专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]数字发射智慧管理系统-CN202310405012.1在审
  • 胡星;匡敏驰;张晓涛;郭京京;余国义;崔彬 - 重庆信易源智能科技有限公司
  • 2023-04-14 - 2023-07-18 - G06Q10/0633
  • 本发明提供了数字发射智慧管理系统,属于管理技术领域。它解决了发射管理信息化、文档资料电子化、工作流程数字化的问题。数字发射智慧管理系统,包括岗位模块、用户模块、任务模块、文档模块、角色模块、模板模块、设备模块、数据工厂模块、数据分析模块。数字发射智慧管理系统在使用过程之中,可对发射场内的所有信息,进行数字化管理。实现发射工作流程管理的全信息化,同时数字发射智慧管理系统内所有操作均有留痕,可以追溯系统内所有人员操作,极大的提升发射管理效率。通过数字发射智慧管理系统内的数据分析功能,生成的数据驾驶舱界面可以有效利用起发射中所记录各个数据,帮助发射场内人员完成数据整合与利用的工作,实现发射的智能化管理。
  • 数字发射场智慧管理系统
  • [发明专利]发射器件-CN200410090325.X有效
  • 宋润镐;黄治善;金光福 - 韩国电子通信研究院
  • 2004-08-27 - 2005-03-23 - H01J3/02
  • 本发明公开了一种发射器件,包括:阴极,该阴极包括用于发射电子的电场发射极;用于感应电子发射发射感应栅极;和一个用于接收所发射的电子的阳极。发射抑制栅极位于阴极和发射感应栅极之间,以用于抑制电子发射,这样可以显著地克服在传统发射器件中的例如栅极漏电流、阳极电压引起的电子发射和电子束分散的问题。
  • 发射器件
  • [发明专利]基于微透镜阵列封装的LED匀化照明的通信发射系统-CN201410469538.7在审
  • 蓝天;刘浩杰;倪国强 - 北京理工大学
  • 2014-09-15 - 2015-01-28 - H04B10/116
  • 本发明提供了一种基于微透镜阵列封装的LED照明通信光源发射(天线)系统的设计方法,该设计方法主要用于照明或室内可见光通信传输的发射系统中。此系统采用多LED阵元芯片空间对称分布,首先对发射模型为朗伯辐射模型的LED光源的照明进行初步均匀整形,之后再经过微透镜阵列,得到光强的进一步均匀化处理,得到在一定的接收面积内光强变化不明显的光波或光信号整个系统对LED光源出射光束进行了重新分配,在照明需求下,避免了强光对眼睛的伤害以及避免了达不到照明要求的黑暗区的出现;在传输信号需求下,扩大了信号接收区域,避免信号盲区,并且微透镜制作方便,成本较低。
  • 基于透镜阵列封装led照明通信发射系统
  • [发明专利]一种晶圆检测装置-CN202310736210.6在审
  • 魏浩东;李延伟;吴天昊;王继周 - 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
  • 2023-06-20 - 2023-09-19 - G01N21/95
  • 本发明提供了一种晶圆检测装置,包括支撑框架、照明系统、棱镜组件、均光板组件和成像相机;照明系统设于所述支撑框架,且位于支撑框架的一侧,照明系统用于朝支撑框架的另一侧发射光线;支撑框架的另一侧设有开口,成像相机位于支撑框架的另一侧对应所述开口设置,用于接收从所述开口处发射出的光线并成像;所述棱镜组件和所述均光板组件均设于所述支撑框架,所述棱镜组件位于所述均光板组件的上方,所述照明系统发射的光线可依次通过所述棱镜组件和所述均光板组件照射在晶圆上,本发明提供的晶圆检测装置,空间尺寸较小,实现了明照明,降低了光源功率,提升了系统性能。
  • 一种检测装置
  • [发明专利]一种处理阴极薄膜提高发射性能的工艺-CN201910554067.2有效
  • 欧阳威;吴翰;易春蓉;杜小霞 - 华东师范大学
  • 2019-06-25 - 2020-07-14 - H01J9/02
  • 本发明公开了一种处理阴极薄膜提高发射性能的工艺,该工艺通过使用不同种类的胶带以及改变胶带处理次数等参数来调控发射点,并使用砝码压实的手段让胶带和待处理发射阴极薄膜贴合更加紧密,最大限度地发挥出胶带处理改善发射性能的作用,达到改善阴极形貌、降低屏蔽效应并最终提高发射性能的目的。实验结果证实,本发明提出的工艺对提高发射性能有着极大的作用,再通过选择最优的胶带处理次数等工艺参数能有效地降低发射器件的开启和阈值电场强度,从而获得性能优异的发射器件。
  • 一种处理阴极薄膜提高发射性能工艺

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