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- [发明专利]压力缓冲器和衰减力产生机构-CN201480052483.8有效
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塚原贵
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株式会社昭和
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2014-08-29
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2017-06-20
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F16F9/46
- 本发明公开了一种液压缓冲器(1)，其包括包含油的气缸(10)；活塞部(30)；阀座(41)；使油根据活塞部在一个轴向上的位移从第一流体腔室(Y1)流到第二流体腔室(Y2)地在指定方向上流动的第二油道(412)；使油根据活塞部在另一个轴向上的位移从第二流体腔室(Y2)流到第一流体腔室(Y1)地在指定方向上流动的第一油道(411)和反向油道(41R)；打开和关闭第二油道(412)和第一油道(411)以便控制第二油道和第一油道中的油流的衰减阀(42)；和在某个方向上将负荷施加到衰减阀(42)以使得衰减阀关闭第二油道和第一油道并能够改变衰减阀的负荷的负荷施加装置。
- 压力缓冲器衰减产生机构
- [发明专利]测定方法和测定装置-CN201980017892.7有效
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宫田智矢
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雅马哈株式会社
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2019-02-06
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2022-11-08
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G01L1/10
- 不导致测定装置的昂贵而测定在测定对象中产生的振动和对测定对象施加的按压力两者。按压力产生单元(2)产生将压电片传感器1触压测定对象200的按压力。振动测定单元(33)通过压电片传感器(1)测定在测定对象200上产生的振动。按压力测定单元(31)测定通过压电片传感器(1)加在测定对象200上的按压力。按压力控制单元(32)基于按压力测定单元(31)的测定结果，控制按压力产生单元(2)产生的按压力。
- 测定方法装置
- [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201980008044.X在审
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菅川贤治;大森阳介
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东京毅力科创株式会社
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2019-01-09
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2020-08-21
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H01L21/02
- 基板处理装置具备：保持部，其在用于吸附基板的吸附面具有圆状的第1区域和配置在所述第1区域的径向外侧的圆环状的第2区域，来作为用于吸附所述基板的吸附压力被单独地控制的多个区域；吸附压力产生部，其具有多个，多个所述吸附压力产生部使构成所述吸附面的多个区域中的每个区域单独地产生吸附压力；吸附压力调整部，其具有多个，多个所述吸附压力调整部对由多个所述吸附压力产生部中的每个所述吸附压力产生部产生的吸附压力单独地调整；以及控制部，其控制多个所述吸附压力产生部和多个所述吸附压力调整部，所述控制部使所述第1区域的至少局部和所述第2区域的至少局部产生不同的所述吸附压力。
- 处理装置方法
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