块包括一个激光发射器和一个激光接收器,所述副布模块的激光发射器的发射方向与副布模块的激光接收器的接收方向垂直;所述辅助布模块包括一个激光接收器;所述布模块、副布模块和辅助布模块还包括用于夹持在支撑柱上的第一夹持机构和用于对采集雾滴的试验仪器进行夹持的第二夹持机构
  • 一种雾滴采集方法装置
  • [发明专利]一种发射阵列阴极的制备方法-CN201810589022.4有效
  • 王小菊;韩欣延;李茂想;祁康成;曹贵川;季子颉 - 电子科技大学
  • 2018-06-08 - 2020-10-23 - H01J9/02
  • 一种发射阵列阴极的制备方法,属于阴极发射技术领域。本发明将发射阴极基片安装在切割机上,并设定切割参数得到棱形发射体形成的初始发射体阵列,再进一步对所得发射体进行刻蚀,形成尖锥状发射体,从而制得发射阴极尖锥阵列。本发明结合机械加工技术和刻蚀技术制备发射阵列阴极,相比现有光刻技术结合刻蚀技术简化了工艺流程,降低了生产制作成本;同时通过得到调整机械加工参数及刻蚀工艺参数,能够得到不同阵列大小、阵列高度和阵列间距的发射阵列阴极,制备工艺可控性强,同时避免使用有毒有害的试剂,顺应当代绿色、环保的理念;本发明制备方法重复性良好,有利于发射阵列阴极的推广应用。
  • 一种发射阵列阴极制备方法
  • [发明专利]用于在符号体系读取器中采用彩色照明和颜色过滤的系统和方法-CN200680048946.9无效
  • L·W·纳恩尼克 - 科格内克斯科技和投资公司
  • 2006-10-19 - 2009-01-14 - G06K7/10
  • 本发明提供了一种用于利用和分析图像的系统和方法,其中,根据所采用的照明类型采用不同的颜色为所述图像提供照明。在示范性实施例中,采用彩色图像传感器获取感兴趣对象的图像,并且向所述表面上同时(彼此并行地)发射能够由所述传感器分立地识别的分立照明颜色的直接明、暗场和漫射照明中的每个。例如,直接明和暗场可以是红色的,而漫射可以是蓝色的。图像传感器中的具有相同灵敏度的像素(例如,红色和蓝色的)只接收由该颜色的照明生成的图像。本发明的读取器包括处理部件,其独立组合来自红色和蓝色像素地址的图像,从而实际上创建两幅同时存在的完美重叠(相对于彼此配准)的图像(一幅图像是采用暗场和直接明的组合生成的,另一幅图像是采用漫射照明生成的
  • 用于符号体系读取器采用彩色照明颜色过滤系统方法
  • [实用新型]X光管-CN201220748145.6有效
  • 柳鹏;杜秉初;周段亮;张春海;范守善 - 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
  • 2012-12-29 - 2013-08-28 - H01J35/06
  • 本实用新型涉及一种X光管,包括一腔体、一发射阴极装置和一阳极,所述腔体内部形成真空,所述发射阴极装置射出的电子束射到阳极上形成X射线,所述发射阴极装置和阳极间隔设置在所述腔体的内部,所述发射阴极装置包括至少一发射结构,每一发射结构包括一第一金属板、一层状电子发射体及一第二金属板,所述层状电子发射体固定于所述第一金属板与所述第二金属板之间,该层状电子发射体的一端延伸出第一金属板和第二金属板,作为电子发射端。
  • X光管
  • [实用新型]一种显微镜双模式照明-CN202223441850.4有效
  • 童晓春 - 南京东图数码科技有限公司
  • 2022-12-22 - 2023-05-05 - G02B21/06
  • 本实用新型提供一种显微镜双模式照明器,包括一个明照明光路和一个偏光照明光路,所述明照明光路和偏光照明光路安装在一个室内,所述明照明光路和偏光照明光路呈90度安装,所述明照明光路包括明照明光源和第一聚光镜,所述偏光照明光路包括偏光照明光源、第二聚光镜和偏振镜,所述明照明光路和偏光照明光路的光路输出端经过45°的分光器输出至照明样品表面,明和偏光的切换通过控制明照明光源和偏光照明光源启动和熄灭实现。本实用新型双模式照明器的使用,能迅速切换明照明和偏光照明,无需手动,没有噪音和震动。本显微镜双模式照明器可以使用计算机控制,实现显微镜系统自动化和智能化。
  • 一种显微镜双模明器
  • [发明专利]逸出功的测量方法-CN200610061641.3在审
  • 魏巍;姜开利;范守善 - 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
  • 2006-07-14 - 2008-01-16 - G01N33/00
  • 本发明涉及一种逸出功的测量方法,其包括以下步骤:提供一个碳纳米管发射电子源作为阴极和一个与该阴极相隔预定距离设置的阳极;在真空环境下施加电压于该场发射电子源并测量其发射电流-电压曲线;在该碳纳米管发射电子源的碳纳米管表面形成一层待测逸出功的发射材料;在与上述距离相同的条件下测量形成有待测发射材料层的碳纳米管发射电子源的电流-电压曲线;根据福勒-诺德汉方程,依据测得的电流-电压曲线图可得到场发射电子源发射电子的福勒-诺德汉曲线示意图,并进一步得到待测发射材料的逸出功
  • 逸出功测量方法

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